
CVD & PECVD Furnace
Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения
Артикул : KT-PED
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Температура нагрева
- ≤800℃
- Степень вакуума
- ≤5×10-5Па
- Выходная мощность
- 500W-1000W

Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Установка для нанесения покрытий методом плазменного химического осаждения из паровой фазы (PECVD)
Передовые системы PECVD от KINTEK: прецизионное нанесение покрытий, адаптированное к вашим потребностям
Используя исключительные научные разработки и собственное производство, компания KINTEK поставляет передовые системы химического осаждения из паровой плазмы (PECVD), предназначенные для различных лабораторий и промышленных применений. PECVD - это сложная вакуумная технология осаждения тонких пленок, в которой используется плазма для активации газов-прекурсоров. Это позволяет создавать высококачественные однородные покрытия при значительно более низких температурах, чем при традиционном химическом осаждении из паровой фазы (CVD), что расширяет возможности работы с термочувствительными подложками (например, пластиками) и разнообразными материалами для покрытий (включая диэлектрики, полупроводники и изоляторы).
Наши установки PECVD являются ключевым предложением в обширном наборе передовых высокотемпературных печей KINTEK, который также включает муфельные, трубчатые, ротационные печи, вакуумные и атмосферные печи, а также другие системы CVD/MPCVD. Мы гордимся своими возможностями глубокой настройки, гарантируя, что ваша система PECVD будет точно спроектирована для удовлетворения ваших уникальных экспериментальных и производственных требований.
Ключевые особенности
Установки KINTEK для нанесения покрытий методом химического осаждения из паровой плазмы (PECVD) обладают рядом характеристик, обеспечивающих превосходную производительность и универсальность:
- Низкотемпературное осаждение: Позволяет формировать высококачественные пленки на хрупких подложках или подложках с низкой температурой плавления без термического повреждения, значительно расширяя совместимость материалов.
- Высокая скорость осаждения: Обеспечивает быстрый рост пленки, максимизируя пропускную способность, сокращая время обработки и повышая общую производительность.
- Однородные и устойчивые к растрескиванию пленки: Создает покрытия с исключительной однородностью толщины и свойств по всей поверхности подложки, сводя к минимуму такие дефекты, как растрескивание, что обеспечивает надежность и долговечность результатов.
- Отличная адгезия к подложке: Обеспечивает прочное сцепление между осажденной пленкой и материалом подложки, что приводит к долговечности и предотвращает расслоение.
- Универсальные возможности нанесения покрытий: Поддерживает осаждение широкого спектра материалов, таких как SiO2, SiNx, SiOxNy и других, удовлетворяя разнообразные потребности приложений.
- Конформное покрытие на сложных геометриях: Способность равномерно покрывать подложки сложной формы и рельефа, обеспечивая всестороннее покрытие и оптимальную производительность.
- Удобный дизайн: Спроектирован для низких требований к обслуживанию и простой установки, что сводит к минимуму время простоя и упрощает интеграцию в рабочий процесс.
Технические характеристики
Держатель образца | Размер | 1-6 дюймов |
Скорость вращения | 0-20rpm регулируемый | |
Температура нагрева | ≤800℃ | |
Точность управления | ±0,5℃ ПИД-регулятор SHIMADEN | |
Газовая продувка | Расходомер | КОНТРОЛЛЕР МАССОВОГО РАСХОДОМЕРА (MFC) |
Каналы | 4 канала | |
Метод охлаждения | Охлаждение циркулирующей водой | |
Вакуумная камера | Размер камеры | Φ500mm X 550mm |
Порт наблюдения | Порт полного обзора с перегородкой | |
Материал камеры | 316 Нержавеющая сталь | |
Тип двери | Дверь открытого типа спереди | |
Материал крышки | 304 Нержавеющая сталь | |
Порт вакуумного насоса | Фланец CF200 | |
Порт впуска газа | Разъем φ6 VCR | |
Мощность плазмы | Мощность источника | Питание постоянного тока или радиочастотное питание |
Режим соединения | Индуктивная связь или емкостная пластина | |
Выходная мощность | 500 ВТ-1000 ВТ | |
Мощность биаса | 500v | |
Вакуумный насос | Предварительный насос | 15L/S Лопастной вакуумный насос |
Порт турбонасоса | CF150/CF200 620Л/С-1600Л/С | |
Порт сброса давления | KF25 | |
Скорость насоса | Лопастной насос: 15 л/с, турбонасос: 1200 л/с, 1600 л/с | |
Степень вакуума | ≤5×10-5Па | |
Датчик вакуума | Ионизационный/сопротивление вакуумметр/пленочный манометр | |
Система | Электропитание | AC 220V /380 50Hz |
Номинальная мощность | 5 кВт | |
Размеры | 900 мм X 820 мм X870 мм | |
Вес | 200 кг |
Применение
Установки для нанесения покрытий методом плазменного химического осаждения из паровой фазы (PECVD) от KINTEK - это универсальное решение для широкого спектра отраслей промышленности и самых современных применений:
- Светодиодное освещение: Осаждение высококачественных диэлектрических и полупроводниковых пленок, необходимых для создания эффективных и долговечных светоизлучающих диодов (LED).
- Силовые полупроводники: Формирование изолирующих слоев, оксидов затвора и других критически важных пленочных компонентов в силовых полупроводниковых приборах.
- MEMS (микроэлектромеханические системы): Изготовление прецизионных тонких пленок для датчиков, приводов и других микромасштабных устройств.
- Оптические покрытия: Осаждение антибликовых покрытий, оптических фильтров, защитных слоев и других функциональных оптических компонентов.
- Тонкопленочные солнечные элементы: Производство тонких пленок аморфного и микрокристаллического кремния, а также других полупроводниковых материалов для фотоэлектрических устройств.
- Модификация поверхности: Улучшение свойств поверхности материалов, включая повышение коррозионной стойкости, износостойкости, твердости и биосовместимости.
- Нанотехнологии: Синтез передовых наноматериалов, таких как наночастицы, нанопроволоки и ультратонкие пленки для новых применений.
Почему стоит сотрудничать с KINTEK в области технологии PECVD?
Выбирая компанию KINTEK для своих нужд в области PECVD, вы инвестируете в качество, надежность и индивидуальные решения:
- Глубокая индивидуализация: Мы специализируемся на конфигурировании систем PECVD в соответствии с вашими точными спецификациями, обеспечивая оптимальную производительность для ваших уникальных приложений и исследовательских целей.
- Передовые исследования и разработки и производство: Наш собственный опыт способствует инновациям, позволяя нам предлагать самые современные технологии PECVD.
- Высококачественная конструкция: Наши системы имеют жесткую конструкцию, изготовленную из высококачественных материалов, таких как нержавеющая сталь, что обеспечивает стабильность, прочность и длительный срок службы.
- Надежная производительность: Наши установки PECVD, разработанные для получения стабильных результатов, производят высококачественные, однородные тонкие пленки с отличной адгезией.
- Всесторонняя поддержка: От простоты установки до низких требований к обслуживанию - мы гарантируем, что наши системы удобны в использовании и поддерживаются оперативным обслуживанием клиентов.
- Универсальность: Наши установки могут осаждать широкий спектр материалов, что делает их подходящими для различных исследовательских и промышленных процессов.
Принцип работы
Химическое осаждение из паровой плазмы (PECVD) - это процесс, в котором используется плазма (ионизированный газ) для стимулирования и усиления химических реакций в процессе осаждения тонких пленок. В отличие от обычного CVD, в котором для стимулирования реакций используется исключительно высокая температура, в PECVD применяется высокоэнергетическая плазма. Эта плазма заряжает энергией газы-предшественники, что приводит к образованию реактивных видов при значительно более низких температурах подложки. Затем эти реактивные вещества адсорбируются на поверхности подложки и вступают в химические реакции, образуя твердую тонкую пленку. Этот метод позволяет осаждать различные высококачественные пленки, такие как SiO2, SiNx и SiOxNy, и особенно эффективен для создания тонких пленок аморфного или микрокристаллического кремния, используемых в солнечных батареях. Более низкие температуры обработки минимизируют тепловые нагрузки на подложки, уменьшают количество точечных отверстий и предотвращают растрескивание, что делает PECVD идеальным для более широкого спектра материалов и применений.
Настройте свое решение для PECVD с помощью KINTEK
Готовы расширить свои возможности по осаждению тонких пленок? Специалисты KINTEK готовы обсудить ваши конкретные потребности и задачи. Мы поможем вам сконфигурировать систему химического осаждения из паровой плазмы, идеально соответствующую вашим экспериментальным или производственным требованиям. Воспользуйтесь нашим глубоким опытом в области настройки и передовыми технологиями для достижения превосходных результатов.
Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать, какое решение для PECVD вы можете выбрать!
FAQ
Что такое трубчатая печь и как она работает?
Каковы основные области применения ротационных трубчатых печей?
В чем заключается принцип работы ротационной печи?
Для чего используется вращающаяся печь?
Каковы основные области применения многозонных трубчатых печей?
Для каких целей обычно используется печь с разъемной трубкой?
Что такое вертикальная трубчатая печь?
Каковы основные области применения трубчатых печей?
Каковы основные характеристики вращающейся трубчатой печи?
Каковы преимущества использования ротационной печи?
Какие существуют основные типы вращающихся печей?
Каковы ключевые особенности многозонных трубчатых печей?
Каковы ключевые особенности печи с разъемной трубой?
Для каких целей используется вертикальная трубчатая печь?
Каковы преимущества использования трубчатых печей?
Как работает ротационная трубчатая печь?
В чем заключаются ключевые особенности ротационной печи?
Как работает вращающаяся печь?
Как работает многозонная трубчатая печь?
Как работает печь с разъемной трубой?
В чем преимущества вертикальных трубчатых печей?
Какие типы трубчатых печей существуют?
В чем преимущества использования ротационной трубчатой печи?
Для каких целей обычно используется ротационная печь?
Каковы преимущества использования вращающихся печей?
Каковы преимущества использования многозонной трубчатой печи?
В чем преимущества использования печи с разъемной трубой?
Как работает вертикальная трубчатая печь?
Каких температурных диапазонов могут достигать трубчатые печи?
Какой температуры может достичь ротационная трубчатая печь?
Как ротационная печь работает с различными материалами?
Какие меры безопасности предусмотрены во вращающихся печах?
Какие типы многозонных трубчатых печей существуют?
Какой температуры может достичь печь с разъемными трубами?
Какие типы вертикальных трубчатых печей доступны?
Могут ли трубчатые печи работать в разных атмосферах?
Какие типы материалов можно обрабатывать в ротационной трубчатой печи?
Можно ли настроить вращающиеся печи под конкретные задачи?
Почему разъемная конструкция выгодна в трубчатых печах?
Почему стоит выбрать вертикальную трубчатую печь, а не горизонтальную?
Что делает трубчатые печи KINTEK особенными?
Какие температурные диапазоны могут достигать вертикальные трубчатые печи?
Можно ли настроить вертикальные трубчатые печи?
4.8
out of
5
This machine is a game-changer! The precision and efficiency are unmatched. Worth every penny!
4.9
out of
5
Incredible technology! The inclined rotary feature makes all the difference. Superb quality!
4.7
out of
5
Fast delivery and easy setup. The performance exceeds expectations. Highly recommend!
4.9
out of
5
Top-notch durability and advanced features. This machine is built to last. Impressive!
4.8
out of
5
The PECVD process is flawless. Such a reliable and high-quality machine. Love it!
4.7
out of
5
Great value for money. The technology is cutting-edge and the results are consistent.
4.9
out of
5
Exceptional performance! The rotary design enhances uniformity. A must-have for labs!
4.8
out of
5
Outstanding machine! The plasma enhancement is brilliant. Delivered faster than expected.
4.7
out of
5
Perfect for high-throughput applications. The build quality is exceptional. Very satisfied!
4.9
out of
5
Innovative and reliable. The inclined tube design is genius. Works like a charm!
4.8
out of
5
Fantastic investment! The machine delivers consistent, high-quality results. Highly impressed!
Продукты
Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары

Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения
Передовая трубчатая печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Равномерный нагрев, источник ВЧ-плазмы, настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для исследований полупроводников.

Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина
Трубчатая печь KINTEK Slide PECVD: прецизионное осаждение тонких пленок с помощью радиочастотной плазмы, быстрая термоциклическая обработка и настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для полупроводников и солнечных батарей.

1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой
Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионный нагрев до 1700°C для синтеза материалов, CVD и спекания. Компактная, настраиваемая и готовая к работе в вакууме. Узнайте прямо сейчас!

1400℃ высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой и глиноземной трубкой
Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионная высокотемпературная обработка до 2000°C для лабораторий. Идеально подходит для синтеза материалов, CVD и спекания. Доступны настраиваемые опции.

Электрическая роторная печь для регенерации активированного угля
Электрическая печь для регенерации активированного угля от KINTEK: высокоэффективная, автоматизированная вращающаяся печь для устойчивого восстановления углерода. Минимизируйте отходы, максимизируйте экономию. Получите предложение!

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы
Система KINTEK RF PECVD: Прецизионное осаждение тонких пленок для полупроводников, оптики и МЭМС. Автоматизированный низкотемпературный процесс с превосходным качеством пленки. Возможны индивидуальные решения.

Вертикальная лабораторная кварцевая трубчатая печь трубчатая печь
Прецизионная вертикальная трубчатая печь KINTEK: нагрев 1800℃, ПИД-регулирование, настраиваемая для лабораторий. Идеально подходит для CVD, роста кристаллов и тестирования материалов.

Электрическая вращающаяся печь Малая вращающаяся печь Пиролиз биомассы Завод Вращающаяся печь
Роторная печь для пиролиза биомассы KINTEK эффективно преобразует биомассу в биосахар, биомасло и сингаз. Настраиваемая для исследований или производства. Получите свое решение прямо сейчас!

1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой
Откройте для себя печь KINTEK с разъемной трубкой 1200℃ с кварцевой трубкой для точных высокотемпературных лабораторных применений. Настраиваемая, долговечная и эффективная. Приобретайте прямо сейчас!

Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь
Трубчатая печь высокого давления KINTEK: прецизионный нагрев до 1100°C с контролем давления 15 МПа. Идеально подходит для спекания, выращивания кристаллов и лабораторных исследований. Возможны индивидуальные решения.

Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace
Трубчатая печь быстрого нагрева RTP компании KINTEK обеспечивает точный контроль температуры, быстрый нагрев до 100°C/сек и разнообразные варианты атмосферы для передовых лабораторных применений.

Вращающаяся трубчатая печь с вакуумным уплотнением непрерывного действия
Прецизионная ротационная трубчатая печь для непрерывной вакуумной обработки. Идеально подходит для прокаливания, спекания и термообработки. Настраиваемая температура до 1600℃.

915MHz MPCVD алмаз машина микроволновая плазмы химического осаждения пара система реактор
Алмазная MPCVD-машина KINTEK: Высококачественный синтез алмазов с помощью передовой MPCVD-технологии. Ускоренный рост, превосходная чистота, настраиваемые опции. Увеличьте производство прямо сейчас!

Высокоэффективные вакуумные сильфоны для эффективного соединения и стабильного вакуума в системах
Смотровое окно KF для сверхвысокого вакуума с высокопрочным боросиликатным стеклом для четкого просмотра в сложных условиях 10^-9 Торр. Прочный фланец из нержавеющей стали 304.

Дисилицид молибдена MoSi2 термические нагревательные элементы для электрической печи
Высокопроизводительные нагревательные элементы MoSi2 для лабораторий, достигающие температуры 1800°C и обладающие превосходной устойчивостью к окислению. Настраиваемые, долговечные и надежные для высокотемпературных применений.

Фланец CF KF для вакуумных электродов с проходным свинцовым уплотнением для вакуумных систем
Надежный фланцевый вакуумный электродный ввод CF/KF для высокопроизводительных вакуумных систем. Обеспечивает превосходную герметичность, проводимость и долговечность. Доступны настраиваемые опции.

304 316 Нержавеющая сталь Высокий вакуум шаровой запорный клапан для вакуумных систем
Вакуумные шаровые краны и запорные клапаны KINTEK из нержавеющей стали 304/316 обеспечивают высокоэффективное уплотнение для промышленных и научных применений. Изучите долговечные, устойчивые к коррозии решения.

Вакуумный горячий пресс печь машина нагретый вакуумный пресс
Вакуумная печь горячего прессования KINTEK: прецизионный нагрев и прессование для достижения высокой плотности материала. Настраиваемая температура до 2800°C, идеальная для металлов, керамики и композитов. Узнайте о расширенных возможностях прямо сейчас!