CVD & PECVD Furnace
Наклонная вращающаяся трубчатая печь для плазменно-усиленного химического осаждения PECVD
Артикул : KT-PED
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Температура нагрева
- ≤800℃
- Степень вакуума
- ≤5×10-5Па
- Выходная мощность
- 500Вт—1000Вт
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Почему выбирают нас
Простой процесс заказа, качественные продукты и специализированная поддержка для успеха вашего бизнеса.
Установка для плазменно-усиленного химического осаждения паров (PECVD) нанесения покрытий


Продвинутые системы PECVD от KINTEK: Точное нанесение покрытий, адаптированное под ваши задачи
Опираясь на исключительные возможности научно-исследовательской работы и собственное производство, компания KINTEK поставляет передовые системы плазменно-усиленного химического осаждения паров (PECVD), разработанные для разнообразных лабораторных и промышленных применений. PECVD — это современная технология вакуумного осаждения тонких пленок, в которой плазма используется для активации газов-прекурсоров. Это позволяет создавать высококачественные равномерные покрытия при значительно более низких температурах, чем при традиционном химическом осаждении паров (CVD), что расширяет возможности работы с термочувствительными подложками (например, пластиком) и широким спектром материалов покрытий (включая диэлектрики, полупроводники и изоляторы).
Наши установки PECVD являются одним из ключевых предложений в комплексном портфеле продвинутых высокотемпературных печных решений KINTEK, который также включает муфельные, трубчатые, вращающиеся печи, вакуумные и атмосферные печи, а другие системы CVD/MPCVD. Мы гордимся нашей широкой возможностью глубокой кастомизации, гарантируя, что ваша система PECVD будет точно спроектирована под ваши уникальные экспериментальные и производственные требования.
Ключевые особенности
Установки плазменно-усиленного химического осаждения паров (PECVD) от KINTEK имеют ряд функций, разработанных для превосходной производительности и универсальности:
- Низкотемпературное осаждение: Позволяет формировать высококачественные пленки на чувствительных и низкоплавких подложках без термических повреждений, значительно расширяя совместимость с материалами.
- Высокие скорости осаждения: Обеспечивает быстрый рост пленки, максимизируя пропускную способность, сокращая время обработки и повышая общую производительность.
- Равномерные пленки, устойчивые к растрескиванию: Позволяет получать покрытия с исключительной стабильностью толщины и свойств по всей подложке, сводя к минимуму дефекты, такие как трещины, для надежных и долговечных результатов.
- Отличная адгезия к подложке: Обеспечивает прочное сцепление между осажденной пленкой и материалом подложки, что приводит к длительной работе и предотвращает расслоение.
- Универсальные возможности нанесения покрытий: Поддерживает осаждение широкого спектра материалов, таких как SiO₂, SiNx, SiOxNy и других, удовлетворяя разнообразные потребности применений.
- Конформное нанесение покрытий на сложные геометрии: Позволяет равномерно покрывать подложки со сложными формами и топографией, гарантируя полное покрытие и оптимальную производительность.
- Удобная конструкция: Спроектирована с низкими требованиями к техническому обслуживанию и простой установкой, минимизируя простои и упрощая интеграцию в ваш рабочий процесс.
Технические характеристики
| Держатель образца | Размер | 1-6 дюймов |
| Скорость вращения | 0-20 об/мин, регулируемая | |
| Температура нагрева | ≤800℃ | |
| Точность регулирования | ±0,5℃ ПИД-контроллер SHIMADEN | |
| Продувка газом | Расходомер | Регулятор массового расхода (MFC) |
| Каналы | 4 канала | |
| Способ охлаждения | Охлаждение циркуляционной водой | |
| Вакуумная камера | Размер камеры | Φ500 мм × 550 мм |
| Смотровой порт | Полнообзорный порт с заслонкой | |
| Материал камеры | Нержавеющая сталь 316 | |
| Тип дверцы | Фронтальная распашная дверца | |
| Материал крышки | Нержавеющая сталь 304 | |
| Порт для вакуумного насоса | Фланец CF200 | |
| Порт ввода газа | Соединитель φ6 VCR | |
| Плазменный источник питания | Мощность источника | Постоянный ток или ВЧ-источник |
| Режим связи | Индуктивная связь или пластинчатая емкостная | |
| Выходная мощность | 500 Вт — 1000 Вт | |
| Мощность смещения | 500 В | |
| Вакуумный насос | Форвакуумный насос | Пластинчато-роторный вакуумный насос 15 л/с |
| Порт турбомолекулярного насоса | CF150/CF200 620 л/с-1600 л/с | |
| Предохранительный порт | KF25 | |
| Скорость откачки | Пластинчато-роторный насос: 15 л/с, Турбомолекулярный насос: 1200 л/с или 1600 л/с | |
| Степень вакуума | ≤5×10⁻⁵ Па | |
| Вакуумный датчик | Ионизационный/резистивный вакуумметр/пленочный манометр | |
| Система | Электропитание | Переменный ток 220 В / 380 50 Гц |
| Номинальная мощность | 5 кВт | |
| Габаритные размеры | 900 мм × 820 мм × 870 мм | |
| Вес | 200 кг |
Области применения
Установки плазменно-усиленного химического осаждения паров (PECVD) от KINTEK представляют собой универсальное решение для широкого спектра отраслей и передовых применений:
- Светодиодное освещение: Осаждение высококачественных диэлектрических и полупроводниковых пленок, необходимых для создания эффективных и долговечных светодиодов (LED).
- Силовые полупроводники: Формирование изоляционных слоев, затворных оксидов и других критических пленочных компонентов в силовых полупроводниковых приборах.
- MEMS (Микроэлектромеханические системы): Изготовление точных тонких пленок для датчиков, актуаторов и других микромасштабных устройств.
- Оптические покрытия: Осаждение просветляющих покрытий, оптических фильтров, защитных слоев и других функциональных оптических компонентов.
- Тонкопленочные солнечные элементы: Производство аморфных и микрокристаллических кремниевых тонких пленок, а также других полупроводниковых материалов для фотоэлектрических устройств.
- Модификация поверхности: Улучшение свойств поверхности материалов, включая повышение коррозионной стойкости, износостойкости, твердости и биосовместимости.
- Нанотехнологии: Синтез продвинутых наноматериалов, таких как наночастицы, нанопроволоки и ультратонкие пленки для новых применений.
Почему стоит сотрудничать с KINTEK по технологии PECVD?
Выбирая KINTEK для удовлетворения ваших потребностей в PECVD, вы инвестируете в качество, надежность и индивидуальные решения:
- Глубокая кастомизация: Мы специализируемся на конфигурации систем PECVD под ваши точные спецификации, гарантируя оптимальную производительность для ваших уникальных приложений и исследовательских задач.
- Продвинутые НИОКР и производство: Наша внутренняя экспертиза стимулирует инновации, позволяя нам предлагать современнейшие технологии PECVD.
- Высококачественное исполнение: Наши системы имеют жесткую конструкцию, изготовленную из премиальных материалов, таких как нержавеющая сталь, для обеспечения стабильности, долговечности и продленного срока службы.
- Надежная производительность: Спроектированные для стабильных результатов, наши установки PECVD производят высококачественные равномерные тонкие пленки с отличной адгезией.
- Комплексная поддержка: От простой установки до низких требований к техническому обслуживанию мы гарантируем, что наши системы удобны в использовании и поддерживаются оперативной клиентской службой.
- Универсальность: Наши установки могут осаждать широкий спектр материалов, что делает их подходящими для разнообразных исследовательских и промышленных процессов.
Принцип работы
Плазменно-усиленное химическое осаждение паров (PECVD) — это процесс, в котором используется плазма (ионизированный газ) для стимуляции и усиления химических реакций во время осаждения тонкой пленки. В отличие от обычного CVD, который полностью зависит от высоких температур для запуска реакций, в PECVD используется высокоэнергетическая плазма. Эта плазма энергетизирует газы-прекурсоры, что приводит к образованию реактивных частиц при значительно более низких температурах подложки. Затем эти реактивные частицы адсорбируются на поверхности подложки и вступают в химические реакции с образованием твердой тонкой пленки. Этот метод позволяет осаждать различные высококачественные пленки, такие как SiO₂, SiNx и SiOxNy, и особенно эффективен для создания аморфных или микрокристаллических кремниевых тонких пленок, используемых в солнечных элементах. Более низкие температуры обработки минимизируют термическое напряжение на подложки, уменьшают количество игольчатых отверстий и предотвращают растрескивание, что делает PECVD идеальным для более широкого спектра материалов и применений.
Настройте ваше решение PECVD с KINTEK
Готовы улучшить ваши возможности осаждения тонких пленок? Эксперты KINTEK готовы обсудить ваши конкретные проектные потребности и задачи. Мы поможем вам сконфигурировать систему плазменно-усиленного химического осаждения паров, идеально адаптированную под ваши экспериментальные или производственные требования. Воспользуйтесь нашей экспертизой в глубокой кастомизации и передовыми технологиями для достижения превосходных результатов.
Свяжитесь с нами сегодня, чтобы изучить ваше индивидуальное решение PECVD!
Нам доверяют лидеры отрасли
FAQ
Каковы основные области применения ротационных трубчатых печей?
Что такое трубчатая печь и как она работает?
В чем заключается принцип работы ротационной печи?
Для чего используется вращающаяся печь?
Каковы основные области применения многозонных трубчатых печей?
Для каких целей обычно используется печь с разъемной трубкой?
Что такое вертикальная трубчатая печь?
Каковы основные характеристики вращающейся трубчатой печи?
Каковы основные области применения трубчатых печей?
Каковы преимущества использования ротационной печи?
Какие существуют основные типы вращающихся печей?
Каковы ключевые особенности многозонных трубчатых печей?
Каковы ключевые особенности печи с разъемной трубой?
Для каких целей используется вертикальная трубчатая печь?
Как работает ротационная трубчатая печь?
Каковы преимущества использования трубчатых печей?
В чем заключаются ключевые особенности ротационной печи?
Как работает вращающаяся печь?
Как работает многозонная трубчатая печь?
Как работает печь с разъемной трубой?
В чем преимущества вертикальных трубчатых печей?
В чем преимущества использования ротационной трубчатой печи?
Какие типы трубчатых печей существуют?
Для каких целей обычно используется ротационная печь?
Каковы преимущества использования вращающихся печей?
Каковы преимущества использования многозонной трубчатой печи?
В чем преимущества использования печи с разъемной трубой?
Как работает вертикальная трубчатая печь?
Какой температуры может достичь ротационная трубчатая печь?
Каких температурных диапазонов могут достигать трубчатые печи?
Как ротационная печь работает с различными материалами?
Какие меры безопасности предусмотрены во вращающихся печах?
Какие типы многозонных трубчатых печей существуют?
Какой температуры может достичь печь с разъемными трубами?
Какие типы вертикальных трубчатых печей доступны?
Какие типы материалов можно обрабатывать в ротационной трубчатой печи?
Могут ли трубчатые печи работать в разных атмосферах?
Можно ли настроить вращающиеся печи под конкретные задачи?
Почему разъемная конструкция выгодна в трубчатых печах?
Почему стоит выбрать вертикальную трубчатую печь, а не горизонтальную?
Что делает трубчатые печи KINTEK особенными?
Какие температурные диапазоны могут достигать вертикальные трубчатые печи?
Можно ли настроить вертикальные трубчатые печи?
Техническая спецификация продукта
Наклонная вращающаяся трубчатая печь для плазменно-усиленного химического осаждения PECVD
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Наклонная вращающаяся трубчатая печь для плазмохимического осаждения (PECVD)
Усовершенствованная трубчатая печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Равномерный нагрев, ВЧ-источник плазмы, настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для исследований в области полупроводников.
Скользящая трубчатая печь PECVD с жидкостным газификатором, установка PECVD
Скользящая трубчатая печь PECVD KINTEK: прецизионное осаждение тонких пленок с использованием ВЧ-плазмы, быстрые термические циклы и настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для полупроводников и солнечных элементов.
Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы
Система KINTEK RF PECVD: Прецизионное осаждение тонких пленок для полупроводников, оптики и МЭМС. Автоматизированный низкотемпературный процесс с превосходным качеством пленки. Возможны индивидуальные решения.
Изготовленная на заказ универсальная печь трубки CVD химическое осаждение паров CVD оборудование машина
Трубчатая CVD-печь KINTEK обеспечивает точный контроль температуры до 1600°C, идеально подходящий для осаждения тонких пленок. Настраивается для исследовательских и промышленных нужд.
Машина печи трубки CVD с несколькими зонами нагрева для оборудования химического осаждения из паровой фазы
Многозональные трубчатые CVD-печи KINTEK обеспечивают точный контроль температуры для современного осаждения тонких пленок. Идеально подходят для исследований и производства, настраиваются под нужды вашей лаборатории.
Лабораторная вакуумная наклонная вращающаяся трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь
Лабораторная ротационная печь KINTEK: прецизионный нагрев для прокаливания, сушки, спекания. Индивидуальные решения с вакуумом и контролируемой атмосферой. Расширьте возможности исследований прямо сейчас!
Вращающаяся трубчатая печь с несколькими зонами нагрева
Прецизионная ротационная трубчатая печь с несколькими зонами нагрева для высокотемпературной обработки материалов, с регулируемым наклоном, вращением на 360° и настраиваемыми зонами нагрева. Идеально подходит для лабораторий.
Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины
Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией - высокоточная лабораторная печь с температурой 1200°C для исследования современных материалов. Доступны индивидуальные решения.
Вакуумная вращающаяся трубчатая печь непрерывного действия
Прецизионная вращающаяся трубчатая печь для непрерывной вакуумной обработки. Идеально подходит для прокаливания, спекания и термообработки. Возможность настройки до 1600℃.
Многозональная лабораторная кварцевая трубчатая печь трубчатая печь
Многозональная трубчатая печь KINTEK: точный нагрев до 1700℃ с 1-10 зонами для передовых исследований материалов. Настраиваемая, готовая к вакууму и сертифицированная по безопасности.
Вертикальная лабораторная кварцевая трубчатая печь трубчатая печь
Прецизионная вертикальная трубчатая печь KINTEK: нагрев 1800℃, ПИД-регулирование, настраиваемая для лабораторий. Идеально подходит для CVD, роста кристаллов и тестирования материалов.
Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace
Трубчатая печь быстрого нагрева RTP компании KINTEK обеспечивает точный контроль температуры, быстрый нагрев до 100°C/сек и разнообразные варианты атмосферы для передовых лабораторных применений.
Печь-труба для экстракции и очистки магния
Печь-труба для очистки магния для производства высокочистых металлов. Достигает вакуума ≤10 Па, двухзонный нагрев. Идеально подходит для аэрокосмической, электронной промышленности и лабораторных исследований.
Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь
Трубчатая печь высокого давления KINTEK: прецизионный нагрев до 1100°C с контролем давления 15 МПа. Идеально подходит для спекания, выращивания кристаллов и лабораторных исследований. Возможны индивидуальные решения.
Реактор с колокольным резонатором для лабораторий и выращивания алмазов
KINTEK MPCVD Systems: Прецизионные установки для выращивания алмазов высокой чистоты в лабораторных условиях. Надежные, эффективные и настраиваемые для исследований и промышленности.
Система установки с цилиндрическим резонатором MPCVD для выращивания алмазов в лаборатории
Системы MPCVD от KINTEK: Выращивайте высококачественные алмазные пленки с высокой точностью. Надежные, энергоэффективные и удобные для начинающих. Экспертная поддержка.
Электрическая вращающаяся печь Малая вращающаяся печь Пиролиз биомассы Завод Вращающаяся печь
Роторная печь для пиролиза биомассы KINTEK эффективно преобразует биомассу в биосахар, биомасло и сингаз. Настраиваемая для исследований или производства. Получите свое решение прямо сейчас!
Печь с контролируемой инертной атмосферой азота, 1200℃
Печь с контролируемой атмосферой KINTEK 1200℃: прецизионный нагрев с газовым контролем для лабораторий. Идеально подходит для спекания, отжига и материаловедческих исследований. Доступны индивидуальные размеры.
Искровое плазменное спекание SPS-печь
Откройте для себя передовую печь для искрового плазменного спекания (SPS) компании KINTEK для быстрой и точной обработки материалов. Настраиваемые решения для исследований и производства.
Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь 1700℃ с корундовой трубкой
Трубчатая печь KINTEK с корундовой трубкой: прецизионный нагрев до 1700°C для синтеза материалов, CVD и спекания. Компактная, настраиваемая и готовая к работе в вакууме. Узнайте больше!
Связанные статьи
Больше, чем ручка: психология точности в управлении трубчатой печью
Выбор системы управления трубчатой печью — это стратегическое решение, которое влияет на повторяемость процессов, целостность данных и достоверность исследований.
Освоение пустоты: как трубчатые печи обеспечивают предсказуемые результаты
Трубчатая печь предлагает больше, чем просто нагрев; она обеспечивает контролируемую вселенную для синтеза материалов, гарантируя повторяемость процессов и предсказуемые результаты.
Физика управления: освоение трехэтапного путешествия тепла в трубчатой печи
Освойте термические процессы, понимая трехэтапное путешествие тепла — излучение, конвекцию и теплопроводность — и как конструкция печи определяет результаты.
За гранью нагрева: Невидимая сила контроля окружающей среды в трубчатых печах
Узнайте, почему истинная ценность трубчатой печи заключается не только в температуре, но и в абсолютном контроле окружающей среды, который она обеспечивает для воспроизводимых научных исследований.
Война против хаоса: Изящная инженерия современной трубчатой печи
Печь — это не просто обогреватель; это система, которая борется с энтропией. Исследуйте физику преобразования электричества в точную, равномерную тепловую энергию.
От порошка к мощности: Физика контроля в трубчатой печи
Трубчатые печи создают превосходное стекло и керамику не только за счет тепла, но и благодаря точному контролю атмосферы, который предотвращает окисление и обеспечивает передовые процессы.
За пределами температуры: освоение невидимой среды в трубчатой печи
Глубокое погружение в то, как конструкция трубчатой печи обеспечивает прецизионность, отделяя источник тепла от контролируемой, изолированной среды образца.
Ваша печь — это больше, чем просто обогреватель: почему «достаточно хорошего» оборудования саботирует ваши исследования передовых материалов
Сталкиваетесь с несогласованными результатами от вашей трубчатой печи? Узнайте, почему стандартное оборудование терпит неудачу и как модульный, настраиваемый подход является ключом к успеху.
Искусство изоляции: освоение свойств материалов с помощью трубчатых печей
Трубчатые печи преуспевают не просто нагревом, а изоляцией образцов в контролируемой атмосфере, что обеспечивает точную термическую обработку для передовых материалов.
За гранью нагрева: психология точности в трубчатой печи
Изучите решающую роль контроля атмосферы и равномерности температуры в трубчатых печах для воспроизводимых, ответственных исследований в области материаловедения.
Контроль — это всё: трубчатая печь и искусство инженерии на атомном уровне
Трубчатые печи обеспечивают контроль температуры и атмосферы на атомном уровне, необходимый для таких полупроводниковых процессов, как легирование, окисление и отжиг.
Мастерство микросреды: Невидимая сила трубчатой печи
Узнайте, как истинная ценность трубчатой печи заключается не в тепле, а в ее способности создавать контролируемую среду для материаловедения.