Продукты High Temperature Furnaces CVD & PECVD Furnace Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины
Категории
Категории

Мгновенная Поддержка

Выберите способ связи с нашей командой

Время Ответа

В течение 8 часов в рабочие дни, 24 часа в праздники

Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины

CVD & PECVD Furnace

Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины

Артикул : KT-CTF12

Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки

Макс. температура
1200℃
Диаметр трубы печи
60 мм
Скорость нагрева
0-20℃/мин
ISO & CE icon

Доставка:

Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Цена

WhatsApp Цена

Детали и запчасти

1200C CVD машина с турбо-высоковакуумным насосом
1200C CVD машина с турбо высоким вакуумным насосом
1600C CVD-печь с турбовакуумным насосом
1600C CVD печь с турбо вакуумным насосом
Сплит-печь CVD с большой кварцевой трубкой
Сплит CVD печь с большой кварцевой трубкой
Высокотемпературная CVD-печь со встроенным контроллером
Высокотемпературная CVD печь с интегрированным контроллером

Введение

Опираясь на исключительные научные разработки и собственное производство, компания KINTEK предлагает передовые решения для высокотемпературных печей, предназначенные для различных лабораторных нужд. Печь Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией является примером этого, предлагая универсальную и высокопроизводительную систему, тщательно разработанную для сложных задач химического осаждения из паровой фазы (CVD).

Эта печь спроектирована с учетом точности и простоты использования. Ключевые особенности, которые принесут пользу вашим исследованиям, включают:

  • Раздельная камера печи: Обеспечивает прямой доступ к реакционным образцам и быстрое охлаждение, что значительно повышает эффективность и производительность эксперимента.
  • Возможность работы при высоких температурах: Используется высокочистая кварцевая трубка (стандартный диаметр 60 мм, возможны варианты на заказ), подходящая для процессов, требующих температуры до 1200°C.
  • Точный контроль газа: Оснащен 4-канальным массовым расходомером MFC, обеспечивающим точную и стабильную подачу исходных газов, таких как CH4, H2, O2 и N2, для получения стабильных результатов процесса.
  • Встроенная вакуумная станция: Имеет надежный пластинчато-роторный вакуумный насос 4L/S, способный достигать максимального вакуумного давления 10 Па, обеспечивая оптимальные условия для различных вакуумных процессов.

В компании KINTEK мы понимаем, что уникальные экспериментальные требования требуют гибких решений. Наша мощная способность к глубокой индивидуализации означает, что, хотя эта система оснащена передовыми функциями, идеально подходящими для материаловедения, обработки полупроводников и новаторских исследований, мы можем дополнительно адаптировать ее к вашим конкретным потребностям. Наш опыт охватывает обширную линейку продукции, включая муфельные, трубчатые, ротационные печи, вакуумные и атмосферные печи, а также передовые системы CVD/PECVD/MPCVD, что гарантирует, что мы предоставим идеальное решение для вашей работы.

Готовы расширить свои исследовательские возможности или обсудить индивидуальную конфигурацию для ваших CVD-процессов? Свяжитесь с нашими специалистами сегодня чтобы узнать, как трубчатая печь с разделенной камерой CVD может быть адаптирована к вашим точным экспериментальным требованиям, и запросить коммерческое предложение.

Приложения

Трубчатая печь с разделенной камерой CVD с вакуумной станцией CVD представляет собой универсальное и передовое оборудование, предназначенное для различных применений в области материаловедения, производства полупроводников, а также исследований и разработок. Эта установка особенно полезна для процессов, требующих точного контроля температуры, потока газа и уровня вакуума, что делает ее незаменимым инструментом для высококачественного синтеза и обработки материалов.

  • Синтез наноматериалов: Печь идеально подходит для выращивания нанопроволок, нанопленок и других наноструктурированных материалов, которые имеют решающее значение для разработки передовых электронных и оптоэлектронных устройств.
  • Вакуумное нанесение покрытий: Широко используется для осаждения тонких пленок на различные подложки, включая металлические, керамические и композитные пленки, которые необходимы для улучшения свойств материалов в таких областях, как оптика и электроника.
  • Обработка аккумуляторных материалов: Печь подходит для сушки и спекания материалов для аккумуляторов, что является важнейшим этапом в производстве высокоэффективных аккумуляторов.
  • Сушка и спекание материалов: Используется для высокотемпературного спекания керамики, огнеупорных материалов и специальных материалов, обеспечивая консолидацию и плотность этих материалов.
  • Атмосферная и вакуумная термообработка: Вертикальная конфигурация трубчатой печи позволяет закаливать, отжигать и отпускать небольшие стальные детали, а также наносить вертикальные CVD-покрытия, что делает ее ценным активом в металлургических процессах.
  • Исследования и разработки: Печь широко используется в университетах, научно-исследовательских институтах, промышленных и горнодобывающих предприятиях для проведения высокотемпературных экспериментов, спекания в атмосфере, восстановительной атмосфере и CVD/CVI экспериментов, способствуя развитию материаловедения и технологий.

Характеристики

Трубчатая печь с разделенной камерой CVD с вакуумной станцией CVD Machine - это сложное оборудование, предназначенное для передовых процессов химического осаждения из паровой фазы (CVD). В этой печи реализованы передовые технологии, позволяющие повысить эффективность и качество осаждения пленок, что делает ее идеальным решением для исследовательских и промышленных задач. Вот основные характеристики и их преимущества:

  • Высокая скорость осаждения пленки: Используя технологию радиочастотного свечения, эта печь значительно увеличивает скорость осаждения пленок, достигая 10Å/S. Такое быстрое осаждение имеет решающее значение для высокопроизводительного производства и исследований, позволяя экономить время и повышать производительность.
  • Равномерность на большой площади: Благодаря передовой технологии многоточечной подачи радиочастотного излучения и специализированному распределению газового тракта печь обеспечивает однородность пленки до 8 %. Такая однородность необходима для создания однородных и высококачественных покрытий на больших подложках, что повышает надежность производимых материалов.
  • Последовательное осаждение: В конструкции печи реализованы передовые концепции полупроводниковой промышленности, благодаря чему отклонение между подложками составляет менее 2 %. Такой высокий уровень последовательности крайне важен для приложений, требующих точных и воспроизводимых результатов, например, при производстве электронных компонентов.
  • Стабильный контроль процесса: Высокая стабильность оборудования обеспечивает непрерывность и постоянство процесса CVD. Такая надежность крайне важна для поддержания целостности процесса и снижения риска возникновения дефектов или сбоев во время работы.
  • Интеллектуальная система управления: Запатентованная компанией Bonage интегрированная система управления включает в себя высокоэффективную систему контроля температуры, использующую механизм отрицательной обратной связи с замкнутым контуром. Эта система в сочетании с высококачественными импортными электрическими компонентами повышает общую производительность и надежность оборудования, делая его практически необслуживаемым.
  • Универсальное применение: Печь подходит для осаждения различных типов пленок, включая металлические, керамические и композитные, поддерживает процессы непрерывного роста и может быть легко расширена дополнительными функциями, такими как плазменная очистка и травление. Такая универсальность делает ее ценным активом для различных исследований и производственных нужд.

Принцип работы

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD Machine - это высокотемпературная вакуумная печь, используемая для процессов химического осаждения из паровой фазы (CVD). CVD - это процесс, в котором тонкая пленка материала осаждается на подложку в результате химической реакции газа или пара. Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD Machine использует разделенную камеру печи для обеспечения легкого доступа к подложке во время процесса CVD. Вакуумная станция используется для создания вакуума в камере печи, что помогает удалить примеси и улучшить качество осаждаемой пленки.

Преимущества

  • Интуитивно понятное наблюдение за образцом и быстрое охлаждение: Разделенная камера печи позволяет непосредственно наблюдать за реакционными образцами и быстро охлаждать их.
  • Возможность работы при высоких температурах: Максимальная рабочая температура до 1200℃ для универсального применения.
  • Точный контроль газа: 4-канальный массовый расходомер MFC с источниками CH4, H2, O2 и N2 обеспечивает точную и стабильную подачу газа.
  • Совместимость с вакуумом: Вакуумная станция с пластинчато-роторным вакуумным насосом 4L/S обеспечивает максимальное вакуумное давление до 10 Па, позволяя проводить различные вакуумные процессы.
  • Высокоскоростной нагрев и охлаждение: Система скольжения камеры печи обеспечивает быстрый нагрев и охлаждение для эффективной обработки образцов.
  • Усовершенствованный температурный контроль: ПИД-программируемый температурный контроль с отличной точностью, дистанционное управление и возможность централизованного управления.
  • Удобный интерфейс: Контроллер CTF Pro с 7-дюймовым сенсорным TFT-экраном обеспечивает интуитивно понятную настройку программ и анализ данных.
  • Универсальная вакуумная установка: Вакуумный фланец из нержавеющей стали с адаптируемыми портами позволяет использовать различные вакуумные насосные станции для создания индивидуальной вакуумной среды.
  • Энергоэффективность: Система водяного охлаждения и конструкция газоотвода сводят к минимуму потребление энергии.
  • Широкая применимость: Подходит для CVD, диффузии и других термообработок в условиях вакуума и защиты атмосферы.

Преимущество безопасности

  • Трубчатая печь Kindle Tech имеет защиту от перегрузки по току и функцию сигнализации о перегреве, печь автоматически отключит питание.
  • Печь встроена в функцию обнаружения тепловой пары, печь прекратит нагрев и включит сигнал тревоги после обнаружения поломки или отказа
  • KT-CTF12 Pro поддерживает функцию перезапуска при отключении питания, печь возобновит программу нагрева печи при подаче питания после сбоя

Технические характеристики

Модель печи KT-CTF12-60
Макс. температура 1200℃
Постоянная рабочая температура 1100℃
Материал трубки печи Высокая чистота кварца
Диаметр трубки печи 60 мм
Длина зоны нагрева 1x450 мм
Материал камеры Японское глиноземное волокно
Нагревательный элемент проволочная спираль из Cr2Al2Mo2
Скорость нагрева 0-20℃/мин
Тепловая пара Встроенный тип K
Контроллер температуры Цифровой ПИД-регулятор/ПИД-регулятор с сенсорным экраном
Точность регулирования температуры ±1℃
Расстояние скольжения 600 мм
Блок точного контроля газа
Расходомер Массовый расходомер MFC
Газовые каналы 4 канала
Расход MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0- 100SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2
Линейность ±0,5% F.S.
Повторяемость ±0,2% F.S.
Трубопровод и клапан Нержавеющая сталь
Максимальное рабочее давление 0,45 МПа
Контроллер расходомера Контроллер с цифровой ручкой/контроллер с сенсорным экраном
Стандартный вакуумный блок (опция)
Вакуумный насос Пластинчато-роторный вакуумный насос
Расход насоса 4L/S
Вакуумный порт всасывания KF25
Вакуумметр Кремниевый вакуумметр Пирани/Резистанс
Номинальное вакуумное давление 10Па
Установка высокого вакуума (опция)
Вакуумный насос Пластинчато-роторный насос+молекулярный насос
Расход насоса 4L/S+110L/S
Порт всасывания вакуума KF25
Вакуумметр Комбинированный вакуумметр
Номинальное вакуумное давление 6x10-5Pa
Выше спецификации и установки могут быть настроены

Стандартный пакет

Нет. Описание Количество
1 Печь 1
2 Кварцевая трубка 1
3 Вакуумный фланец 2
4 Тепловой блок трубки 2
5 Крючок трубчатого термоблока 1
6 Термостойкая перчатка 1
7 Точный контроль газа 1
8 Вакуумный блок 1
9 Руководство по эксплуатации 1

Дополнительная установка

  • Обнаружение и мониторинг газов в трубке, таких как H2, O2 и т.д.
  • Независимый контроль и запись температуры в печи
  • Порт связи RS 485 для дистанционного управления ПК и экспорта данных
  • Контроль расхода подаваемых газов, например, массовый расходомер или поплавковый расходомер
  • Контроллер температуры с сенсорным экраном и универсальными функциями, удобными для оператора
  • Установка насосных станций высокого вакуума, таких как лопастной вакуумный насос, молекулярный насос, диффузионный насос

Для получения запросов на изготовление на заказ или для получения дополнительной информации о том, как KINTEK может поддержать ваши конкретные исследовательские потребности, пожалуйста заполните нашу контактную форму или свяжитесь с нашей командой экспертов.

FAQ

Что такое трубчатая печь и как она работает?

Трубчатая печь - это нагревательное устройство, которое генерирует тепло через источник тепла и передает его заготовке или среде через печную трубу. Она обеспечивает стабильный и равномерный нагрев, подходящий для различных промышленных применений. Система контроля температуры отслеживает температуру в печи с помощью термопар или других датчиков, передавая сигнал обратно в контроллер, который регулирует мощность нагревательных элементов для поддержания точного температурного режима.

Каковы основные области применения многозонных трубчатых печей?

Многозонные трубчатые печи используются в различных коммерческих и исследовательских областях, включая производство полупроводников и аккумуляторов, изготовление термопар и кабелей с минеральной изоляцией, вакуумную пайку и термообработку, вакуумное отверждение и спекание, испытания воды/отходов/почвы, аэрокосмические испытания керамики и металлов, анализ нефти и газа, твердооксидные топливные элементы и производство полимерных композитов/графена. Они также используются для термообработки металлов (закалка, отпуск, отжиг), предварительного нагрева для сварки, спекания керамики/порошковой металлургии, обработки покрытий и экспериментов по исследованию материалов.

В чем заключается принцип работы установки MPCVD?

Установка MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) работает за счет использования микроволнового генератора для получения плазмы путем ионизации газовой смеси. Эта плазма помещается в реакционную камеру под низким давлением, где подложка удерживается держателем подложки. Основные компоненты включают в себя микроволновый генератор, плазменную камеру, систему подачи газа, держатель подложки и вакуумную систему.

Для чего используется установка PECVD?

Установка PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) широко используется при обработке кремния и других подобных материалов, в нанотехнологиях, производстве солнечных батарей и электронике. Она имеет решающее значение для осаждения тонких пленок в солнечных батареях и создания высококачественных компонентов для электронных устройств. Области применения включают изготовление электронных устройств (изоляция проводящих слоев, конденсаторов, пассивация поверхности), полупроводниковых приборов, печатаемой электроники и защиты медицинских приборов.

Каковы основные области применения вакуумных печей?

Вакуумные печи в основном используются для вакуумной закалки (отпуска, отжига) для достижения желаемых свойств материалов, вакуумной пайки для сварки ниже температуры плавления основного металла, вакуумного спекания для соединения зерен металлического порошка в детали и вакуума плюс магнетизм для обработки металлов и магнитных материалов. Они также широко используются в полупроводниковых приборах, оптических тонких пленках, функциональных покрытиях, наноматериалах и других областях, обеспечивая важную техническую поддержку для подготовки материалов и улучшения их функциональности.

Что такое вертикальная трубчатая печь?

Вертикальная трубчатая печь - это высокотемпературное нагревательное устройство вертикальной ориентации, обеспечивающее точный контроль температуры, равномерный нагрев и эффективное использование энергии. Вертикальная конструкция позволяет экономить место и особенно полезна для процессов, которые выигрывают от вертикальной установки.

Для чего используется атмосферная печь?

Атмосферные печи широко используются в обработке материалов, металлообработке, производстве полупроводников, солнечных батарей, оптических материалов, керамики и стекла, производстве электронных материалов, а также в исследованиях и разработке новых энергетических материалов.

Что такое вакуумная индукционная печь?

Вакуумная индукционная печь - это специализированное нагревательное устройство, которое плавит металлы в вакуумной среде с использованием технологии индукционного нагрева. Она предназначена для удаления примесей и улучшения качества расплавленных металлов за счет предотвращения окисления и загрязнения.

В чем заключается принцип работы установки CVD?

Принцип химического осаждения из паровой фазы (CVD) заключается во введении паров газообразных или жидких реактивов, содержащих элементы пленки и другие необходимые газы, в реакционную камеру. Под воздействием энергии в виде повышенной температуры, плазменного воздействия, светового излучения или других средств на поверхности подложки происходят химические реакции, в результате которых образуются новые твердые вещества, которые осаждаются в виде тонких пленок. Принцип работы CVD-печи заключается во введении газов-прекурсоров в камеру печи, где под воздействием высоких температур эти газы вступают в реакцию или разлагаются у поверхности подложки. Нужный материал осаждается на подложке в виде твердой пленки, а побочные продукты и неиспользованные газы удаляются через вытяжную или вакуумную систему.

Каковы основные области применения трубчатых печей?

Трубчатые печи широко используются для испытаний на газовую закалку в вакууме или в атмосфере, для термообработки, включая синтез и очистку, окисление, диффузию, прокаливание и термический отжиг неорганических и органических соединений. Они также используются при испытаниях материалов, термической обработке и химических реакциях, где требуется контролируемая скорость нагрева и охлаждения. Вертикальные трубчатые печи особенно подходят для процессов, в которых образцы необходимо опускать в печь сверху.

Каковы ключевые особенности многозонных трубчатых печей?

Основные характеристики: 1) гибкие возможности отжига и химического осаждения паров, 2) размещение образцов размером до 60 мм (2 дюйма), 3) встроенный коллектор для удобной подачи газа, 4) естественные температурные градиенты с более холодными концами и равномерным нагревом в центре, 5) возможность адаптации к различным газам или условиям вакуума, 6) несколько независимо управляемых зон нагрева для точного температурного профиля.

В чем преимущества использования MPCVD-установки?

Установки MPCVD обладают рядом преимуществ: они исключают загрязнение от горячих проводов (неполярный разряд), позволяют использовать несколько газов, обеспечивают стабильный контроль температуры реакции, позволяют получать плазму стабильного разряда большой площади, а также обеспечивают точный контроль толщины пленки, чистоты и качества кристаллов. Кроме того, они позволяют получать алмазные пленки большой площади, обеспечивают стабильные условия, поддерживают постоянное качество образцов и являются экономически эффективными.

Каковы основные типы установок PECVD?

Установки PECVD бывают различных типов, включая установки с наклонной вращающейся плазмой для химического осаждения в трубчатых печах PECVD, трубчатые печи CVD с разделенной камерой и вакуумными станциями, системы RF PECVD и установки MPCVD с цилиндрическим резонатором. Каждый тип предназначен для решения конкретных задач, таких как исследование полупроводников, осаждение тонких пленок и выращивание алмазов в лабораторных условиях.

Каковы основные характеристики вакуумной печи?

Вакуумная печь нагревает материалы, в основном металлы, при очень высоких температурах с низким уровнем загрязнения и высокой консистенцией. Материалы могут загружаться вертикально или горизонтально. Вакуумные печи могут быть периодического или непрерывного действия, в зависимости от охлаждающей среды, размера загрузки, температуры и давления. Они бывают с горячими и холодными стенками, причем печи с холодными стенками отличаются более высоким диапазоном рабочих температур, более быстрым нагревом и охлаждением, а также большей равномерностью температуры.

Для каких целей используется вертикальная трубчатая печь?

Вертикальные трубчатые печи широко используются при испытаниях материалов, термической обработке и химических реакциях, требующих контролируемой скорости нагрева и охлаждения. Они также используются в химической промышленности для производства синтетических смол, каучука, красок и красителей; в пищевой промышленности для выпечки, сушки и стерилизации; в металлургии для процессов плавки, расплавления и термообработки.

Каковы ключевые особенности атмосферных печей?

Основные характеристики атмосферной печи включают ее способность поддерживать определенную газовую среду, такую как инертные газы (например, азот, аргон), восстановительные газы (например, водород) или вакуумные условия, для предотвращения окисления, загрязнения или нежелательных химических реакций во время нагрева. Печь обычно состоит из высокотемпературной бокс-камеры, нагревательных элементов и системы подачи газа. Современные модели могут включать программируемые температурные контроллеры, равномерные зоны нагрева и защитные блокировки для обеспечения надежности работы.

Каковы основные области применения вакуумных индукционных печей?

Вакуумные индукционные печи широко используются в таких отраслях, как аэрокосмическая промышленность, металлургия и исследования материалов, для таких процессов, как плавление, спекание, термообработка и пайка металлов и сплавов. Они особенно полезны для производства высокочистых металлов и современных материалов.

В чем преимущества использования CVD-установки?

CVD обеспечивает высокую чистоту, однородность и конформность, что делает его пригодным для нанесения покрытий сложной геометрии. Он используется в таких отраслях, как полупроводниковая, аэрокосмическая и биомедицинская. В отличие от PVD, CVD не ограничивается нанесением в прямой видимости, а покрытие сцепляется с поверхностью в процессе реакции, создавая превосходную адгезию.

Каковы преимущества использования трубчатых печей?

Трубчатые печи обладают рядом преимуществ, включая отработанную технологию, простую конструкцию печи, низкое энергопотребление, высокую тепловую эффективность, простоту эксплуатации и управления, возможность непрерывного производства, точный контроль температуры, равномерное распределение температуры и приспособленность к различным атмосферам. Они также обеспечивают более высокий выход продукции, высокую концентрацию продукта и возможность рекуперации большей части крекинг-газа и дымовых газов. Для крупномасштабного производства можно объединить несколько печей.

Как работает многозонная трубчатая печь?

Многозонная трубчатая печь работает следующим образом: 1) генерации тепла с помощью нескольких независимо управляемых нагревательных элементов, 2) равномерной передачи этого тепла по трубе печи к заготовке, 3) создания точных температурных градиентов (для таких процессов, как выращивание CVD-пленок) или расширенных зон с постоянной температурой (когда в нескольких зонах устанавливается одинаковая температура), и 4) поддержания стабильных условий нагрева, подходящих для различных промышленных процессов.

Каковы основные области применения установок MPCVD?

MPCVD-установки в основном используются для синтеза алмазов высокой чистоты, выращенных в лабораторных условиях, включая алмазные пленки и другие современные материалы. Их применение распространяется на исследования полупроводников, оптику и MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) благодаря способности получать высококачественные однородные пленки с точным контролем.

Как работает установка PECVD?

Установка PECVD работает за счет использования плазмы для усиления процесса химического осаждения из паровой фазы. Скорость осаждения и свойства пленки (например, толщина, твердость, коэффициент преломления) контролируются путем настройки таких параметров, как скорость потока газа, рабочая температура и условия плазмы. Плазма позволяет точно регулировать такие свойства материала, как плотность, чистота и шероховатость, что позволяет создавать высококачественные тонкие пленки при более низких температурах подложки.

Как работает вакуумная печь?

Принцип работы вакуумной печи заключается в удалении воздуха и газов из камеры для создания вакуума, который предотвращает окисление и загрязнение. Нагревательные элементы генерируют тепло, а система контроля температуры регулирует процесс нагрева для обеспечения точных и стабильных результатов. Вакуумная система откачивает воздух в камеру печи, создавая вакуум, после чего нагревательный элемент нагревает камеру, а система контроля температуры регулирует скорость нагрева и время выдержки, позволяя нагревать материалы в условиях вакуума.

В чем преимущества вертикальных трубчатых печей?

Вертикальные трубчатые печи обладают рядом преимуществ, в том числе меньшей площадью по сравнению с горизонтальными печами, что делает их идеальными для лабораторий с ограниченным пространством. Они также обеспечивают эффективную и энергосберегающую работу, точный контроль температуры, гибкость в использовании, простоту в эксплуатации, безопасность, надежность и соответствие экологическим стандартам.

Как работает атмосферная печь?

Трубчатая печь генерирует тепло через источник тепла и передает его нагреваемой заготовке или среде через печную трубу. Этот процесс обеспечивает стабильный и равномерный нагрев, подходящий для различных промышленных применений. Принцип спекания заключается в нагревании материалов до высоких температур ниже точки плавления, в результате чего частицы соединяются и образуют твердую структуру. Тепло и иногда давление применяются для уплотнения и плотности материалов, улучшая их механические и физические свойства.

Как работает вакуумная индукционная печь?

Печь работает за счет создания вакуума в камере для удаления воздуха и газов, что предотвращает окисление. Затем для расплавления металлов используется индукционный нагрев. Такое сочетание вакуума и индукционного нагрева обеспечивает чистую, контролируемую среду для высококачественной обработки металлов.

Для каких целей используется CVD-установка?

CVD используется в различных областях, включая производство полупроводниковых приборов (например, изолирующих слоев из нитрида кремния), оптических покрытий, защитных покрытий, а также передовых материалов, таких как графен и углеродные нанотрубки, которые обладают уникальными электрическими, тепловыми и механическими свойствами. Он также используется для нанесения конформных пленок и модификации поверхностей подложек, что невозможно осуществить традиционными методами. Области применения включают атомно-слоевое осаждение, интегральные схемы, фотоэлектрические устройства, износостойкие покрытия, полимерные покрытия со специальными свойствами, металлоорганические каркасы для газочувствительных устройств и мембранные покрытия для очистки воды.

Какие типы трубчатых печей существуют?

Существуют различные типы трубчатых печей, включая лабораторные кварцевые печи, ротационные печи с несколькими зонами нагрева, многозонные трубчатые печи, высокотемпературные трубчатые печи (до 1700°C), трубчатые печи PECVD для осаждения тонких пленок, вакуумные трубчатые печи и вертикальные трубчатые печи. Они оснащены различными функциями, такими как быстрый нагрев, регулируемый наклон, поворот на 360°, настраиваемые зоны нагрева и готовность к вакууму для различных применений.

Каковы преимущества использования многозонной трубчатой печи?

К преимуществам относятся: 1) зрелая, надежная технология с простой конструкцией печи, 2) низкое энергопотребление при высокой тепловой эффективности, 3) простота эксплуатации и точное управление, 4) возможность непрерывного производства, 5) возможность создания протяженных равномерных зон нагрева или точных температурных градиентов, 6) более высокий выход продукции в химических процессах, 7) возможность рекуперации технологических газов, 8) Широкая применимость сырья, и 9) Масштабируемость за счет комбинирования печей для крупномасштабного производства.

Каковы основные компоненты установки MPCVD?

Основные компоненты MPCVD-установки включают микроволновой генератор (для получения плазмы), реакционную камеру (для размещения подложки и газовой смеси под низким давлением), держатель подложки (для удержания подложки во время осаждения), систему подачи газа (для введения и контроля газовой смеси) и вакуумную систему (для поддержания необходимой среды низкого давления).

Каковы основные характеристики установки PECVD?

Основные характеристики установки PECVD включают универсальную базовую консоль с электронными подсистемами, технологическую камеру PECVD с портом откачки, нагреваемые верхний и нижний электроды, программное обеспечение для изменения параметров, а также газовую капсулу с газовыми линиями, контролируемыми по массовому расходу. Система обычно включает камеру, вакуумный насос (насосы) и систему распределения газа, конфигурация которой зависит от источника питания, типа газа и датчиков давления.

Каковы преимущества использования вакуумной печи?

Преимущества вакуумной печи включают в себя точный контроль температуры на небольшой площади, низкое загрязнение продукта углеродом, кислородом и другими газами, быстрое охлаждение (закалку) продукта и контролируемые компьютером процессы для обеспечения металлургической повторяемости. Кроме того, вакуумные печи обеспечивают высокочистую среду обработки, высокую скорость обработки из-за отсутствия необходимости регулировки атмосферы и высокую управляемость процессом обработки, поскольку на него не влияет атмосфера.

Как работает вертикальная трубчатая печь?

Вертикальная трубчатая печь генерирует тепло через источник тепла и передает его нагреваемой заготовке или среде через печную трубу. Этот процесс обеспечивает стабильный и равномерный нагрев, что делает ее подходящей для различных промышленных применений.

Каковы преимущества использования атмосферной печи?

Преимущества атмосферных печей включают в себя возможность контроля окружающей среды путем регулировки компонентов атмосферы, более низкую стоимость по сравнению с вакуумными печами и широкий спектр применения, подходящий для различных материалов, таких как металлы и керамика. Кроме того, атмосферные трубчатые печи обеспечивают точный контроль температуры, гибкое управление атмосферой, высокую эффективность нагрева, энергосбережение и защиту окружающей среды, безопасную и надежную работу, широкое применение и разумную конструкцию.

Каковы преимущества использования вакуумной индукционной печи?

К основным преимуществам относятся: 1. Обработка без загрязнений благодаря отсутствию кислорода и реактивных газов. 2. Точный контроль температуры для получения стабильных результатов. 3. Универсальность в работе с различными материалами и процессами. 4. Высокая эффективность при минимальных потерях тепла. 5. Улучшенное качество продукции за счет удаления примесей.

Каковы основные характеристики установки CVD?

Основные характеристики CVD-печи включают в себя высокую температуру (обычно от 200°C до более 1500°C), точный контроль расхода газа, контроль атмосферы (вакуум, атмосферное давление или среда низкого давления), равномерный нагрев для равномерного осаждения тонких пленок, а также эффективную систему вытяжки для удаления побочных продуктов и непрореагировавших газов. Основные характеристики процесса нанесения покрытий CVD включают нанесение при повышенных температурах для облегчения реакции, как правило, в вакууме. Перед нанесением покрытия с поверхности детали должны быть удалены загрязняющие вещества.

Каких температурных диапазонов могут достигать трубчатые печи?

Трубчатые печи выпускаются в различных температурных диапазонах для решения различных задач. Стандартные модели обычно достигают температуры до 1200°C, а высокотемпературные модели могут достигать от 1400°C до 1700°C. Некоторые специализированные модели могут достигать даже 2000°C. Температурные возможности зависят от используемых нагревательных элементов и материалов печных труб (например, кварца или глинозема).

Какие типы многозонных трубчатых печей существуют?

Доступные типы включают: 1) вращающиеся трубчатые печи с несколькими зонами нагрева (с возможностью наклона и вращения), 2) лабораторные кварцевые трубчатые печи (до 1700°C с 1-10 зонами), 3) печи для быстрой термической обработки (RTP) с высокой скоростью нагрева, 4) трубчатые печи CVD для химического осаждения из паровой фазы, 5) печи PECVD для процессов с плазменным усилением, 6) вакуумные трубчатые печи и 7) трубчатые печи высокого давления. Они имеют различные конфигурации с настраиваемыми номерами зон, температурными диапазонами и специальными функциями, такими как контроль вакуума/атмосферы.

Как MPCVD-установка повышает энергоэффективность?

Установка MPCVD повышает энергоэффективность благодаря безэлектродному процессу, который снижает загрязнение и потери энергии. Микроволновая плазма генерируется с высокой эффективностью, а модульная и масштабируемая конструкция системы позволяет оптимизировать использование энергии в различных промышленных приложениях.

Каковы преимущества использования установки PECVD?

Установки PECVD обладают рядом преимуществ, включая высокую скорость осаждения (например, в 160 раз быстрее для нитрида кремния по сравнению с CVD), возможность создавать пленки с различными свойствами путем изменения параметров плазмы и состава газа, высококачественные и однородные по толщине пленки, хорошую адгезию, снижение риска растрескивания и пригодность для сложных поверхностей. Они также обеспечивают высокую устойчивость к растворителям и коррозии, химическую и термическую стабильность.

Какие типы материалов можно обрабатывать в вакуумной печи?

Вакуумные печи в основном используются для обработки металлов, включая спекание, отжиг и пайку. Они также подходят для обработки керамики, композитов и других современных материалов, особенно в областях, требующих высокой чистоты и точного контроля температуры, таких как полупроводниковые приборы, оптические тонкие пленки и наноматериалы.

Какие типы вертикальных трубчатых печей доступны?

Вертикальные трубчатые печи бывают разных типов, в том числе с одной или несколькими зонами нагрева, возможностью быстрой термической обработки (RTP), вакуумными станциями и настраиваемыми решениями для конкретных лабораторных нужд, таких как CVD (химическое осаждение из паровой фазы) и PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с усилением плазмы).

Какие типы газов могут использоваться в атмосферных печах?

Атмосферная печь может поддерживать определенные газовые среды, такие как инертные газы (например, азот, аргон), восстановительные газы (например, водород) или вакуумные условия для предотвращения окисления, загрязнения или нежелательных химических реакций во время нагрева.

Какие типы вакуумных индукционных печей существуют?

Вакуумные индукционные печи бывают различных конструкций, в том числе периодического или непрерывного действия, с горячей или холодной стенкой. Они также могут быть настроены на основе охлаждающей среды, размера загрузки, температурных требований и условий давления для удовлетворения конкретных промышленных или исследовательских потребностей.

Какие типы CVD-установок существуют?

Существует несколько типов CVD-установок, включая установки с цилиндрическим резонатором MPCVD для выращивания алмазов в лабораторных условиях, универсальные CVD-печи для химического осаждения из паровой фазы, трубчатые печи Slide PECVD с газификаторами жидкости, вакуумные печи горячего прессования, наклонные роторные трубчатые печи для химического осаждения с расширенной плазмой (PECVD), трубчатые печи CVD с разделенной камерой и вакуумными станциями и системы RF PECVD для химического осаждения из паровой плазмы с расширенной радиочастотой. Каждый тип предназначен для решения конкретных задач и обладает уникальными характеристиками.

Могут ли трубчатые печи работать в разных атмосферах?

Да, трубчатые печи универсальны и могут работать в различных атмосферах, включая воздух, инертные газы (например, аргон или азот), вакуум и специальные газовые смеси. Это делает их пригодными для широкого спектра процессов, включая окисление, восстановление, отжиг и химическое осаждение из паровой фазы (CVD). Многие модели поставляются с вакуумными конструкциями и системами контроля газа для точного управления атмосферой.

Почему MPCVD предпочтительнее для выращивания алмазов?

MPCVD предпочтительнее для выращивания алмазов, поскольку обеспечивает высокую плотность заряженных частиц и реактивных видов, позволяет осаждать алмазные пленки большой площади при более низком давлении и обеспечивает лучшую однородность выращенных пленок. Эти особенности приводят к получению высококачественных алмазов высокой чистоты с точным контролем их свойств.

Какие материалы можно осаждать с помощью установки PECVD?

На установках PECVD можно осаждать различные материалы, включая нитрид кремния (SiN) и карбид кремния (SiC), которые особенно полезны в полупроводниковых и высокотемпературных МЭМС-приложениях. Эти машины универсальны и могут использоваться для создания тонких пленок с индивидуальными свойствами для конкретных промышленных и исследовательских нужд.

В чем разница между вакуумными печами с горячими и холодными стенками?

В вакуумных печах с горячей стенкой нагревательные элементы и изоляция находятся внутри вакуумной камеры, в то время как в печах с холодной стенкой эти компоненты расположены снаружи камеры. Печи с холодными стенками обеспечивают более высокий диапазон рабочих температур, более быстрый нагрев и охлаждение, а также большую равномерность температуры по сравнению с печами с горячими стенками.

Почему стоит выбрать вертикальную трубчатую печь, а не горизонтальную?

Вертикальная трубчатая печь выбирается вместо горизонтальной в первую очередь из-за компактности конструкции и возможности использовать преимущества гравитационных процессов. Вертикальная установка способствует равномерному распределению тепла и материала, что делает ее идеальной для конкретных экспериментов или производственных процессов.

Какие функции безопасности предусмотрены в современных атмосферных печах?

Современные атмосферные печи могут включать программируемые температурные контроллеры, равномерные зоны нагрева и защитные блокировки для обеспечения эксплуатационной надежности. Атмосферная печь с программным управлением включает систему защиты, которая контролирует критические параметры, такие как температура печи и содержание кислорода. В случае каких-либо отклонений система может автоматически отключиться или включить сигнал тревоги, чтобы защитить печь и находящиеся в ней образцы.

Почему контроль температуры важен для вакуумных индукционных печей?

Точный контроль температуры имеет решающее значение для обеспечения равномерного нагрева, предотвращения разрушения материала и достижения стабильных результатов в таких процессах, как плавление, спекание или термообработка. Передовые системы управления в этих печах поддерживают точную температуру на протяжении всего процесса.

Что делает трубчатые печи KINTEK особенными?

Трубчатые печи KINTEK отличаются точностью температурного контроля (некоторые модели обеспечивают быстрый нагрев до 100°C/с), настраиваемыми зонами нагрева (от 1 до 10 зон), конструкциями, готовыми к вакууму, и сертификатами безопасности. Они предлагают универсальные решения для таких передовых приложений, как синтез материалов, CVD, спекание и исследования полупроводников, с возможностью установки поворотных механизмов, разъемных камер и конфигураций с плазменным усилением.

Почему PECVD предпочтительнее других методов осаждения?

PECVD предпочтительнее других методов осаждения, поскольку позволяет осаждать при более низких температурах подложки, обеспечивает хорошее покрытие ступеней и позволяет осаждать пленки с высокой равномерностью. Кроме того, этот метод обеспечивает превосходный контроль над такими свойствами материала, как коэффициент преломления, напряжение и твердость, что делает его идеальным для приложений, требующих точных характеристик тонких пленок.

Можно ли настроить вакуумные печи под конкретные задачи?

Да, вакуумные печи могут быть настроены в соответствии с требованиями к охлаждающей среде, размеру загрузки, температуре и давлению. Они могут быть спроектированы как системы периодического или непрерывного действия и могут быть адаптированы для конкретных применений, таких как спекание, пайка или термообработка, с возможностью вертикальной или горизонтальной загрузки.

Какие температурные диапазоны могут достигать вертикальные трубчатые печи?

Вертикальные трубчатые печи могут достигать высоких температур, как правило, до 1800°C, в зависимости от модели и конфигурации. Они предназначены для точного нагрева и могут быть настроены для удовлетворения конкретных температурных требований для различных применений.

Какие материалы можно обрабатывать в вакуумной индукционной печи?

В этих печах можно обрабатывать широкий спектр материалов, включая металлы, сплавы, керамику и композиты. Они особенно эффективны для материалов, требующих высокой чистоты или чувствительных к окислению, таких как титан, сплавы на основе никеля и редкоземельные металлы.

Можно ли настроить вертикальные трубчатые печи?

Да, вертикальные трубчатые печи хорошо поддаются настройке. Они могут быть оснащены такими функциями, как несколько зон нагрева, возможность быстрого нагрева, вакуумные системы и специальные системы контроля атмосферы, чтобы удовлетворить уникальные потребности различных исследовательских и промышленных приложений.

Какую пользу приносит вакуумная среда при обработке материалов?

Вакуумная среда устраняет кислород и другие химически активные газы, предотвращая окисление и загрязнение материалов. Она также позволяет лучше контролировать атмосферу обработки, снижает теплопотери и позволяет работать при более высоких температурах без разрушения материала.
Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

4.9

out of

5

Incredible precision and speed! This furnace exceeded my expectations for lab efficiency.

Elara Voss

4.8

out of

5

Top-notch quality and durability. A game-changer for our research team!

Rajiv Mehta

4.7

out of

5

Fast delivery and easy setup. The vacuum station works flawlessly.

Anya Petrova

4.9

out of

5

Worth every penny! The split chamber design is a brilliant innovation.

Lucien Dubois

4.8

out of

5

Perfect for high-temperature applications. Highly recommend for advanced labs.

Zara Al-Mansoor

4.9

out of

5

Exceptional performance and reliability. Our experiments have never been smoother.

Hiroshi Tanaka

4.7

out of

5

Love the compact design! Saves space without compromising on power.

Freya Olsen

4.8

out of

5

The vacuum seal is impeccable. No leaks, no issues—just perfect results.

Diego Mendoza

4.9

out of

5

Cutting-edge technology at its finest. A must-have for serious researchers.

Nia Williams

4.8

out of

5

Superb value for money. The build quality is outstanding.

Kai Zhang

4.7

out of

5

Quick and efficient service. The furnace arrived in perfect condition.

Sofia Ivanova

4.9

out of

5

The split chamber feature is revolutionary. Makes multitasking a breeze.

Elias Schmidt

4.8

out of

5

Reliable and consistent performance. Our lab productivity has soared.

Aisha Khan

4.7

out of

5

Easy to operate and maintain. A fantastic investment for any lab.

Mateo Rossi

4.9

out of

5

The temperature control is spot-on. Perfect for delicate experiments.

Leila Chen

4.8

out of

5

Durable and built to last. This machine is a workhorse.

Omar Farooq

4.9

out of

5

Innovative design meets superior functionality. Absolutely love it!

Isla MacKenzie

Продукты

Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины

PDF Формат Каталог
Скачать

Категория

Cvd & Pecvd Furnace

PDF Формат Каталог
Скачать

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой

1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой

Откройте для себя печь KINTEK с разъемной трубкой 1200℃ с кварцевой трубкой для точных высокотемпературных лабораторных применений. Настраиваемая, долговечная и эффективная. Приобретайте прямо сейчас!

Машина печи трубки CVD с несколькими зонами нагрева для оборудования химического осаждения из паровой фазы

Машина печи трубки CVD с несколькими зонами нагрева для оборудования химического осаждения из паровой фазы

Многозональные трубчатые CVD-печи KINTEK обеспечивают точный контроль температуры для современного осаждения тонких пленок. Идеально подходят для исследований и производства, настраиваются под нужды вашей лаборатории.

Изготовленная на заказ универсальная печь трубки CVD химическое осаждение паров CVD оборудование машина

Изготовленная на заказ универсальная печь трубки CVD химическое осаждение паров CVD оборудование машина

Трубчатая CVD-печь KINTEK обеспечивает точный контроль температуры до 1600°C, идеально подходящий для осаждения тонких пленок. Настраивается для исследовательских и промышленных нужд.

Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина

Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина

Трубчатая печь KINTEK Slide PECVD: прецизионное осаждение тонких пленок с помощью радиочастотной плазмы, быстрая термоциклическая обработка и настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для полупроводников и солнечных батарей.

Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Установка KINTEK для нанесения покрытий методом PECVD обеспечивает прецизионные тонкие пленки при низких температурах для светодиодов, солнечных батарей и МЭМС. Настраиваемые, высокопроизводительные решения.

Вращающаяся трубчатая печь с несколькими зонами нагрева

Вращающаяся трубчатая печь с несколькими зонами нагрева

Прецизионная ротационная трубчатая печь с несколькими зонами нагрева для высокотемпературной обработки материалов, с регулируемым наклоном, вращением на 360° и настраиваемыми зонами нагрева. Идеально подходит для лабораторий.

1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой

1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой

Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионный нагрев до 1700°C для синтеза материалов, CVD и спекания. Компактная, настраиваемая и готовая к работе в вакууме. Узнайте прямо сейчас!

Лабораторная вакуумная наклонная вращающаяся трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Лабораторная вакуумная наклонная вращающаяся трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Лабораторная ротационная печь KINTEK: прецизионный нагрев для прокаливания, сушки, спекания. Индивидуальные решения с вакуумом и контролируемой атмосферой. Расширьте возможности исследований прямо сейчас!

Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь

Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь

Трубчатая печь высокого давления KINTEK: прецизионный нагрев до 1100°C с контролем давления 15 МПа. Идеально подходит для спекания, выращивания кристаллов и лабораторных исследований. Возможны индивидуальные решения.

Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения

Передовая трубчатая печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Равномерный нагрев, источник ВЧ-плазмы, настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для исследований полупроводников.

Вращающаяся трубчатая печь с вакуумным уплотнением непрерывного действия

Вращающаяся трубчатая печь с вакуумным уплотнением непрерывного действия

Прецизионная ротационная трубчатая печь для непрерывной вакуумной обработки. Идеально подходит для прокаливания, спекания и термообработки. Настраиваемая температура до 1600℃.

Печь с контролируемой инертной азотной атмосферой 1400℃

Печь с контролируемой инертной азотной атмосферой 1400℃

Печь с контролируемой атмосферой KT-14A для лабораторий и промышленности. Максимальная температура 1400°C, вакуумное уплотнение, контроль инертного газа. Возможны индивидуальные решения.

Высокотемпературная муфельная печь для лабораторного измельчения и предварительного спекания

Высокотемпературная муфельная печь для лабораторного измельчения и предварительного спекания

Печь для обдирки и предварительного спекания керамики KT-MD - точный контроль температуры, энергоэффективная конструкция, настраиваемые размеры. Повысьте эффективность своей лаборатории уже сегодня!

Искровое плазменное спекание SPS-печь

Искровое плазменное спекание SPS-печь

Откройте для себя передовую печь для искрового плазменного спекания (SPS) компании KINTEK для быстрой и точной обработки материалов. Настраиваемые решения для исследований и производства.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы

Система KINTEK RF PECVD: Прецизионное осаждение тонких пленок для полупроводников, оптики и МЭМС. Автоматизированный низкотемпературный процесс с превосходным качеством пленки. Возможны индивидуальные решения.

Фланец CF KF для вакуумных электродов с проходным свинцовым уплотнением для вакуумных систем

Фланец CF KF для вакуумных электродов с проходным свинцовым уплотнением для вакуумных систем

Надежный фланцевый вакуумный электродный ввод CF/KF для высокопроизводительных вакуумных систем. Обеспечивает превосходную герметичность, проводимость и долговечность. Доступны настраиваемые опции.

Ультра вакуумный электрод проходной разъем фланец провод питания для высокоточных приложений

Ультра вакуумный электрод проходной разъем фланец провод питания для высокоточных приложений

Ультра-вакуумные вводы электродов для надежных соединений сверхвысокого напряжения. Высокогерметичные, настраиваемые варианты фланцев, идеальные для полупроводниковых и космических применений.

Электрическая вращающаяся печь пиролиза завод машина малый вращающаяся печь кальцинер

Электрическая вращающаяся печь пиролиза завод машина малый вращающаяся печь кальцинер

Электрическая ротационная печь KINTEK: Точное прокаливание, пиролиз и сушка с температурой 1100℃. Экологически чистый, многозонный нагрев, настраиваемый для лабораторных и промышленных нужд.

Высокоэффективные вакуумные сильфоны для эффективного соединения и стабильного вакуума в системах

Высокоэффективные вакуумные сильфоны для эффективного соединения и стабильного вакуума в системах

Смотровое окно KF для сверхвысокого вакуума с высокопрочным боросиликатным стеклом для четкого просмотра в сложных условиях 10^-9 Торр. Прочный фланец из нержавеющей стали 304.

Популярные теги

трубчатая печь многозонная трубчатая печь машина мпквд пеквд машина ваккумная печь вертикальная трубчатая печь атмосферная печь вакуумная индукционная печь машина cvd