CVD & PECVD Furnace
Изготовленная на заказ универсальная печь трубки CVD химическое осаждение паров CVD оборудование машина
Артикул : KT-CTF16
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Макс. температура
- 1600℃
- Точность контроля температуры
- ±1℃
- Вакуумное давление (опция высокого вакуума)
- 6x10-5Pa
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Передовая трубчатая CVD-печь KINTEK: точность, универсальность и индивидуальность
Используя исключительные научно-исследовательские разработки и собственное производство, компания KINTEK предоставляет разнообразным лабораториям и промышленным клиентам передовые решения для высокотемпературных печей. Наша обширная линейка продукции, включающая муфельные, трубчатые, ротационные печи, вакуумные и атмосферные печи, а также специализированные системы CVD/PECVD/MPCVD, подкрепляется нашими мощными возможностями по индивидуальному заказу. Мы стремимся точно удовлетворить ваши уникальные экспериментальные и производственные требования.
Обзор продукции: Высокопроизводительная трубчатая CVD-печь
Трубчатая печь химического осаждения из паровой фазы (CVD) KINTEK тщательно разработана для процессов, требующих точного контроля над температурой, атмосферой и потоком газа. Она идеально подходит для осаждения высококачественных тонких пленок из различных материалов, включая изоляционные, металлические и сплавы металлов, что имеет решающее значение для научных исследований и промышленных применений. Наши CVD-печи обычно оснащены несколькими зонами нагрева для обеспечения равномерной температуры, надежными вакуумными системами и сложными станциями контроля массового расхода газа для точной подачи прекурсоров. В зависимости от конфигурации, эти системы могут достигать температуры до 1600°C (как в нашей модели KT-CTF16-60) и уровня вакуума до 6x10 -5 Па при использовании опций высокого вакуума.
Ключевые преимущества и особенности
Наши трубчатые печи CVD разработаны для обеспечения исключительной производительности и надежности ваших критически важных процессов:
- Точный контроль и равномерность температуры: Многозонный нагрев (например, 3x300 мм в KT-CTF16-60) и современные ПИД-контроллеры (точность ±1°C) обеспечивают стабильные и равномерные температурные профили, необходимые для стабильного качества пленки.
- Универсальный высокотемпературный режим работы: Возможность достижения высоких температур (например, до 1600°C, постоянная рабочая температура 1550°C для модели KT-CTF16-60), что подходит для широкого спектра CVD-процессов и синтеза материалов.
- Усовершенствованное управление газом: Многоканальные системы контроллеров массового расхода (MFC) обеспечивают точное смешивание и подачу реакционных газов с высокой линейностью (±0,5% F.S.) и повторяемостью (±0,2% F.S.).
- Гибкие возможности работы с вакуумом и атмосферой: Системы могут быть настроены на различные уровни вакуума, от стандартных пластинчато-роторных насосов (например, 10 Па) до высоковакуумных молекулярных насосных станций (например, 6x10 -5 Па), или работать в контролируемой инертной/реактивной атмосфере.
- Прочная конструкция: Используются высокочистые печные трубки (например, Al 2 O 3 ) и качественные материалы камеры (например, поликристаллическое волокно Alumina) обеспечивают долговечность и целостность процесса.
- Удобный интерфейс: Цифровые ПИД-регуляторы или ПИД-регуляторы с сенсорным экраном обеспечивают интуитивно понятное управление, регистрацию данных и простую настройку.
- Настраиваемый дизайн: Подстраивается под ваши конкретные потребности, от диаметра трубки и длины зоны нагрева до газовых каналов и вакуумных компонентов.
- Компактность и эффективность: Разработаны для экономии места без ущерба для производительности, что позволяет использовать их в различных лабораторных и промышленных условиях.
Технические характеристики (пример: модель KT-CTF16-60)
Ниже приведены технические характеристики нашей модели KT-CTF16-60. Обратите внимание, что технические характеристики могут быть изменены в соответствии с вашими требованиями.
| Модель печи | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| Макс. температура | 1600℃ |
| Постоянная рабочая температура | 1550℃ |
| Материал трубки печи | Высокая чистота Al2O3 трубки |
| Диаметр трубки печи | 60 мм |
| Зона нагрева | 3x300 мм |
| Материал камеры | Алюмооксидное поликристаллическое волокно |
| Нагревательный элемент | Карбид кремния |
| Скорость нагрева | 0-10℃/мин |
| Тепловая пара | тип S |
| Регулятор температуры | Цифровой ПИД-регулятор/ПИД-регулятор с сенсорным экраном |
| Точность регулирования температуры | ±1℃ |
| Газовый точный блок управления | |
| Расходомер | Массовый расходомер MFC |
| Газовые каналы | 3 канала (настраиваемые) |
| Расход (пример) |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCM CH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 (настраивается) |
| Линейность | ±0,5% F.S. |
| Повторяемость | ±0,2% F.S. |
| Трубопровод и клапан | Нержавеющая сталь |
| Максимальное рабочее давление | 0,45 МПа |
| Контроллер расходомера | Контроллер с цифровой ручкой/контроллер с сенсорным экраном |
| Стандартный вакуумный блок (опция) | |
| Вакуумный насос | Пластинчато-роторный вакуумный насос |
| Расход насоса | 4L/S |
| Вакуумный порт всасывания | KF25 |
| Вакуумметр | Кремниевый вакуумметр Пирани/Резистанс |
| Номинальное вакуумное давление | 10Па |
| Высоковакуумный блок (опция) | |
| Вакуумный насос | Пластинчато-роторный насос+молекулярный насос |
| Расход насоса | 4L/S+110L/S |
| Порт всасывания вакуума | KF25 |
| Вакуумметр | Комбинированный вакуумметр |
| Номинальное вакуумное давление | 6x10-5Pa |
| Вышеуказанные характеристики и настройки могут быть выполнены по индивидуальному заказу | |
Настраиваемые конфигурации CVD-систем
Компания KINTEK специализируется на адаптации наших печных CVD-систем к вашим точным исследовательским или производственным потребностям. Ознакомьтесь с некоторыми примерами наших универсальных и настраиваемых установок:
Принцип работы
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это универсальный метод осаждения тонких пленок, при котором твердый материал образуется на нагретой подложке из газообразных реактивов. В трубчатой печи KINTEK CVD подложка помещается в трубку высокой чистоты (обычно кварцевую или глиноземную) и нагревается до точно контролируемой температуры. Тщательно дозированная смесь газов-прекурсоров вводится в трубку через систему контроля массового расхода. Эти газы вступают в реакцию или разлагаются на поверхности горячей подложки или вблизи нее, что приводит к осаждению желаемой тонкой пленки. Основные эксплуатационные аспекты включают:
- Высокотемпературная среда: Печь создает стабильную высокотемпературную зону, необходимую для протекания химических реакций.
- Контролируемый поток газа: Контроллеры массового расхода (MFC) обеспечивают точную и повторяющуюся подачу газов-прекурсоров и носителей.
- Вакуум или контролируемая атмосфера: Вакуумная система удаляет нежелательные загрязнения и побочные продукты, или может поддерживаться контролируемая атмосфера (инертная или реактивная) для влияния на химию осаждения. Некоторые системы могут использовать радиочастотный (RF) тлеющий разряд или другие методы усиления плазмы для более низкотемпературного осаждения или более высокой скорости осаждения.
- Равномерный рост пленки: Тщательная разработка зон нагрева и динамики газового потока способствует равномерной толщине и составу пленки на подложке.
Этот процесс широко используется при производстве полупроводников, солнечных батарей, защитных покрытий, наноматериалов и других современных электронных и оптических устройств.
Широкий спектр применения
Многозональные трубчатые CVD-печи KINTEK являются незаменимыми инструментами в различных исследовательских и промышленных отраслях:
- Синтез наноматериалов: Идеально подходит для выращивания нанопроводов, нанотрубок (например, углеродных нанотрубок) и подготовки нанопленок для разработки передовых материалов.
- Передовые технологии нанесения покрытий: Широко используются для нанесения металлических, керамических (оксиды, нитриды, карбиды) и композитных пленок для улучшения свойств поверхности, таких как твердость, коррозионная стойкость или проводимость.
- Полупроводники и электроника: Необходим для осаждения изолирующих, полупроводящих и проводящих слоев при изготовлении интегральных схем, датчиков и других электронных компонентов.
- Обработка материалов для аккумуляторов: Подходит для сушки, спекания и модификации поверхности материалов аккумуляторов для высокопроизводительных устройств хранения энергии.
- Высокотемпературное спекание и отжиг: Используется для высокотемпературного спекания в атмосфере, восстановления в атмосфере и отжига для уплотнения материалов и улучшения свойств.
- Вакуумные и атмосферные покрытия: Возможность работы в высоком вакууме делает установку идеальной для применения в тех случаях, когда чистота и качество покрытия имеют первостепенное значение.
- Исследования и разработки: Широко используется в университетах и научно-исследовательских институтах для фундаментальных исследований в области материаловедения, включая эксперименты по CVD/CVI (химическая инфильтрация паров).
- Процессы с расширением плазмы: Может быть адаптирован для CVD с плазменным усилением (PECVD), плазменной очистки и травления, что расширяет его функциональную универсальность.
Стандартная комплектация (пример для KT-CTF16-60)
| Нет. | Описание | Количество |
|---|---|---|
| 1 | Корпус печи с регулятором температуры | 1 |
| 2 | Высокочистый глинозем или кварцевая трубка (согласно заказу) | 1 |
| 3 | Вакуумные уплотнительные фланцы с портами | 2 комплекта |
| 4 | Тепловые блоки/заглушки для трубок | 2 |
| 5 | Крючок для термоблока трубки | 1 |
| 6 | Термостойкие перчатки | 1 пара |
| 7 | Точный блок управления газом (МФЦ согласно заказу) | 1 комплект |
| 8 | Вакуумный блок (насос и манометр по заказу) | 1 комплект |
| 9 | Руководство по эксплуатации | 1 |
Дополнительные установки и настройки
Усовершенствуйте свою систему CVD с помощью ряда дополнительных функций для удовлетворения конкретных экспериментальных потребностей:
- Системы обнаружения и мониторинга газов в трубке (например, для H2, O2 и т.д.).
- Независимые модули контроля температуры в печи и регистрации данных.
- Порт связи RS 485 для дистанционного управления и экспорта данных с ПК.
- Различные варианты управления расходом подаваемого газа, включая различные диапазоны для массовых и поплавковых расходомеров.
- Усовершенствованные терморегуляторы с сенсорным экраном и универсальными, удобными для оператора функциями (например, программируемыми темпами, регистрацией данных).
- Модернизированные насосные станции высокого вакуума, включающие такие опции, как лопастные вакуумные насосы, молекулярные насосы или диффузионные насосы.
- Системы подачи жидких и твердых прекурсоров (например, барботеры, испарители).
- Системы очистки отработанных газов.
Сотрудничество с KINTEK для решения задач в области CVD
Готовы повысить уровень ваших исследований или промышленных процессов с помощью современной трубчатой печи CVD? Команда KINTEK готова предоставить вам систему, которая идеально соответствует вашим требованиям, опираясь на наш опыт в области высокотемпературных технологий и индивидуального подхода.
Свяжитесь с нами сегодня чтобы обсудить ваши конкретные потребности, изучить возможности настройки или запросить подробное коммерческое предложение. Позвольте нам помочь вам достичь непревзойденных результатов в ваших начинаниях по осаждению материалов.
FAQ
Что такое трубчатая печь и как она работает?
Каковы основные области применения многозонных трубчатых печей?
В чем заключается принцип работы установки CVD?
Что такое вертикальная трубчатая печь?
Что такое вакуумная индукционная печь?
Каковы основные области применения вакуумных печей?
Для чего используется установка PECVD?
Для чего используется атмосферная печь?
Каковы основные области применения трубчатых печей?
Каковы ключевые особенности многозонных трубчатых печей?
В чем преимущества использования CVD-установки?
Для каких целей используется вертикальная трубчатая печь?
Каковы основные области применения вакуумных индукционных печей?
Каковы основные характеристики вакуумной печи?
Каковы основные типы установок PECVD?
Каковы ключевые особенности атмосферных печей?
Каковы преимущества использования трубчатых печей?
Как работает многозонная трубчатая печь?
Для каких целей используется CVD-установка?
В чем преимущества вертикальных трубчатых печей?
Как работает вакуумная индукционная печь?
Как работает вакуумная печь?
Как работает установка PECVD?
Как работает атмосферная печь?
Какие типы трубчатых печей существуют?
Каковы преимущества использования многозонной трубчатой печи?
Каковы основные характеристики установки CVD?
Как работает вертикальная трубчатая печь?
Каковы преимущества использования вакуумной индукционной печи?
Каковы преимущества использования вакуумной печи?
Каковы основные характеристики установки PECVD?
Каковы преимущества использования атмосферной печи?
Каких температурных диапазонов могут достигать трубчатые печи?
Какие типы многозонных трубчатых печей существуют?
Какие типы CVD-установок существуют?
Какие типы вертикальных трубчатых печей доступны?
Какие типы вакуумных индукционных печей существуют?
Какие типы материалов можно обрабатывать в вакуумной печи?
Каковы преимущества использования установки PECVD?
Какие типы газов могут использоваться в атмосферных печах?
Могут ли трубчатые печи работать в разных атмосферах?
Почему стоит выбрать вертикальную трубчатую печь, а не горизонтальную?
Почему контроль температуры важен для вакуумных индукционных печей?
В чем разница между вакуумными печами с горячими и холодными стенками?
Какие материалы можно осаждать с помощью установки PECVD?
Какие функции безопасности предусмотрены в современных атмосферных печах?
Что делает трубчатые печи KINTEK особенными?
Какие температурные диапазоны могут достигать вертикальные трубчатые печи?
Какие материалы можно обрабатывать в вакуумной индукционной печи?
Можно ли настроить вакуумные печи под конкретные задачи?
Почему PECVD предпочтительнее других методов осаждения?
Можно ли настроить вертикальные трубчатые печи?
Какую пользу приносит вакуумная среда при обработке материалов?
4.9
out of
5
Incredible precision and durability! This CVD furnace exceeded all expectations. Worth every penny!
4.8
out of
5
Fast delivery and top-notch quality. The machine works flawlessly—highly recommend!
4.7
out of
5
A game-changer for our lab! The versatility and performance are unmatched.
4.9
out of
5
Exceptional craftsmanship and advanced technology. Perfect for high-precision tasks.
4.8
out of
5
Superb value for money. The machine is robust and delivers consistent results.
4.7
out of
5
Impressive speed and efficiency. This CVD furnace is a must-have for any serious researcher.
4.9
out of
5
Outstanding performance! The custom features make it stand out from the competition.
4.8
out of
5
Reliable and high-quality. The machine arrived sooner than expected—very pleased!
4.7
out of
5
Perfect for our research needs. The CVD furnace is both powerful and user-friendly.
4.9
out of
5
Top-tier technology at an affordable price. Couldn’t be happier with this purchase!
4.8
out of
5
The machine is a beast! Handles everything we throw at it with ease.
4.7
out of
5
Fantastic investment. The CVD furnace has significantly boosted our productivity.
4.9
out of
5
Absolutely love it! The build quality and performance are second to none.
4.8
out of
5
Quick setup and flawless operation. This machine is a dream come true for our team.
4.7
out of
5
Highly efficient and reliable. The CVD furnace has transformed our workflow.
4.9
out of
5
Exceptional value and performance. This machine is a true workhorse.
4.8
out of
5
The best CVD furnace we’ve used. Delivers consistent, high-quality results every time.
4.7
out of
5
Impressive build and advanced features. A fantastic addition to our lab.
4.9
out of
5
Worth every cent! The machine is durable, efficient, and incredibly versatile.
4.8
out of
5
Fast shipping and excellent customer service. The CVD furnace is a masterpiece!
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины
Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией - высокоточная лабораторная печь с температурой 1200°C для исследования современных материалов. Доступны индивидуальные решения.
Многозональные трубчатые CVD-печи KINTEK обеспечивают точный контроль температуры для современного осаждения тонких пленок. Идеально подходят для исследований и производства, настраиваются под нужды вашей лаборатории.
Вращающаяся трубчатая печь с несколькими зонами нагрева
Прецизионная ротационная трубчатая печь с несколькими зонами нагрева для высокотемпературной обработки материалов, с регулируемым наклоном, вращением на 360° и настраиваемыми зонами нагрева. Идеально подходит для лабораторий.
Лабораторная вакуумная наклонная вращающаяся трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь
Лабораторная ротационная печь KINTEK: прецизионный нагрев для прокаливания, сушки, спекания. Индивидуальные решения с вакуумом и контролируемой атмосферой. Расширьте возможности исследований прямо сейчас!
Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace
Трубчатая печь быстрого нагрева RTP компании KINTEK обеспечивает точный контроль температуры, быстрый нагрев до 100°C/сек и разнообразные варианты атмосферы для передовых лабораторных применений.
Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь
Трубчатая печь высокого давления KINTEK: прецизионный нагрев до 1100°C с контролем давления 15 МПа. Идеально подходит для спекания, выращивания кристаллов и лабораторных исследований. Возможны индивидуальные решения.
Вакуумная печь горячего прессования машина нагретая вакуумная печь трубки прессования
Откройте для себя передовую вакуумную печь горячего прессования KINTEK для точного высокотемпературного спекания, горячего прессования и склеивания материалов. Индивидуальные решения для лабораторий.
1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой
Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионный нагрев до 1700°C для синтеза материалов, CVD и спекания. Компактная, настраиваемая и готовая к работе в вакууме. Узнайте прямо сейчас!
Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина
Трубчатая печь KINTEK Slide PECVD: прецизионное осаждение тонких пленок с помощью радиочастотной плазмы, быстрая термоциклическая обработка и настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для полупроводников и солнечных батарей.
Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения
Установка KINTEK для нанесения покрытий методом PECVD обеспечивает прецизионные тонкие пленки при низких температурах для светодиодов, солнечных батарей и МЭМС. Настраиваемые, высокопроизводительные решения.
1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой
Откройте для себя печь KINTEK с разъемной трубкой 1200℃ с кварцевой трубкой для точных высокотемпературных лабораторных применений. Настраиваемая, долговечная и эффективная. Приобретайте прямо сейчас!
Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения
Передовая трубчатая печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Равномерный нагрев, источник ВЧ-плазмы, настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для исследований полупроводников.
Вращающаяся трубчатая печь с вакуумным уплотнением непрерывного действия
Прецизионная ротационная трубчатая печь для непрерывной вакуумной обработки. Идеально подходит для прокаливания, спекания и термообработки. Настраиваемая температура до 1600℃.
Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы
Система KINTEK RF PECVD: Прецизионное осаждение тонких пленок для полупроводников, оптики и МЭМС. Автоматизированный низкотемпературный процесс с превосходным качеством пленки. Возможны индивидуальные решения.
Система установки с цилиндрическим резонатором MPCVD для выращивания алмазов в лаборатории
Системы MPCVD от KINTEK: Выращивайте высококачественные алмазные пленки с высокой точностью. Надежные, энергоэффективные и удобные для начинающих. Экспертная поддержка.
Искровое плазменное спекание SPS-печь
Откройте для себя передовую печь для искрового плазменного спекания (SPS) компании KINTEK для быстрой и точной обработки материалов. Настраиваемые решения для исследований и производства.
915MHz MPCVD алмаз машина микроволновая плазмы химического осаждения пара система реактор
Алмазная MPCVD-машина KINTEK: Высококачественный синтез алмазов с помощью передовой MPCVD-технологии. Ускоренный рост, превосходная чистота, настраиваемые опции. Увеличьте производство прямо сейчас!
Высокоэффективные вакуумные сильфоны для эффективного соединения и стабильного вакуума в системах
Смотровое окно KF для сверхвысокого вакуума с высокопрочным боросиликатным стеклом для четкого просмотра в сложных условиях 10^-9 Торр. Прочный фланец из нержавеющей стали 304.
Оборудование системы машины HFCVD для нанесения наноалмазного покрытия
Система HFCVD компании KINTEK обеспечивает высококачественные наноалмазные покрытия для проволочно-вытяжных штампов, повышая их долговечность за счет превосходной твердости и износостойкости. Узнайте о прецизионных решениях прямо сейчас!