Продукты High Temperature Furnaces MPCVD 915MHz MPCVD алмаз машина микроволновая плазмы химического осаждения пара система реактор
915MHz MPCVD алмаз машина микроволновая плазмы химического осаждения пара система реактор

MPCVD

915MHz MPCVD алмаз машина микроволновая плазмы химического осаждения пара система реактор

Артикул : MP-CVD-101

Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки


Выходная мощность
3-75 кВт с плавной регулировкой
Диаметр ступени образца
≥200 мм
Рабочая частота
915±15 МГц
ISO & CE icon

Доставка:

Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Цена

Алмазная установка MPCVD от KINTEK: Революционный синтез алмазов

Установка KINTEK MPCVD Diamond Machine использует микроволновое плазмохимическое осаждение из паровой фазы (MPCVD) для синтеза высококачественных алмазов с беспрецедентной скоростью и точностью. Эта передовая технология позволяет ускорить рост кристаллов, увеличить производственные мощности и повысить качество алмазов по сравнению с традиционными методами.

Визуальный обзор и ключевые компоненты

Детали MPCVD

Детали MPCVD

Разблокируйте превосходное производство алмазов с KINTEK

Наша установка MPCVD Diamond Machine предлагает значительные преимущества для ваших потребностей в синтезе алмазов:

  • Ускоренный рост кристаллов: Достигайте скорости роста в 10-100 раз быстрее, чем традиционные методы, значительно повышая эффективность производства.
  • Увеличенная производственная мощность: Синтезируйте большие партии алмазов за один прогон, максимизируя производительность.
  • Исключительное качество алмазов: Производите алмазы с более высокой твердостью и прочностью, чем природные алмазы, обеспечивая превосходную долговечность и производительность.
  • Разнообразные цветовые решения: Создавайте бриллианты различных цветов, включая белый, желтый, розовый и голубой, чтобы удовлетворить разнообразные требования рынка и эстетические предпочтения.
  • Непревзойденная чистота: Достигайте более высоких уровней чистоты, чем природные алмазы типа II, что приводит к исключительным оптическим свойствам и пригодности для передовых приложений.
  • Индивидуальный подход к вашим потребностям: Воспользуйтесь преимуществами многостилевой настройки. Мы можем адаптировать дизайн для удовлетворения специфических требований рынка и уникальных экспериментальных установок.

Наука, скрывающаяся за блеском: Передовая технология MPCVD

Микроволновое плазмохимическое осаждение из паровой фазы (MPCVD) - это сложный процесс, в котором непрерывный источник микроволн генерирует и поддерживает высокореакционную плазму. Эта плазма состоит из реагирующих химикатов (обычно метана и водорода) и необходимых катализаторов, которые затем используются для выращивания новых алмазных слоев на подложке с алмазной подложкой.

Установка KINTEK MPCVD Diamond Machine позволяет точно контролировать мощность микроволн и температуру реакции, эффективно устраняя общие проблемы, с которыми сталкиваются другие методы CVD. Благодаря оптимизации конструкции реакционной камеры и параметров процесса достигается стабильный плазменный разряд - решающий фактор для стабильного производства высококачественных монокристаллических алмазов большого размера.

Универсальное применение в различных отраслях промышленности

Уникальные свойства алмазов, получаемых на наших MPCVD-установках, включая исключительную твердость, жесткость, высокую теплопроводность, низкое тепловое расширение, радиационную стойкость и химическую инертность, делают их бесценными в различных отраслях:

  • Производство драгоценных камней: Основное оборудование для выращивания высококачественных алмазных камней большого размера.
  • Передовые материалы и полупроводники: Производство алмазных пленок для различных применений, включая крупногабаритные алмазные подложки для полупроводниковой промышленности и высокопроизводительные алмазные режущие или сверлильные инструменты.
  • Промышленные инструменты: Разработка алмазных покрытий для режущих инструментов, буровых коронок и других промышленных применений, где первостепенное значение имеют высокая твердость и долговечность.
  • Биомедицинский сектор: Создание биосовместимых и прочных алмазных покрытий для медицинских имплантатов, таких как искусственные суставы и зубные имплантаты.
  • Оптоэлектроника: Изготовление алмазных окон и подложек для мощных лазеров, детекторов и других оптоэлектронных устройств, где важны высокая теплопроводность и низкое тепловое расширение.

Технические характеристики

Микроволновая система (в соответствии с опциональным источником питания)

  • Рабочая частота: 915±15 МГц
  • Выходная мощность: 3-75 кВт с плавной регулировкой
  • Поток охлаждающей воды: 120/мин
  • Коэффициент стоячей волны системы: VSWR≤1.5
  • Утечка микроволн:

Вакуумная система и реакционная камера

  • Скорость утечки
  • Предельное давление менее 0.7Pa (эта машина поставляется с импортным вакуумметром Pirani)
  • Повышение давления в полости не должно превышать 50 Па после 12 часов поддержания давления.
  • Режим работы реакционной камеры: Режим TM021 или TM023
  • Тип полости: охлаждаемая цилиндрическая полость, мощность до 75 кВт, высокая чистота, каменное кольцевое уплотнение.
  • Метод впуска: Верхний вход спринклерной головки.
  • Окно для измерения температуры наблюдения: 8 отверстий для наблюдения, равномерно распределенных по горизонтали.
  • Порт отбора проб: нижний подъемный порт отбора проб

Система держателя образца

  • Диаметр ступени образца ≥200 мм, площадь эффективного использования монокристаллов ≥130 мм, площадь эффективного использования поликристаллов ≥200 мм. Платформа субстрата с водяным охлаждением сэндвич-структуры, вертикальная прямая вверх и вниз.

Газовая система

  • Полностью металлическая сварная газовая пластина 5-7 газовых линий
  • Все внутренние воздушные контуры оборудования используют сварку или разъемы VCR.

Охлаждение системы

  • 3-ходовое водяное охлаждение, мониторинг температуры и потока в режиме реального времени.
  • Расход охлаждающей воды в системе 120 л/мин, давление охлаждающей воды

Метод измерения температуры

  • Внешний инфракрасный термометр, диапазон температур 3001400 M

Список основных деталей оборудования SL901A

серийный номер Название модуля Примечание
1 Источник питания микроволновой печи Стандартный отечественный магнетрон: Yingjie Electric / Distinguish power supply Отечественный твердотельный источник: Watson (+30,000) Импортный магнетрон: MKS / Пастораль (+100, 000)
2 Волновод, три штыря, преобразователь мод, верхний резонатор Самостоятельное изготовление
3 Вакуумная реакционная камера (верхняя камера, нижняя камера, разъемы) Самостоятельное изготовление
4 Инфракрасные термометры, оптические смещающие компоненты, кронштейны Инфракрасные термометры, оптические смещающие компоненты, кронштейны Fuji Gold Siemens + Schneider
5 Водяное охлаждение компонентов перемещения стола (цилиндры, заготовки и т.д.)
6 Керамический тонкопленочный вакуумметр, вакуумметр Пирани Inficon
7 Компоненты вакуумных клапанов (сверхвысоковакуумные задвижки, прецизионные пневматические клапаны*2, электромагнитные вакуумные дифференциальные клапаны) Fujikin + Zhongke + Himat
8 Вакуумный насос и соединительная трубопроводная арматура, тройник, сильфон KF25*2, адаптер Насос: Flyover 16L
9 Металлическое микроволновое уплотнительное кольцо*2; металлическое вакуумное уплотнительное кольцо*1; кварцевая пластина Кварц: Shanghai FeilihuaSemiconductor Grade High Purity Quartz
10 Компоненты циркулирующей воды (соединения, блоки отвода, датчики потока) Японский SMC/CKD
11 Пневматическая часть (фильтр CKD, многоходовой электромагнитный клапан Airtac, трубопроводная арматура и переходники)
12 Газовый соединитель, газовая труба EP, соединитель VCR, фильтр 0,0023 мкм *1, фильтр 10 мкм*2 Fujikin
13 Корпус станка, стол из нержавеющей стали, универсальные колеса, ножки, винты для крепления кронштейнов и т.д. индивидуальная обработка
14 Расходомер газа*6 (включая один регулятор давления) Стандартный семизвездочный, дополнительный Fuji Gold (+34,000) / Alicat (42,000)
15 Обработка газовой плиты (5-ходовой газ, фильтр*5, пневматический клапан*5, ручной клапан*6, сварка трубопровода) Fuji Gold
16 Автоматическое управление с помощью ПЛК Siemens + Schneider
17 Молибденовый стол

Партнерство с KINTEK для ваших потребностей в передовых материалах

Используя исключительные научные разработки и собственное производство, компания KINTEK специализируется на передовых решениях для высокотемпературных печей, таких как установка MPCVD Diamond Machine. Мы гордимся нашей сильной способностью к глубокой настройке, гарантирующей, что наши системы, включая это передовое оборудование для синтеза алмазов, точно соответствуют вашим уникальным экспериментальным и производственным требованиям.

Готовы повысить уровень синтеза алмазов? Установка MPCVD Diamond Machine компании KINTEK обеспечивает беспрецедентную точность и эффективность. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы обсудить ваши конкретные требования и узнать, как наша технология может повысить эффективность ваших операций. Заполните форму ниже или нажмите здесь, чтобы начать работу и запросить цену или консультацию!

FAQ

В чем заключается принцип работы установки MPCVD?

Установка MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) работает за счет использования микроволнового генератора для получения плазмы путем ионизации газовой смеси. Эта плазма помещается в реакционную камеру под низким давлением, где подложка удерживается держателем подложки. Основные компоненты включают в себя микроволновый генератор, плазменную камеру, систему подачи газа, держатель подложки и вакуумную систему.

В чем преимущества использования MPCVD-установки?

Установки MPCVD обладают рядом преимуществ: они исключают загрязнение от горячих проводов (неполярный разряд), позволяют использовать несколько газов, обеспечивают стабильный контроль температуры реакции, позволяют получать плазму стабильного разряда большой площади, а также обеспечивают точный контроль толщины пленки, чистоты и качества кристаллов. Кроме того, они позволяют получать алмазные пленки большой площади, обеспечивают стабильные условия, поддерживают постоянное качество образцов и являются экономически эффективными.

Каковы основные области применения установок MPCVD?

MPCVD-установки в основном используются для синтеза алмазов высокой чистоты, выращенных в лабораторных условиях, включая алмазные пленки и другие современные материалы. Их применение распространяется на исследования полупроводников, оптику и MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) благодаря способности получать высококачественные однородные пленки с точным контролем.

Каковы основные компоненты установки MPCVD?

Основные компоненты MPCVD-установки включают микроволновой генератор (для получения плазмы), реакционную камеру (для размещения подложки и газовой смеси под низким давлением), держатель подложки (для удержания подложки во время осаждения), систему подачи газа (для введения и контроля газовой смеси) и вакуумную систему (для поддержания необходимой среды низкого давления).

Как MPCVD-установка повышает энергоэффективность?

Установка MPCVD повышает энергоэффективность благодаря безэлектродному процессу, который снижает загрязнение и потери энергии. Микроволновая плазма генерируется с высокой эффективностью, а модульная и масштабируемая конструкция системы позволяет оптимизировать использование энергии в различных промышленных приложениях.

Почему MPCVD предпочтительнее для выращивания алмазов?

MPCVD предпочтительнее для выращивания алмазов, поскольку обеспечивает высокую плотность заряженных частиц и реактивных видов, позволяет осаждать алмазные пленки большой площади при более низком давлении и обеспечивает лучшую однородность выращенных пленок. Эти особенности приводят к получению высококачественных алмазов высокой чистоты с точным контролем их свойств.
Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

4.8

out of

5

Incredible precision and speed! This machine delivers flawless diamond deposition every time. Worth every penny!

Elara Voss

4.9

out of

5

The quality is unmatched. Our lab's efficiency has skyrocketed since we got this reactor. Highly recommend!

Rafael Mendoza

4.7

out of

5

Fast delivery and easy setup. The technological advancement in this system is mind-blowing. Love it!

Sienna Khatri

4.8

out of

5

Durability is top-notch. This machine handles continuous use without a hitch. A game-changer for our research!

Nikolai Petrov

4.9

out of

5

The value for money is exceptional. The results are consistently high-quality. Couldn't be happier!

Aiko Tanaka

4.7

out of

5

Superb performance! The 915MHz frequency makes all the difference. Our experiments have never been smoother.

Lucien Dubois

4.8

out of

5

This reactor is a beast! The diamond deposition is faster and more efficient than anything we've used before.

Zara Al-Mansoor

4.9

out of

5

The build quality is outstanding. It's clear this was designed with cutting-edge technology. Impressive!

Mateo Silva

4.7

out of

5

Reliable and efficient. This machine has exceeded all our expectations. A must-have for any serious lab.

Anya Kovalenko

4.8

out of

5

The speed of delivery was impressive. The machine works flawlessly right out of the box. Perfect!

Kai Zhang

4.9

out of

5

This reactor is a dream come true. The diamond quality is pristine, and the process is so streamlined. Love it!

Isabella Moretti

4.7

out of

5

Top-tier technology at an affordable price. This machine has revolutionized our workflow. Absolutely stellar!

Javier Rios

Продукты

915MHz MPCVD алмаз машина микроволновая плазмы химического осаждения пара система реактор

PDF Формат Каталог
Скачать

Категория

Mpcvd

PDF Формат Каталог
Скачать

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

Система установки с цилиндрическим резонатором MPCVD для выращивания алмазов в лаборатории

Система установки с цилиндрическим резонатором MPCVD для выращивания алмазов в лаборатории

Системы MPCVD от KINTEK: Выращивайте высококачественные алмазные пленки с высокой точностью. Надежные, энергоэффективные и удобные для начинающих. Экспертная поддержка.

Искровое плазменное спекание SPS-печь

Искровое плазменное спекание SPS-печь

Откройте для себя передовую печь для искрового плазменного спекания (SPS) компании KINTEK для быстрой и точной обработки материалов. Настраиваемые решения для исследований и производства.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы

Система KINTEK RF PECVD: Прецизионное осаждение тонких пленок для полупроводников, оптики и МЭМС. Автоматизированный низкотемпературный процесс с превосходным качеством пленки. Возможны индивидуальные решения.

Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина

Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина

Трубчатая печь KINTEK Slide PECVD: прецизионное осаждение тонких пленок с помощью радиочастотной плазмы, быстрая термоциклическая обработка и настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для полупроводников и солнечных батарей.

Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Установка KINTEK для нанесения покрытий методом PECVD обеспечивает прецизионные тонкие пленки при низких температурах для светодиодов, солнечных батарей и МЭМС. Настраиваемые, высокопроизводительные решения.

Ультра вакуумный электрод проходной разъем фланец провод питания для высокоточных приложений

Ультра вакуумный электрод проходной разъем фланец провод питания для высокоточных приложений

Ультра-вакуумные вводы электродов для надежных соединений сверхвысокого напряжения. Высокогерметичные, настраиваемые варианты фланцев, идеальные для полупроводниковых и космических применений.

Электрическая вращающаяся печь пиролиза завод машина малый вращающаяся печь кальцинер

Электрическая вращающаяся печь пиролиза завод машина малый вращающаяся печь кальцинер

Электрическая ротационная печь KINTEK: Точное прокаливание, пиролиз и сушка с температурой 1100℃. Экологически чистый, многозонный нагрев, настраиваемый для лабораторных и промышленных нужд.

Вакуумный горячий пресс печь машина для ламинирования и отопления

Вакуумный горячий пресс печь машина для ламинирования и отопления

Вакуумный ламинационный пресс KINTEK: Прецизионное склеивание для пластин, тонких пленок и LCP. Максимальная температура 500°C, давление 20 тонн, сертификат CE. Возможны индивидуальные решения.

Печь с контролируемой инертной азотной атмосферой 1200℃

Печь с контролируемой инертной азотной атмосферой 1200℃

Печь с контролируемой атмосферой KINTEK 1200℃: прецизионный нагрев с контролем газа для лабораторий. Идеально подходит для спекания, отжига и исследования материалов. Доступны настраиваемые размеры.

Печь с контролируемой инертной азотной атмосферой 1400℃

Печь с контролируемой инертной азотной атмосферой 1400℃

Печь с контролируемой атмосферой KT-14A для лабораторий и промышленности. Максимальная температура 1400°C, вакуумное уплотнение, контроль инертного газа. Возможны индивидуальные решения.

Печь с регулируемой инертной азотной атмосферой 1700℃

Печь с регулируемой инертной азотной атмосферой 1700℃

Печь с контролируемой атмосферой KT-17A: точный нагрев до 1700°C с контролем вакуума и газа. Идеально подходит для спекания, исследований и обработки материалов. Исследуйте прямо сейчас!

1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой

1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой

Откройте для себя печь KINTEK с разъемной трубкой 1200℃ с кварцевой трубкой для точных высокотемпературных лабораторных применений. Настраиваемая, долговечная и эффективная. Приобретайте прямо сейчас!

2200 ℃ Вакуумная печь для термообработки и спекания вольфрама

2200 ℃ Вакуумная печь для термообработки и спекания вольфрама

Вольфрамовая вакуумная печь 2200°C для высокотемпературной обработки материалов. Точное управление, превосходный вакуум, индивидуальные решения. Идеально подходит для исследований и промышленного применения.

Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Передовая трубчатая печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Равномерный нагрев, источник ВЧ-плазмы, настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для исследований полупроводников.

1200℃ муфельная печь для лаборатории

1200℃ муфельная печь для лаборатории

Муфельная печь KINTEK KT-12M: прецизионный нагрев до 1200°C с ПИД-регулированием. Идеально подходит для лабораторий, нуждающихся в быстром и равномерном нагреве. Изучите модели и варианты настройки.

1800℃ высокотемпературная муфельная печь для лаборатории

1800℃ высокотемпературная муфельная печь для лаборатории

Муфельные печи KINTEK: Прецизионный нагрев до 1800°C для лабораторий. Энергоэффективные, настраиваемые, с ПИД-регулятором. Идеальны для спекания, отжига и исследований.

1400℃ высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой и глиноземной трубкой

1400℃ высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой и глиноземной трубкой

Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионная высокотемпературная обработка до 2000°C для лабораторий. Идеально подходит для синтеза материалов, CVD и спекания. Доступны настраиваемые опции.

1700℃ высокотемпературная муфельная печь для лаборатории

1700℃ высокотемпературная муфельная печь для лаборатории

Муфельная печь KT-17M: высокоточная лабораторная печь с температурой 1700°C с ПИД-регулированием, энергоэффективностью и настраиваемыми размерами для промышленного и исследовательского применения.

1400℃ муфельная печь для лаборатории

1400℃ муфельная печь для лаборатории

Муфельная печь KT-14M: прецизионный нагрев до 1400°C с элементами SiC, ПИД-регулирование и энергоэффективная конструкция. Идеально подходит для лабораторий.

Популярные теги