Продукты High Temperature Furnaces CVD & PECVD Furnace Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения
Категории
Категории

Мгновенная Поддержка

Выберите способ связи с нашей командой

Время Ответа

В течение 8 часов в рабочие дни, 24 часа в праздники

Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения

CVD & PECVD Furnace

Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Артикул : KT-PE16

Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки

Макс. температура
1600℃
Выходная мощность радиочастотной плазмы
5 -500 Вт регулируемая с ± 1% стабильности
Номинальное вакуумное давление
10 Па (стандарт), 6x10-5 Па (высокий вакуум опционально)
ISO & CE icon

Доставка:

Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Цена

WhatsApp Цена

Наклонная ротационная трубчатая печь для химического осаждения с расширенной плазмой (PECVD)

Наклонная вращающаяся печь для химического осаждения с усиленной плазмой (PECVD) - это сложная система, предназначенная для исследования и производства современных материалов. В ней используется вращающаяся печная труба и генератор плазмы, вызывающий химические реакции в газообразном разряде, что позволяет формировать высококачественные твердые отложения на различных материалах. Такой точный контроль над процессом осаждения делает его бесценным для самых современных приложений.

Ключевые особенности и преимущества для ваших исследований

Наша трубчатая печь PECVD разработана для обеспечения точности, эффективности и универсальности в вашей лаборатории:

  • Повышенное качество осаждения:
    • Равномерное смешивание и нагрев: Вращающаяся труба печи с переменным диаметром и перегородкой для смешивания обеспечивает тщательное перемешивание материала и равномерное распределение температуры, что приводит к равномерному и высококачественному осаждению.
    • Универсальный источник плазмы: Источник радиочастотной плазмы (5-500 Вт, автоматическое согласование) обеспечивает стабильную и регулируемую мощность, увеличивая энергию активации, снижая температуру реакции и повышая общую эффективность процесса для индивидуального осаждения материалов.
  • Точный контроль процесса:
    • Точное управление температурой: Программируемый ПИД-регулятор температуры обеспечивает исключительную точность (±1℃) и стабильность, позволяя осуществлять точные циклы нагрева и охлаждения, необходимые для достижения оптимальных свойств материала. Поддерживается дистанционное и централизованное управление.
    • Контролируемая газовая среда: Высокоточные массовые расходомеры MFC (до 4 каналов) и устройство смешивания газов позволяют точно контролировать состав и расход газа, что крайне важно для оптимизации процессов осаждения для конкретных материалов и приложений.
    • Эффективная вакуумная система: Оснащена высокопроизводительным механическим насосом для быстрого вакуумирования трубы печи. Опционально можно заказать установки высокого вакуума (например, до 6x10 -5 Па с молекулярным насосом) доступны для сложных процессов.
  • Удобное управление и долговечность:
    • Интуитивно понятный интерфейс: Контроллер CTF Pro с 7-дюймовым сенсорным TFT-экраном обеспечивает удобную настройку программ, мониторинг данных в реальном времени, анализ исторических данных и возможность дистанционного управления, что упрощает работу.
    • Быстрая обработка: Автоматизированная система скольжения камеры печи обеспечивает быстрый нагрев и охлаждение, минимизируя время обработки и повышая производительность. Имеются дополнительные функции быстрого охлаждения и автоматического раздвижения.
    • Прочная конструкция: Вакуумный фланец из нержавеющей стали с адаптируемыми портами обеспечивает надежную герметизацию и высокий уровень вакуума для создания первозданной среды осаждения. Спроектирован для обеспечения максимальной производительности, низкого уровня технического обслуживания, простоты установки и длительного срока службы.

Технические характеристики

Модель печи PE-1600-60
Макс. температура 1600℃
Постоянная рабочая температура 1550℃
Материал трубки печи Высокая чистота Al2O3 трубки
Диаметр трубки печи 60 мм
Длина зоны нагрева 2х300 мм
Материал камеры Японское глиноземное волокно
Нагревательный элемент Дисилицид молибдена
Скорость нагрева 0-10℃/мин
Тепловая пара тип B
Регулятор температуры Цифровой ПИД-регулятор/ПИД-регулятор с сенсорным экраном
Точность регулирования температуры ±1℃
RF плазменный блок
Выходная мощность 5 -500 Вт регулируемый с ± 1% стабильности
Частота радиочастот 13,56 МГц ±0,005% стабильности
Мощность отражения 350 Вт макс.
Согласование Автоматическое
Шум <50 дБ
Охлаждение Воздушное охлаждение.
Блок точного контроля газа
Расходомер Массовый расходомер MFC
Газовые каналы 4 канала
Расход MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0- 100SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2
Линейность ±0,5% F.S.
Повторяемость ±0,2% F.S.
Трубопровод и клапан Нержавеющая сталь
Максимальное рабочее давление 0,45 МПа
Контроллер расходомера Цифровой регулятор/контроллер с сенсорным экраном
Стандартный вакуумный блок (опция)
Вакуумный насос Пластинчато-роторный вакуумный насос
Расход насоса 4L/S
Вакуумный порт всасывания KF25
Вакуумметр Кремниевый вакуумметр Пирани/Резистанс
Номинальное вакуумное давление 10Па
Установка высокого вакуума (опция)
Вакуумный насос Пластинчато-роторный насос+молекулярный насос
Расход насоса 4L/S+110L/S
Порт всасывания вакуума KF25
Вакуумметр Комбинированный вакуумметр
Номинальное вакуумное давление 6x10-5Pa
Вышеуказанные спецификации и комплектации могут быть изготовлены на заказ

Области применения

Точность и универсальность нашей трубчатой печи PECVD делают ее идеальной для широкого спектра применений, способствуя инновациям в таких областях, как:

  • Производство полупроводников: Осаждение тонких пленок, таких как нитрид кремния, диоксид кремния и поликремний, на пластины.
  • Производство солнечных элементов: Создание тонких пленок, таких как теллурид кадмия и селенид меди-индия-галлия.
  • Технология плоских дисплеев: Осаждение таких материалов, как оксид индия-олова и оксид цинка.
  • Оптические покрытия: Нанесение тонких пленок диоксида титана и нитрида кремния на оптические компоненты.
  • Производство медицинского оборудования: Покрытие медицинских устройств биосовместимыми или функциональными тонкими пленками, такими как гидроксиапатит и нитрид титана.

Принцип работы

Наклонная ротационная печь для химического осаждения с усиленной плазмой (PECVD) работает как ротационная система химического осаждения из паровой фазы с усиленной плазмой. Труба печи имеет переменный диаметр и оснащена перегородкой для перемешивания, что обеспечивает равномерный нагрев и эффективное перемешивание материалов. Индуктивно-связанный генератор плазмы покрывает печную трубу, обеспечивая повышенную энергию активации, что позволяет снизить температуру реакции и повысить эффективность. В оборудовании используется трехходовой массовый расходомер и устройство смешивания газа для точного контроля газа. Кроме того, высокопроизводительный механический насос обеспечивает быстрое удаление воздуха из трубы печи, создавая вакуумную среду, подходящую для различных процессов CVD.

Особенности безопасности

Безопасность имеет первостепенное значение в нашей конструкции. Трубчатая печь KINTEK оснащена многочисленными механизмами безопасности:

  • Защита от перегрузки по току и сигнализация о превышении температуры, которые автоматически отключают питание при превышении предельных значений.
  • Встроенная функция обнаружения обрыва термопары; печь прекращает нагрев и подает сигнал тревоги при обнаружении обрыва.
  • Контроллер PE Pro поддерживает функцию перезапуска при отключении питания, что позволяет печи возобновить программу нагрева после восстановления питания.

Стандартная комплектация

Нет. Описание Количество
1 Печь 1
2 Кварцевая трубка 1
3 Вакуумный фланец 2
4 Тепловой блок трубки 2
5 Крючок трубчатого термоблока 1
6 Термостойкая перчатка 1
7 Источник радиочастотной плазмы 1
8 Точный контроль газа 1
9 Вакуумный блок 1
10 Руководство по эксплуатации 1

Дополнительные установки и персонализация

Приспособите систему PECVD к вашим конкретным исследовательским потребностям с помощью ряда дополнительных установок:

  • Обнаружение и мониторинг газов в трубке (например, H2, O2).
  • Независимый контроль и регистрация температуры в печи.
  • Порт связи RS 485 для дистанционного управления и экспорта данных на ПК.
  • Контроль расхода подаваемого газа (например, с помощью массового или поплавкового расходомера).
  • Современный контроллер температуры с сенсорным экраном и универсальными, удобными для оператора функциями.
  • Конфигурации насосных станций высокого вакуума (например, лопастной вакуумный насос, молекулярный насос, диффузионный насос).

Ваш партнер в передовом материаловедении

Используя исключительные научно-исследовательские разработки и собственное производство, компания KINTEK предоставляет разнообразным лабораториям передовые решения для высокотемпературных печей. Наша линейка продукции, включающая муфельные, трубчатые, ротационные печи, вакуумные и атмосферные печи, а также системы CVD/PECVD/MPCVD, дополняется широкими возможностями по индивидуальному заказу для точного удовлетворения ваших уникальных экспериментальных требований.

Готовы ли вы повысить уровень своих исследований с помощью наклонной ротационной трубчатой печи PECVD? Наши специалисты готовы обсудить ваше конкретное применение, рассмотреть варианты настройки или предоставить подробное коммерческое предложение. Свяжитесь с нами сегодня чтобы узнать больше!

FAQ

Каковы основные области применения ротационных трубчатых печей?

Ротационные трубчатые печи широко используются в порошковой металлургии, смешивании материалов и химических реакциях, где необходимы равномерный нагрев и непрерывное перемешивание. Они особенно эффективны для обработки гранулированных или порошкообразных материалов.

Что такое трубчатая печь и как она работает?

Трубчатая печь - это нагревательное устройство, которое генерирует тепло через источник тепла и передает его заготовке или среде через печную трубу. Она обеспечивает стабильный и равномерный нагрев, подходящий для различных промышленных применений. Система контроля температуры отслеживает температуру в печи с помощью термопар или других датчиков, передавая сигнал обратно в контроллер, который регулирует мощность нагревательных элементов для поддержания точного температурного режима.

В чем заключается принцип работы ротационной печи?

Ротационная печь представляет собой вращающийся вокруг своей оси цилиндр, слегка наклоненный для облегчения перемещения шихты от одного конца к другому. Такая конструкция способствует перемешиванию и равномерному нагреву. Тепло обычно подается горячими газами, текущими в направлении, противоположном потоку материала.

Для чего используется установка PECVD?

Установка PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) широко используется при обработке кремния и других подобных материалов, в нанотехнологиях, производстве солнечных батарей и электронике. Она имеет решающее значение для осаждения тонких пленок в солнечных батареях и создания высококачественных компонентов для электронных устройств. Области применения включают изготовление электронных устройств (изоляция проводящих слоев, конденсаторов, пассивация поверхности), полупроводниковых приборов, печатаемой электроники и защиты медицинских приборов.

Для чего используется вращающаяся печь?

Вращающаяся печь используется для различных процессов, включая науглероживание (добавление углерода к металлическим поверхностям), азотирование (добавление азота к металлическим поверхностям), спекание, отжиг и другие виды современной обработки материалов. Она также используется в таких областях, как пиролиз биомассы, регенерация активированного угля и точное осаждение тонких пленок в исследованиях полупроводников.

В чем заключается принцип работы установки CVD?

Принцип химического осаждения из паровой фазы (CVD) заключается во введении паров газообразных или жидких реактивов, содержащих элементы пленки и другие необходимые газы, в реакционную камеру. Под воздействием энергии в виде повышенной температуры, плазменного воздействия, светового излучения или других средств на поверхности подложки происходят химические реакции, в результате которых образуются новые твердые вещества, которые осаждаются в виде тонких пленок. Принцип работы CVD-печи заключается во введении газов-прекурсоров в камеру печи, где под воздействием высоких температур эти газы вступают в реакцию или разлагаются у поверхности подложки. Нужный материал осаждается на подложке в виде твердой пленки, а побочные продукты и неиспользованные газы удаляются через вытяжную или вакуумную систему.

В чем заключается принцип работы установки MPCVD?

Установка MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) работает за счет использования микроволнового генератора для получения плазмы путем ионизации газовой смеси. Эта плазма помещается в реакционную камеру под низким давлением, где подложка удерживается держателем подложки. Основные компоненты включают в себя микроволновый генератор, плазменную камеру, систему подачи газа, держатель подложки и вакуумную систему.

Каковы основные области применения многозонных трубчатых печей?

Многозонные трубчатые печи используются в различных коммерческих и исследовательских областях, включая производство полупроводников и аккумуляторов, изготовление термопар и кабелей с минеральной изоляцией, вакуумную пайку и термообработку, вакуумное отверждение и спекание, испытания воды/отходов/почвы, аэрокосмические испытания керамики и металлов, анализ нефти и газа, твердооксидные топливные элементы и производство полимерных композитов/графена. Они также используются для термообработки металлов (закалка, отпуск, отжиг), предварительного нагрева для сварки, спекания керамики/порошковой металлургии, обработки покрытий и экспериментов по исследованию материалов.

Каковы основные характеристики вращающейся трубчатой печи?

Ротационная трубчатая печь оснащена вращающимся механизмом, который обеспечивает равномерное распределение тепла и тщательное перемешивание образцов. Она предназначена для непрерывной обработки и может вмещать различные объемы образцов. Печь обычно включает в себя несколько зон нагрева, вращающуюся и наклоняющуюся печную трубу и может достигать температуры до 1200°C.

Каковы основные области применения трубчатых печей?

Трубчатые печи широко используются для испытаний на газовую закалку в вакууме или в атмосфере, для термообработки, включая синтез и очистку, окисление, диффузию, прокаливание и термический отжиг неорганических и органических соединений. Они также используются при испытаниях материалов, термической обработке и химических реакциях, где требуется контролируемая скорость нагрева и охлаждения. Вертикальные трубчатые печи особенно подходят для процессов, в которых образцы необходимо опускать в печь сверху.

Каковы преимущества использования ротационной печи?

Ротационные печи обладают рядом преимуществ, включая высокую степень использования энергии, гибкость при работе с различными исходными материалами, возможность работы с печами периодического действия, высокую производительность, повышенное извлечение свинца, экологическую чистоту и удобство эксплуатации с меньшими затратами рабочей силы.

Каковы основные типы установок PECVD?

Установки PECVD бывают различных типов, включая установки с наклонной вращающейся плазмой для химического осаждения в трубчатых печах PECVD, трубчатые печи CVD с разделенной камерой и вакуумными станциями, системы RF PECVD и установки MPCVD с цилиндрическим резонатором. Каждый тип предназначен для решения конкретных задач, таких как исследование полупроводников, осаждение тонких пленок и выращивание алмазов в лабораторных условиях.

Какие существуют основные типы вращающихся печей?

К основным типам вращающихся печей относятся электрические вращающиеся печи для пиролиза и кальцинирования, вакуумные герметичные вращающиеся трубчатые печи для непрерывной обработки, лабораторные вакуумные наклонные вращающиеся трубчатые печи, вращающиеся трубчатые печи с несколькими зонами нагрева и наклонные вращающиеся трубчатые печи для химического осаждения с усилением плазмы (PECVD). Каждый тип разработан для конкретных применений и температурных требований.

В чем преимущества использования CVD-установки?

CVD обеспечивает высокую чистоту, однородность и конформность, что делает его пригодным для нанесения покрытий сложной геометрии. Он используется в таких отраслях, как полупроводниковая, аэрокосмическая и биомедицинская. В отличие от PVD, CVD не ограничивается нанесением в прямой видимости, а покрытие сцепляется с поверхностью в процессе реакции, создавая превосходную адгезию.

В чем преимущества использования MPCVD-установки?

Установки MPCVD обладают рядом преимуществ: они исключают загрязнение от горячих проводов (неполярный разряд), позволяют использовать несколько газов, обеспечивают стабильный контроль температуры реакции, позволяют получать плазму стабильного разряда большой площади, а также обеспечивают точный контроль толщины пленки, чистоты и качества кристаллов. Кроме того, они позволяют получать алмазные пленки большой площади, обеспечивают стабильные условия, поддерживают постоянное качество образцов и являются экономически эффективными.

Каковы ключевые особенности многозонных трубчатых печей?

Основные характеристики: 1) гибкие возможности отжига и химического осаждения паров, 2) размещение образцов размером до 60 мм (2 дюйма), 3) встроенный коллектор для удобной подачи газа, 4) естественные температурные градиенты с более холодными концами и равномерным нагревом в центре, 5) возможность адаптации к различным газам или условиям вакуума, 6) несколько независимо управляемых зон нагрева для точного температурного профиля.

Как работает ротационная трубчатая печь?

Ротационные трубчатые печи работают по принципу косвенного обжига, когда тепло передается от источника тепла к материалам через вращающуюся трубу. В них используется непрерывная тепловая система с несколькими зонами контроля для обеспечения равномерного нагрева. В рабочей части печи сжигается пылевидное, твердое, газообразное или жидкое топливо, в результате чего образуются нагревательные газы, которые направляются к образцу. Вращающийся барабан, футерованный огнеупорным материалом и установленный под углом, облегчает этот процесс.

Каковы преимущества использования трубчатых печей?

Трубчатые печи обладают рядом преимуществ, включая отработанную технологию, простую конструкцию печи, низкое энергопотребление, высокую тепловую эффективность, простоту эксплуатации и управления, возможность непрерывного производства, точный контроль температуры, равномерное распределение температуры и приспособленность к различным атмосферам. Они также обеспечивают более высокий выход продукции, высокую концентрацию продукта и возможность рекуперации большей части крекинг-газа и дымовых газов. Для крупномасштабного производства можно объединить несколько печей.

В чем заключаются ключевые особенности ротационной печи?

К ключевым особенностям ротационной печи относятся высокотемпературные возможности, многозонный контроль нагрева, настраиваемое вращение и управление процессом, универсальность атмосферы, а также интегрированные системы безопасности и контроля окружающей среды.

Как работает установка PECVD?

Установка PECVD работает за счет использования плазмы для усиления процесса химического осаждения из паровой фазы. Скорость осаждения и свойства пленки (например, толщина, твердость, коэффициент преломления) контролируются путем настройки таких параметров, как скорость потока газа, рабочая температура и условия плазмы. Плазма позволяет точно регулировать такие свойства материала, как плотность, чистота и шероховатость, что позволяет создавать высококачественные тонкие пленки при более низких температурах подложки.

Как работает вращающаяся печь?

Вращающаяся печь работает за счет вращения материала внутри печи для обеспечения равномерного распределения тепла. Механизм вращения помогает поддерживать постоянную радиальную температуру и точный контроль температуры, часто достигаемый с помощью электрического нагрева. Такая конструкция является энергоэффективной и подходит для процессов, требующих равномерной обработки материалов.

Для каких целей используется CVD-установка?

CVD используется в различных областях, включая производство полупроводниковых приборов (например, изолирующих слоев из нитрида кремния), оптических покрытий, защитных покрытий, а также передовых материалов, таких как графен и углеродные нанотрубки, которые обладают уникальными электрическими, тепловыми и механическими свойствами. Он также используется для нанесения конформных пленок и модификации поверхностей подложек, что невозможно осуществить традиционными методами. Области применения включают атомно-слоевое осаждение, интегральные схемы, фотоэлектрические устройства, износостойкие покрытия, полимерные покрытия со специальными свойствами, металлоорганические каркасы для газочувствительных устройств и мембранные покрытия для очистки воды.

Каковы основные области применения установок MPCVD?

MPCVD-установки в основном используются для синтеза алмазов высокой чистоты, выращенных в лабораторных условиях, включая алмазные пленки и другие современные материалы. Их применение распространяется на исследования полупроводников, оптику и MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) благодаря способности получать высококачественные однородные пленки с точным контролем.

Как работает многозонная трубчатая печь?

Многозонная трубчатая печь работает следующим образом: 1) генерации тепла с помощью нескольких независимо управляемых нагревательных элементов, 2) равномерной передачи этого тепла по трубе печи к заготовке, 3) создания точных температурных градиентов (для таких процессов, как выращивание CVD-пленок) или расширенных зон с постоянной температурой (когда в нескольких зонах устанавливается одинаковая температура), и 4) поддержания стабильных условий нагрева, подходящих для различных промышленных процессов.

В чем преимущества использования ротационной трубчатой печи?

Вращающаяся трубчатая печь обладает рядом преимуществ, в том числе равномерным распределением температуры благодаря вращению барабана, что предотвращает оседание образца и обеспечивает последовательную обработку. Она повышает эффективность теплопередачи, что позволяет ускорить процесс обработки и получить более равномерные результаты. Кроме того, его конструкция обеспечивает отличную эффективность теплопередачи и может быть настроена на несколько зон нагрева в соответствии с конкретными потребностями.

Какие типы трубчатых печей существуют?

Существуют различные типы трубчатых печей, включая лабораторные кварцевые печи, ротационные печи с несколькими зонами нагрева, многозонные трубчатые печи, высокотемпературные трубчатые печи (до 1700°C), трубчатые печи PECVD для осаждения тонких пленок, вакуумные трубчатые печи и вертикальные трубчатые печи. Они оснащены различными функциями, такими как быстрый нагрев, регулируемый наклон, поворот на 360°, настраиваемые зоны нагрева и готовность к вакууму для различных применений.

Для каких целей обычно используется ротационная печь?

Вращающиеся трубчатые печи особенно полезны в порошковой металлургии, смешивании материалов и химических реакциях, где необходимы равномерный нагрев и непрерывное перемешивание. Они также используются для обработки гранулированных или порошкообразных материалов, производства таких материалов, как глинозем и железорудные окатыши, а также в таких областях, как кальцинирование и окисление, где требуется непрерывная пропускная способность сыпучих материалов.

Каковы основные характеристики установки PECVD?

Основные характеристики установки PECVD включают универсальную базовую консоль с электронными подсистемами, технологическую камеру PECVD с портом откачки, нагреваемые верхний и нижний электроды, программное обеспечение для изменения параметров, а также газовую капсулу с газовыми линиями, контролируемыми по массовому расходу. Система обычно включает камеру, вакуумный насос (насосы) и систему распределения газа, конфигурация которой зависит от источника питания, типа газа и датчиков давления.

Каковы преимущества использования вращающихся печей?

К преимуществам вращающейся печи относятся равномерное распределение тепла для получения стабильных результатов, точный контроль температуры, энергоэффективность по сравнению с традиционными методами сжигания и гибкость в настройке процессов термообработки. Кроме того, вращающиеся печи экономически эффективны при небольших объемах производства и могут быть адаптированы к конкретным исследовательским или промышленным потребностям.

Каковы основные характеристики установки CVD?

Основные характеристики CVD-печи включают в себя высокую температуру (обычно от 200°C до более 1500°C), точный контроль расхода газа, контроль атмосферы (вакуум, атмосферное давление или среда низкого давления), равномерный нагрев для равномерного осаждения тонких пленок, а также эффективную систему вытяжки для удаления побочных продуктов и непрореагировавших газов. Основные характеристики процесса нанесения покрытий CVD включают нанесение при повышенных температурах для облегчения реакции, как правило, в вакууме. Перед нанесением покрытия с поверхности детали должны быть удалены загрязняющие вещества.

Каковы основные компоненты установки MPCVD?

Основные компоненты MPCVD-установки включают микроволновой генератор (для получения плазмы), реакционную камеру (для размещения подложки и газовой смеси под низким давлением), держатель подложки (для удержания подложки во время осаждения), систему подачи газа (для введения и контроля газовой смеси) и вакуумную систему (для поддержания необходимой среды низкого давления).

Каковы преимущества использования многозонной трубчатой печи?

К преимуществам относятся: 1) зрелая, надежная технология с простой конструкцией печи, 2) низкое энергопотребление при высокой тепловой эффективности, 3) простота эксплуатации и точное управление, 4) возможность непрерывного производства, 5) возможность создания протяженных равномерных зон нагрева или точных температурных градиентов, 6) более высокий выход продукции в химических процессах, 7) возможность рекуперации технологических газов, 8) Широкая применимость сырья, и 9) Масштабируемость за счет комбинирования печей для крупномасштабного производства.

Какой температуры может достичь ротационная трубчатая печь?

Ротационная трубчатая печь может достигать максимальной температуры 1200°C, что делает ее подходящей для высокотемпературных применений, таких как кальцинирование, спекание и термообработка.

Каких температурных диапазонов могут достигать трубчатые печи?

Трубчатые печи выпускаются в различных температурных диапазонах для решения различных задач. Стандартные модели обычно достигают температуры до 1200°C, а высокотемпературные модели могут достигать от 1400°C до 1700°C. Некоторые специализированные модели могут достигать даже 2000°C. Температурные возможности зависят от используемых нагревательных элементов и материалов печных труб (например, кварца или глинозема).

Как ротационная печь работает с различными материалами?

Вращающиеся и слегка наклоненные печи обеспечивают равномерный нагрев и перемешивание различных исходных материалов. Благодаря этому они подходят для широкого спектра материалов, включая гранулированные или порошкообразные вещества, и обеспечивают эффективную обработку в таких областях, как кальцинирование и окисление.

Каковы преимущества использования установки PECVD?

Установки PECVD обладают рядом преимуществ, включая высокую скорость осаждения (например, в 160 раз быстрее для нитрида кремния по сравнению с CVD), возможность создавать пленки с различными свойствами путем изменения параметров плазмы и состава газа, высококачественные и однородные по толщине пленки, хорошую адгезию, снижение риска растрескивания и пригодность для сложных поверхностей. Они также обеспечивают высокую устойчивость к растворителям и коррозии, химическую и термическую стабильность.

Какие меры безопасности предусмотрены во вращающихся печах?

Вращающиеся печи оснащены важными элементами безопасности, такими как защита от перегрева, механизмы аварийного отключения и четкие системы сигнализации. Эти функции обеспечивают безопасную работу и предотвращают несчастные случаи во время высокотемпературных процессов.

Какие типы CVD-установок существуют?

Существует несколько типов CVD-установок, включая установки с цилиндрическим резонатором MPCVD для выращивания алмазов в лабораторных условиях, универсальные CVD-печи для химического осаждения из паровой фазы, трубчатые печи Slide PECVD с газификаторами жидкости, вакуумные печи горячего прессования, наклонные роторные трубчатые печи для химического осаждения с расширенной плазмой (PECVD), трубчатые печи CVD с разделенной камерой и вакуумными станциями и системы RF PECVD для химического осаждения из паровой плазмы с расширенной радиочастотой. Каждый тип предназначен для решения конкретных задач и обладает уникальными характеристиками.

Как MPCVD-установка повышает энергоэффективность?

Установка MPCVD повышает энергоэффективность благодаря безэлектродному процессу, который снижает загрязнение и потери энергии. Микроволновая плазма генерируется с высокой эффективностью, а модульная и масштабируемая конструкция системы позволяет оптимизировать использование энергии в различных промышленных приложениях.

Какие типы многозонных трубчатых печей существуют?

Доступные типы включают: 1) вращающиеся трубчатые печи с несколькими зонами нагрева (с возможностью наклона и вращения), 2) лабораторные кварцевые трубчатые печи (до 1700°C с 1-10 зонами), 3) печи для быстрой термической обработки (RTP) с высокой скоростью нагрева, 4) трубчатые печи CVD для химического осаждения из паровой фазы, 5) печи PECVD для процессов с плазменным усилением, 6) вакуумные трубчатые печи и 7) трубчатые печи высокого давления. Они имеют различные конфигурации с настраиваемыми номерами зон, температурными диапазонами и специальными функциями, такими как контроль вакуума/атмосферы.

Какие типы материалов можно обрабатывать в ротационной трубчатой печи?

Ротационные трубчатые печи идеально подходят для обработки гранулированных или порошкообразных материалов. Они обычно используются в таких областях, как порошковая металлургия, смешивание материалов и химические реакции, где требуется равномерный нагрев и непрерывное перемешивание.

Могут ли трубчатые печи работать в разных атмосферах?

Да, трубчатые печи универсальны и могут работать в различных атмосферах, включая воздух, инертные газы (например, аргон или азот), вакуум и специальные газовые смеси. Это делает их пригодными для широкого спектра процессов, включая окисление, восстановление, отжиг и химическое осаждение из паровой фазы (CVD). Многие модели поставляются с вакуумными конструкциями и системами контроля газа для точного управления атмосферой.

Какие материалы можно осаждать с помощью установки PECVD?

На установках PECVD можно осаждать различные материалы, включая нитрид кремния (SiN) и карбид кремния (SiC), которые особенно полезны в полупроводниковых и высокотемпературных МЭМС-приложениях. Эти машины универсальны и могут использоваться для создания тонких пленок с индивидуальными свойствами для конкретных промышленных и исследовательских нужд.

Можно ли настроить вращающиеся печи под конкретные задачи?

Да, вращающиеся печи могут быть адаптированы к конкретным условиям применения. Они доступны в различных конфигурациях, включая различные зоны нагрева, регулируемые углы наклона и возможность вращения на 360°. Варианты настройки также включают вакуум и контролируемую атмосферу, чтобы удовлетворить точные потребности исследовательских или производственных сред.

Почему MPCVD предпочтительнее для выращивания алмазов?

MPCVD предпочтительнее для выращивания алмазов, поскольку обеспечивает высокую плотность заряженных частиц и реактивных видов, позволяет осаждать алмазные пленки большой площади при более низком давлении и обеспечивает лучшую однородность выращенных пленок. Эти особенности приводят к получению высококачественных алмазов высокой чистоты с точным контролем их свойств.

Что делает трубчатые печи KINTEK особенными?

Трубчатые печи KINTEK отличаются точностью температурного контроля (некоторые модели обеспечивают быстрый нагрев до 100°C/с), настраиваемыми зонами нагрева (от 1 до 10 зон), конструкциями, готовыми к вакууму, и сертификатами безопасности. Они предлагают универсальные решения для таких передовых приложений, как синтез материалов, CVD, спекание и исследования полупроводников, с возможностью установки поворотных механизмов, разъемных камер и конфигураций с плазменным усилением.

Почему PECVD предпочтительнее других методов осаждения?

PECVD предпочтительнее других методов осаждения, поскольку позволяет осаждать при более низких температурах подложки, обеспечивает хорошее покрытие ступеней и позволяет осаждать пленки с высокой равномерностью. Кроме того, этот метод обеспечивает превосходный контроль над такими свойствами материала, как коэффициент преломления, напряжение и твердость, что делает его идеальным для приложений, требующих точных характеристик тонких пленок.
Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

4.8

out of

5

This machine is a game-changer! The plasma enhancement works flawlessly, and the inclined rotary design is brilliant.

Elara Voss

4.7

out of

5

Incredible value for money. The quality is top-notch, and it arrived faster than expected. Highly recommend!

Rafael Mendoza

4.9

out of

5

The durability is impressive. We've used it daily for months with zero issues. A solid investment!

Sienna Khatri

4.8

out of

5

Cutting-edge technology at its finest. The PECVD process is so efficient, it’s like magic!

Nikolai Petrov

4.7

out of

5

Superb delivery speed and setup was a breeze. The machine performs beyond expectations.

Ananya Rao

4.9

out of

5

The precision and consistency are unmatched. This is what technological advancement looks like!

Lucien Dubois

4.8

out of

5

Worth every penny! The build quality is exceptional, and it’s incredibly user-friendly.

Zara Al-Mansoor

4.7

out of

5

Fast delivery and outstanding performance. This machine has revolutionized our lab’s workflow.

Hiroshi Tanaka

Продукты

Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения

PDF Формат Каталог
Скачать

Категория

Cvd & Pecvd Furnace

PDF Формат Каталог
Скачать

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Установка KINTEK для нанесения покрытий методом PECVD обеспечивает прецизионные тонкие пленки при низких температурах для светодиодов, солнечных батарей и МЭМС. Настраиваемые, высокопроизводительные решения.

Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина

Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина

Трубчатая печь KINTEK Slide PECVD: прецизионное осаждение тонких пленок с помощью радиочастотной плазмы, быстрая термоциклическая обработка и настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для полупроводников и солнечных батарей.

1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой

1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой

Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионный нагрев до 1700°C для синтеза материалов, CVD и спекания. Компактная, настраиваемая и готовая к работе в вакууме. Узнайте прямо сейчас!

1400℃ высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой и глиноземной трубкой

1400℃ высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой и глиноземной трубкой

Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионная высокотемпературная обработка до 2000°C для лабораторий. Идеально подходит для синтеза материалов, CVD и спекания. Доступны настраиваемые опции.

Электрическая роторная печь для регенерации активированного угля

Электрическая роторная печь для регенерации активированного угля

Электрическая печь для регенерации активированного угля от KINTEK: высокоэффективная, автоматизированная вращающаяся печь для устойчивого восстановления углерода. Минимизируйте отходы, максимизируйте экономию. Получите предложение!

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы

Система KINTEK RF PECVD: Прецизионное осаждение тонких пленок для полупроводников, оптики и МЭМС. Автоматизированный низкотемпературный процесс с превосходным качеством пленки. Возможны индивидуальные решения.

Электрическая вращающаяся печь Малая вращающаяся печь Пиролиз биомассы Завод Вращающаяся печь

Электрическая вращающаяся печь Малая вращающаяся печь Пиролиз биомассы Завод Вращающаяся печь

Роторная печь для пиролиза биомассы KINTEK эффективно преобразует биомассу в биосахар, биомасло и сингаз. Настраиваемая для исследований или производства. Получите свое решение прямо сейчас!

Вертикальная лабораторная кварцевая трубчатая печь трубчатая печь

Вертикальная лабораторная кварцевая трубчатая печь трубчатая печь

Прецизионная вертикальная трубчатая печь KINTEK: нагрев 1800℃, ПИД-регулирование, настраиваемая для лабораторий. Идеально подходит для CVD, роста кристаллов и тестирования материалов.

Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь

Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь

Трубчатая печь высокого давления KINTEK: прецизионный нагрев до 1100°C с контролем давления 15 МПа. Идеально подходит для спекания, выращивания кристаллов и лабораторных исследований. Возможны индивидуальные решения.

1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой

1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой

Откройте для себя печь KINTEK с разъемной трубкой 1200℃ с кварцевой трубкой для точных высокотемпературных лабораторных применений. Настраиваемая, долговечная и эффективная. Приобретайте прямо сейчас!

Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace

Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace

Трубчатая печь быстрого нагрева RTP компании KINTEK обеспечивает точный контроль температуры, быстрый нагрев до 100°C/сек и разнообразные варианты атмосферы для передовых лабораторных применений.

915MHz MPCVD алмаз машина микроволновая плазмы химического осаждения пара система реактор

915MHz MPCVD алмаз машина микроволновая плазмы химического осаждения пара система реактор

Алмазная MPCVD-машина KINTEK: Высококачественный синтез алмазов с помощью передовой MPCVD-технологии. Ускоренный рост, превосходная чистота, настраиваемые опции. Увеличьте производство прямо сейчас!

Вращающаяся трубчатая печь с вакуумным уплотнением непрерывного действия

Вращающаяся трубчатая печь с вакуумным уплотнением непрерывного действия

Прецизионная ротационная трубчатая печь для непрерывной вакуумной обработки. Идеально подходит для прокаливания, спекания и термообработки. Настраиваемая температура до 1600℃.

Дисилицид молибдена MoSi2 термические нагревательные элементы для электрической печи

Дисилицид молибдена MoSi2 термические нагревательные элементы для электрической печи

Высокопроизводительные нагревательные элементы MoSi2 для лабораторий, достигающие температуры 1800°C и обладающие превосходной устойчивостью к окислению. Настраиваемые, долговечные и надежные для высокотемпературных применений.

Машина печи трубки CVD с несколькими зонами нагрева для оборудования химического осаждения из паровой фазы

Машина печи трубки CVD с несколькими зонами нагрева для оборудования химического осаждения из паровой фазы

Многозональные трубчатые CVD-печи KINTEK обеспечивают точный контроль температуры для современного осаждения тонких пленок. Идеально подходят для исследований и производства, настраиваются под нужды вашей лаборатории.

Оборудование системы машины HFCVD для нанесения наноалмазного покрытия

Оборудование системы машины HFCVD для нанесения наноалмазного покрытия

Система HFCVD компании KINTEK обеспечивает высококачественные наноалмазные покрытия для проволочно-вытяжных штампов, повышая их долговечность за счет превосходной твердости и износостойкости. Узнайте о прецизионных решениях прямо сейчас!

Реактор с колокольным резонатором для лабораторий и выращивания алмазов

Реактор с колокольным резонатором для лабораторий и выращивания алмазов

KINTEK MPCVD Systems: Прецизионные установки для выращивания алмазов высокой чистоты в лабораторных условиях. Надежные, эффективные и настраиваемые для исследований и промышленности.

Искровое плазменное спекание SPS-печь

Искровое плазменное спекание SPS-печь

Откройте для себя передовую печь для искрового плазменного спекания (SPS) компании KINTEK для быстрой и точной обработки материалов. Настраиваемые решения для исследований и производства.

Система установки с цилиндрическим резонатором MPCVD для выращивания алмазов в лаборатории

Система установки с цилиндрическим резонатором MPCVD для выращивания алмазов в лаборатории

Системы MPCVD от KINTEK: Выращивайте высококачественные алмазные пленки с высокой точностью. Надежные, энергоэффективные и удобные для начинающих. Экспертная поддержка.

Популярные теги

ротационная трубчатая печь трубчатая печь ротационная печь пеквд машина вращающаяся печь машина cvd машина мпквд многозонная трубчатая печь