CVD & PECVD Furnace
Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины
Артикул : KT-CTF12
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Макс. температура
- 1200℃
- Диаметр трубы печи
- 60 мм
- Скорость нагрева
- 0-20℃/мин
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Почему выбирают нас
Простой процесс заказа, качественные продукты и специализированная поддержка для успеха вашего бизнеса.
Детали и запчасти
Введение
Опираясь на исключительные научные разработки и собственное производство, компания KINTEK предлагает передовые решения для высокотемпературных печей, предназначенные для различных лабораторных нужд. Печь Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией является примером этого, предлагая универсальную и высокопроизводительную систему, тщательно разработанную для сложных задач химического осаждения из паровой фазы (CVD).
Эта печь спроектирована с учетом точности и простоты использования. Ключевые особенности, которые принесут пользу вашим исследованиям, включают:
- Раздельная камера печи: Обеспечивает прямой доступ к реакционным образцам и быстрое охлаждение, что значительно повышает эффективность и производительность эксперимента.
- Возможность работы при высоких температурах: Используется высокочистая кварцевая трубка (стандартный диаметр 60 мм, возможны варианты на заказ), подходящая для процессов, требующих температуры до 1200°C.
- Точный контроль газа: Оснащен 4-канальным массовым расходомером MFC, обеспечивающим точную и стабильную подачу исходных газов, таких как CH4, H2, O2 и N2, для получения стабильных результатов процесса.
- Встроенная вакуумная станция: Имеет надежный пластинчато-роторный вакуумный насос 4L/S, способный достигать максимального вакуумного давления 10 Па, обеспечивая оптимальные условия для различных вакуумных процессов.
В компании KINTEK мы понимаем, что уникальные экспериментальные требования требуют гибких решений. Наша мощная способность к глубокой индивидуализации означает, что, хотя эта система оснащена передовыми функциями, идеально подходящими для материаловедения, обработки полупроводников и новаторских исследований, мы можем дополнительно адаптировать ее к вашим конкретным потребностям. Наш опыт охватывает обширную линейку продукции, включая муфельные, трубчатые, ротационные печи, вакуумные и атмосферные печи, а также передовые системы CVD/PECVD/MPCVD, что гарантирует, что мы предоставим идеальное решение для вашей работы.
Готовы расширить свои исследовательские возможности или обсудить индивидуальную конфигурацию для ваших CVD-процессов? Свяжитесь с нашими специалистами сегодня чтобы узнать, как трубчатая печь с разделенной камерой CVD может быть адаптирована к вашим точным экспериментальным требованиям, и запросить коммерческое предложение.
Приложения
Трубчатая печь с разделенной камерой CVD с вакуумной станцией CVD представляет собой универсальное и передовое оборудование, предназначенное для различных применений в области материаловедения, производства полупроводников, а также исследований и разработок. Эта установка особенно полезна для процессов, требующих точного контроля температуры, потока газа и уровня вакуума, что делает ее незаменимым инструментом для высококачественного синтеза и обработки материалов.
- Синтез наноматериалов: Печь идеально подходит для выращивания нанопроволок, нанопленок и других наноструктурированных материалов, которые имеют решающее значение для разработки передовых электронных и оптоэлектронных устройств.
- Вакуумное нанесение покрытий: Широко используется для осаждения тонких пленок на различные подложки, включая металлические, керамические и композитные пленки, которые необходимы для улучшения свойств материалов в таких областях, как оптика и электроника.
- Обработка аккумуляторных материалов: Печь подходит для сушки и спекания материалов для аккумуляторов, что является важнейшим этапом в производстве высокоэффективных аккумуляторов.
- Сушка и спекание материалов: Используется для высокотемпературного спекания керамики, огнеупорных материалов и специальных материалов, обеспечивая консолидацию и плотность этих материалов.
- Атмосферная и вакуумная термообработка: Вертикальная конфигурация трубчатой печи позволяет закаливать, отжигать и отпускать небольшие стальные детали, а также наносить вертикальные CVD-покрытия, что делает ее ценным активом в металлургических процессах.
- Исследования и разработки: Печь широко используется в университетах, научно-исследовательских институтах, промышленных и горнодобывающих предприятиях для проведения высокотемпературных экспериментов, спекания в атмосфере, восстановительной атмосфере и CVD/CVI экспериментов, способствуя развитию материаловедения и технологий.
Характеристики
Трубчатая печь с разделенной камерой CVD с вакуумной станцией CVD Machine - это сложное оборудование, предназначенное для передовых процессов химического осаждения из паровой фазы (CVD). В этой печи реализованы передовые технологии, позволяющие повысить эффективность и качество осаждения пленок, что делает ее идеальным решением для исследовательских и промышленных задач. Вот основные характеристики и их преимущества:
- Высокая скорость осаждения пленки: Используя технологию радиочастотного свечения, эта печь значительно увеличивает скорость осаждения пленок, достигая 10Å/S. Такое быстрое осаждение имеет решающее значение для высокопроизводительного производства и исследований, позволяя экономить время и повышать производительность.
- Равномерность на большой площади: Благодаря передовой технологии многоточечной подачи радиочастотного излучения и специализированному распределению газового тракта печь обеспечивает однородность пленки до 8 %. Такая однородность необходима для создания однородных и высококачественных покрытий на больших подложках, что повышает надежность производимых материалов.
- Последовательное осаждение: В конструкции печи реализованы передовые концепции полупроводниковой промышленности, благодаря чему отклонение между подложками составляет менее 2 %. Такой высокий уровень последовательности крайне важен для приложений, требующих точных и воспроизводимых результатов, например, при производстве электронных компонентов.
- Стабильный контроль процесса: Высокая стабильность оборудования обеспечивает непрерывность и постоянство процесса CVD. Такая надежность крайне важна для поддержания целостности процесса и снижения риска возникновения дефектов или сбоев во время работы.
- Интеллектуальная система управления: Запатентованная компанией Bonage интегрированная система управления включает в себя высокоэффективную систему контроля температуры, использующую механизм отрицательной обратной связи с замкнутым контуром. Эта система в сочетании с высококачественными импортными электрическими компонентами повышает общую производительность и надежность оборудования, делая его практически необслуживаемым.
- Универсальное применение: Печь подходит для осаждения различных типов пленок, включая металлические, керамические и композитные, поддерживает процессы непрерывного роста и может быть легко расширена дополнительными функциями, такими как плазменная очистка и травление. Такая универсальность делает ее ценным активом для различных исследований и производственных нужд.
Принцип работы
Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD Machine - это высокотемпературная вакуумная печь, используемая для процессов химического осаждения из паровой фазы (CVD). CVD - это процесс, в котором тонкая пленка материала осаждается на подложку в результате химической реакции газа или пара. Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD Machine использует разделенную камеру печи для обеспечения легкого доступа к подложке во время процесса CVD. Вакуумная станция используется для создания вакуума в камере печи, что помогает удалить примеси и улучшить качество осаждаемой пленки.
Преимущества
- Интуитивно понятное наблюдение за образцом и быстрое охлаждение: Разделенная камера печи позволяет непосредственно наблюдать за реакционными образцами и быстро охлаждать их.
- Возможность работы при высоких температурах: Максимальная рабочая температура до 1200℃ для универсального применения.
- Точный контроль газа: 4-канальный массовый расходомер MFC с источниками CH4, H2, O2 и N2 обеспечивает точную и стабильную подачу газа.
- Совместимость с вакуумом: Вакуумная станция с пластинчато-роторным вакуумным насосом 4L/S обеспечивает максимальное вакуумное давление до 10 Па, позволяя проводить различные вакуумные процессы.
- Высокоскоростной нагрев и охлаждение: Система скольжения камеры печи обеспечивает быстрый нагрев и охлаждение для эффективной обработки образцов.
- Усовершенствованный температурный контроль: ПИД-программируемый температурный контроль с отличной точностью, дистанционное управление и возможность централизованного управления.
- Удобный интерфейс: Контроллер CTF Pro с 7-дюймовым сенсорным TFT-экраном обеспечивает интуитивно понятную настройку программ и анализ данных.
- Универсальная вакуумная установка: Вакуумный фланец из нержавеющей стали с адаптируемыми портами позволяет использовать различные вакуумные насосные станции для создания индивидуальной вакуумной среды.
- Энергоэффективность: Система водяного охлаждения и конструкция газоотвода сводят к минимуму потребление энергии.
- Широкая применимость: Подходит для CVD, диффузии и других термообработок в условиях вакуума и защиты атмосферы.
Преимущество безопасности
- Трубчатая печь Kindle Tech имеет защиту от перегрузки по току и функцию сигнализации о перегреве, печь автоматически отключит питание.
- Печь встроена в функцию обнаружения тепловой пары, печь прекратит нагрев и включит сигнал тревоги после обнаружения поломки или отказа
- KT-CTF12 Pro поддерживает функцию перезапуска при отключении питания, печь возобновит программу нагрева печи при подаче питания после сбоя
Технические характеристики
| Модель печи | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| Макс. температура | 1200℃ |
| Постоянная рабочая температура | 1100℃ |
| Материал трубки печи | Высокая чистота кварца |
| Диаметр трубки печи | 60 мм |
| Длина зоны нагрева | 1x450 мм |
| Материал камеры | Японское глиноземное волокно |
| Нагревательный элемент | проволочная спираль из Cr2Al2Mo2 |
| Скорость нагрева | 0-20℃/мин |
| Тепловая пара | Встроенный тип K |
| Контроллер температуры | Цифровой ПИД-регулятор/ПИД-регулятор с сенсорным экраном |
| Точность регулирования температуры | ±1℃ |
| Расстояние скольжения | 600 мм |
| Блок точного контроля газа | |
| Расходомер | Массовый расходомер MFC |
| Газовые каналы | 4 канала |
| Расход |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Линейность | ±0,5% F.S. |
| Повторяемость | ±0,2% F.S. |
| Трубопровод и клапан | Нержавеющая сталь |
| Максимальное рабочее давление | 0,45 МПа |
| Контроллер расходомера | Контроллер с цифровой ручкой/контроллер с сенсорным экраном |
| Стандартный вакуумный блок (опция) | |
| Вакуумный насос | Пластинчато-роторный вакуумный насос |
| Расход насоса | 4L/S |
| Вакуумный порт всасывания | KF25 |
| Вакуумметр | Кремниевый вакуумметр Пирани/Резистанс |
| Номинальное вакуумное давление | 10Па |
| Установка высокого вакуума (опция) | |
| Вакуумный насос | Пластинчато-роторный насос+молекулярный насос |
| Расход насоса | 4L/S+110L/S |
| Порт всасывания вакуума | KF25 |
| Вакуумметр | Комбинированный вакуумметр |
| Номинальное вакуумное давление | 6x10-5Pa |
| Выше спецификации и установки могут быть настроены | |
Стандартный пакет
| Нет. | Описание | Количество |
|---|---|---|
| 1 | Печь | 1 |
| 2 | Кварцевая трубка | 1 |
| 3 | Вакуумный фланец | 2 |
| 4 | Тепловой блок трубки | 2 |
| 5 | Крючок трубчатого термоблока | 1 |
| 6 | Термостойкая перчатка | 1 |
| 7 | Точный контроль газа | 1 |
| 8 | Вакуумный блок | 1 |
| 9 | Руководство по эксплуатации | 1 |
Дополнительная установка
- Обнаружение и мониторинг газов в трубке, таких как H2, O2 и т.д.
- Независимый контроль и запись температуры в печи
- Порт связи RS 485 для дистанционного управления ПК и экспорта данных
- Контроль расхода подаваемых газов, например, массовый расходомер или поплавковый расходомер
- Контроллер температуры с сенсорным экраном и универсальными функциями, удобными для оператора
- Установка насосных станций высокого вакуума, таких как лопастной вакуумный насос, молекулярный насос, диффузионный насос
Для получения запросов на изготовление на заказ или для получения дополнительной информации о том, как KINTEK может поддержать ваши конкретные исследовательские потребности, пожалуйста заполните нашу контактную форму или свяжитесь с нашей командой экспертов.
Нам доверяют лидеры отрасли
FAQ
Что такое трубчатая печь и как она работает?
Каковы основные области применения многозонных трубчатых печей?
В чем заключается принцип работы установки MPCVD?
Для чего используется установка PECVD?
Каковы основные области применения вакуумных печей?
Что такое вертикальная трубчатая печь?
Для чего используется атмосферная печь?
Что такое вакуумная индукционная печь?
В чем заключается принцип работы установки CVD?
Каковы основные области применения трубчатых печей?
Каковы ключевые особенности многозонных трубчатых печей?
В чем преимущества использования MPCVD-установки?
Каковы основные типы установок PECVD?
Каковы основные характеристики вакуумной печи?
Для каких целей используется вертикальная трубчатая печь?
Каковы ключевые особенности атмосферных печей?
Каковы основные области применения вакуумных индукционных печей?
В чем преимущества использования CVD-установки?
Каковы преимущества использования трубчатых печей?
Как работает многозонная трубчатая печь?
Каковы основные области применения установок MPCVD?
Как работает установка PECVD?
Как работает вакуумная печь?
В чем преимущества вертикальных трубчатых печей?
Как работает атмосферная печь?
Как работает вакуумная индукционная печь?
Для каких целей используется CVD-установка?
Какие типы трубчатых печей существуют?
Каковы преимущества использования многозонной трубчатой печи?
Каковы основные компоненты установки MPCVD?
Каковы основные характеристики установки PECVD?
Каковы преимущества использования вакуумной печи?
Как работает вертикальная трубчатая печь?
Каковы преимущества использования атмосферной печи?
Каковы преимущества использования вакуумной индукционной печи?
Каковы основные характеристики установки CVD?
Каких температурных диапазонов могут достигать трубчатые печи?
Какие типы многозонных трубчатых печей существуют?
Как MPCVD-установка повышает энергоэффективность?
Каковы преимущества использования установки PECVD?
Какие типы материалов можно обрабатывать в вакуумной печи?
Какие типы вертикальных трубчатых печей доступны?
Какие типы газов могут использоваться в атмосферных печах?
Какие типы вакуумных индукционных печей существуют?
Какие типы CVD-установок существуют?
Могут ли трубчатые печи работать в разных атмосферах?
Почему MPCVD предпочтительнее для выращивания алмазов?
Какие материалы можно осаждать с помощью установки PECVD?
В чем разница между вакуумными печами с горячими и холодными стенками?
Почему стоит выбрать вертикальную трубчатую печь, а не горизонтальную?
Какие функции безопасности предусмотрены в современных атмосферных печах?
Почему контроль температуры важен для вакуумных индукционных печей?
Что делает трубчатые печи KINTEK особенными?
Почему PECVD предпочтительнее других методов осаждения?
Можно ли настроить вакуумные печи под конкретные задачи?
Какие температурные диапазоны могут достигать вертикальные трубчатые печи?
Какие материалы можно обрабатывать в вакуумной индукционной печи?
Можно ли настроить вертикальные трубчатые печи?
Какую пользу приносит вакуумная среда при обработке материалов?
Техническая спецификация продукта
Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Изготовленная на заказ универсальная печь трубки CVD химическое осаждение паров CVD оборудование машина
Трубчатая CVD-печь KINTEK обеспечивает точный контроль температуры до 1600°C, идеально подходящий для осаждения тонких пленок. Настраивается для исследовательских и промышленных нужд.
Машина печи трубки CVD с несколькими зонами нагрева для оборудования химического осаждения из паровой фазы
Многозональные трубчатые CVD-печи KINTEK обеспечивают точный контроль температуры для современного осаждения тонких пленок. Идеально подходят для исследований и производства, настраиваются под нужды вашей лаборатории.
Вакуумная вращающаяся трубчатая печь непрерывного действия
Прецизионная вращающаяся трубчатая печь для непрерывной вакуумной обработки. Идеально подходит для прокаливания, спекания и термообработки. Возможность настройки до 1600℃.
Скользящая трубчатая печь PECVD с жидкостным газификатором, установка PECVD
Скользящая трубчатая печь PECVD KINTEK: прецизионное осаждение тонких пленок с использованием ВЧ-плазмы, быстрые термические циклы и настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для полупроводников и солнечных элементов.
1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой
Откройте для себя печь KINTEK с разъемной трубкой 1200℃ с кварцевой трубкой для точных высокотемпературных лабораторных применений. Настраиваемая, долговечная и эффективная. Приобретайте прямо сейчас!
Вращающаяся трубчатая печь с несколькими зонами нагрева
Прецизионная ротационная трубчатая печь с несколькими зонами нагрева для высокотемпературной обработки материалов, с регулируемым наклоном, вращением на 360° и настраиваемыми зонами нагрева. Идеально подходит для лабораторий.
Печь-труба для экстракции и очистки магния
Печь-труба для очистки магния для производства высокочистых металлов. Достигает вакуума ≤10 Па, двухзонный нагрев. Идеально подходит для аэрокосмической, электронной промышленности и лабораторных исследований.
Многозональная лабораторная кварцевая трубчатая печь трубчатая печь
Многозональная трубчатая печь KINTEK: точный нагрев до 1700℃ с 1-10 зонами для передовых исследований материалов. Настраиваемая, готовая к вакууму и сертифицированная по безопасности.
Наклонная вращающаяся трубчатая печь для плазменно-усиленного химического осаждения PECVD
Установка нанесения покрытий PECVD от KINTEK обеспечивает получение точных тонких пленок при низких температурах для светодиодов, солнечных элементов и MEMS. Настраиваемые высокопроизводительные решения.
Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь
Трубчатая печь высокого давления KINTEK: прецизионный нагрев до 1100°C с контролем давления 15 МПа. Идеально подходит для спекания, выращивания кристаллов и лабораторных исследований. Возможны индивидуальные решения.
Наклонная вращающаяся трубчатая печь для плазмохимического осаждения (PECVD)
Усовершенствованная трубчатая печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Равномерный нагрев, ВЧ-источник плазмы, настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для исследований в области полупроводников.
Вертикальная лабораторная кварцевая трубчатая печь трубчатая печь
Прецизионная вертикальная трубчатая печь KINTEK: нагрев 1800℃, ПИД-регулирование, настраиваемая для лабораторий. Идеально подходит для CVD, роста кристаллов и тестирования материалов.
Вакуумная печь горячего прессования машина нагретая вакуумная печь трубки прессования
Откройте для себя передовую вакуумную печь горячего прессования KINTEK для точного высокотемпературного спекания, горячего прессования и склеивания материалов. Индивидуальные решения для лабораторий.
Лабораторная вакуумная наклонная вращающаяся трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь
Лабораторная ротационная печь KINTEK: прецизионный нагрев для прокаливания, сушки, спекания. Индивидуальные решения с вакуумом и контролируемой атмосферой. Расширьте возможности исследований прямо сейчас!
Вакуумная термообработанная печь для спекания с давлением для вакуумного спекания
Вакуумная печь для спекания под давлением KINTEK обеспечивает точность 2100℃ для керамики, металлов и композитов. Настраиваемая, высокопроизводительная и свободная от загрязнений. Получите предложение прямо сейчас!
Печь с контролируемой инертной атмосферой азота, 1200℃
Печь с контролируемой атмосферой KINTEK 1200℃: прецизионный нагрев с газовым контролем для лабораторий. Идеально подходит для спекания, отжига и материаловедческих исследований. Доступны индивидуальные размеры.
Вакуумная печь для термообработки с футеровкой из керамического волокна
Вакуумная печь KINTEK с футеровкой из керамического волокна обеспечивает точную высокотемпературную обработку до 1700°C, равномерное распределение тепла и энергоэффективность. Идеально подходит для лабораторий и производства.
Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace
Трубчатая печь быстрого нагрева RTP компании KINTEK обеспечивает точный контроль температуры, быстрый нагрев до 100°C/сек и разнообразные варианты атмосферы для передовых лабораторных применений.
600T вакуумный индукционный горячий пресс вакуумная термообработка и спекание печь
Вакуумная индукционная печь горячего прессования 600T для точного спекания. Передовое давление 600T, нагрев 2200°C, контроль вакуума/атмосферы. Идеально подходит для исследований и производства.
Вакуумный горячий пресс печь машина нагретый вакуумный пресс
Вакуумная печь горячего прессования KINTEK: прецизионный нагрев и прессование для достижения высокой плотности материала. Настраиваемая температура до 2800°C, идеальная для металлов, керамики и композитов. Узнайте о расширенных возможностях прямо сейчас!
Связанные статьи
Больше, чем просто горячий ящик: искусство и наука настройки трубчатой печи с разъемом
Узнайте, как настроить трубчатую печь с разъемом, сбалансировав тепловые потребности, размеры и контроль атмосферы, чтобы избежать дорогостоящего завышения спецификаций.
Узкое место — время остывания: как разъемные трубчатые печи переопределяют эффективность лаборатории
Узнайте, как разъемная конструкция трубчатых печей решает скрытую проблему времени остывания, повышая производительность лаборатории и защищая деликатные образцы.
Почему ваши эксперименты по росту кристаллов терпят неудачу: скрытая причина в вашей трубчатой печи
Сталкиваетесь с нестабильными результатами CVT? Узнайте, почему температурный градиент вашей трубчатой печи, а не ваша химия, является вероятной причиной, и как это исправить.
За гранью жара: Освоение контролируемой вселенной внутри трубчатой печи
Трубчатая печь — это не просто высокая температура; это создание идеально контролируемой, изолированной вселенной для синтеза передовых материалов.
Овладение пустотой: как трубчатые печи создают атомы инноваций
Узнайте, как трубчатые печи создают чистые, контролируемые среды, необходимые для атомной точности в производстве полупроводников и аккумуляторов.
Больше, чем ручка: психология точности в управлении трубчатой печью
Выбор системы управления трубчатой печью — это стратегическое решение, которое влияет на повторяемость процессов, целостность данных и достоверность исследований.
Война против хаоса: Изящная инженерия современной трубчатой печи
Печь — это не просто обогреватель; это система, которая борется с энтропией. Исследуйте физику преобразования электричества в точную, равномерную тепловую энергию.
От пыли к плотности: освоение трансформации материалов в трубчатой печи
Узнайте, как точный контроль температуры и атмосферы в трубчатых печах превращает рыхлые порошки, такие как вольфрам и цирконий, в плотные компоненты.
Овладение микросредой: Обманчиво простой гений трубчатой печи
Трубчатая печь — это не просто печь; это инструмент для точного контроля окружающей среды. Ее истинная ценность заключается в изоляции образца от внешнего мира.
Физика управления: освоение трехэтапного путешествия тепла в трубчатой печи
Освойте термические процессы, понимая трехэтапное путешествие тепла — излучение, конвекцию и теплопроводность — и как конструкция печи определяет результаты.
Контролируемая Вселенная: Управление температурой и атмосферой в трубчатой печи диаметром 70 мм
Трубчатая печь — это не просто печь; это контролируемая среда, где управление температурной однородностью и атмосферой является ключом к воспроизводимым научным результатам.
Контроль — это всё: трубчатая печь и искусство инженерии на атомном уровне
Трубчатые печи обеспечивают контроль температуры и атмосферы на атомном уровне, необходимый для таких полупроводниковых процессов, как легирование, окисление и отжиг.