MPCVD
Система установки с цилиндрическим резонатором MPCVD для выращивания алмазов в лаборатории
Артикул : KTWB315
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Выходная мощность микроволн
- 1～10 кВт с плавной регулировкой
- Область выращивания субстрата
- 3 дюйма
- Максимальная загрузка партии
- 45 бриллиантов
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Опираясь на исключительные научно-исследовательские разработки и собственное производство, компания KINTEK обеспечивает различные лаборатории передовыми высокотемпературными печными решениями, включая наши передовые системы MPCVD. Наша линейка продукции, включающая муфельные, трубчатые, ротационные печи, вакуумные и атмосферные печи, а также различные системы CVD/PECVD/MPCVD, дополняется широкими возможностями по индивидуальной настройке для точного удовлетворения ваших уникальных экспериментальных требований.
Системы MPCVD от KINTEK: Выращивание высококачественных алмазных пленок с высокой точностью
Наши системы микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы (MPCVD) разработаны для лабораторий и промышленных предприятий, стремящихся выращивать алмазные пленки высшего качества. Используя углеродсодержащий газ и микроволновую плазму, технология MPCVD от KINTEK предлагает надежный и эффективный метод синтеза алмазов.
Почему стоит выбрать MPCVD-систему KINTEK?
Благодаря многолетнему опыту работы в отрасли и обширной клиентской базе, оборудование MPCVD компании KINTEK пользуется доверием благодаря своей производительности и надежности. Наши системы демонстрируют:
- Исключительную стабильность и надежность: Доказано более чем 40 000 часами стабильной работы.
- Повторяемость и экономичность: Неизменно высокое качество результатов.
- Высокая производительность: Область выращивания субстрата 3 дюйма, максимальная загрузка до 45 бриллиантов.
- Энергоэффективность: 1-10 кВт регулируемой выходной мощности микроволн для снижения потребления электроэнергии.
- Экспертная поддержка: Опираясь на богатый опыт исследовательской группы, предлагает передовые рецепты выращивания алмазов.
- Удобно для новичков: Эксклюзивная программа технической поддержки для команд с нулевым опытом выращивания алмазов.
Используя накопленные нами передовые технологии, мы провели несколько раундов модернизации и усовершенствования нашей системы MPCVD, что привело к значительному повышению эффективности и снижению стоимости оборудования. В результате наше оборудование MPCVD находится в авангарде технологических достижений и предлагается по конкурентоспособной цене. Готовы расширить свои возможности по выращиванию алмазов? Проконсультируйтесь с нашими специалистами уже сегодня!
Визуальная демонстрация: Результаты работы с KINTEK MPCVD
Ключевые характеристики и компоненты системы
Наши системы MPCVD разработаны с использованием прецизионных компонентов для обеспечения оптимальной производительности в процессе осаждения. Система обычно состоит из вакуумной камеры, микроволнового генератора (часто магнетрон или клистрон, работающий на частоте около 2,45 ГГц, соединенный через кварцевое окно), точной системы подачи газа с контроллерами массового расхода (MFC) и механизмов контроля температуры.
Микроволновая система
Реакционная камера
Система подачи газа
Вакуумная система и система датчиков
Технические характеристики
| Микроволновая система |
|
| Реакционная камера |
|
| Держатель образца |
|
| Система подачи газа |
|
| Система охлаждения |
|
| Датчик температуры |
|
| Система управления |
|
| Дополнительная функция |
|
Преимущество KINTEK MPCVD: Превосходный синтез алмазов
Технология MPCVD компании KINTEK предлагает значительные преимущества для синтеза алмазов по сравнению с другими методами, такими как HFCVD (Hot Filament CVD) и DC-PJ CVD (Direct Current Plasma Jet CVD):
- Алмазы высокой чистоты: MPCVD позволяет избежать загрязнения алмазов такими элементами, как горячие проволоки (как в HFCVD). В нашей системе плазменный шар не соприкасается со стенками полости, что обеспечивает процесс роста без примесей и приводит к получению алмазов более высокой чистоты по сравнению с алмазами, полученными методом HPHT (High-Pressure High-Temperature).
- Универсальное использование газов: Позволяет использовать несколько газов (например, CH4, H2, Ar, O2, N2) для удовлетворения различных промышленных потребностей и настройки свойств алмазов.
- Стабильное и точное управление: Обеспечивает плавную, непрерывную регулировку мощности микроволн и стабильный контроль температуры реакции. Это позволяет избежать таких проблем, как выпадение кристаллических зерен с подложки из-за дуги и провалов пламени, которые иногда наблюдаются в DC-PJ CVD. Температура подложки точно контролируется положением плазмы и измеряется термопарой.
- Стабильная плазма большой площади: Метод MPCVD генерирует большую площадь стабильной разрядной плазмы, что делает его наиболее перспективным методом синтеза алмазов для промышленного применения и увеличения масштабов производства.
- Энергоэффективность и экономичность для больших алмазов: Производственный процесс MPCVD обычно потребляет меньше энергии, чем HPHT, и позволяет производить более крупные и высококачественные алмазы по потенциально более низкой цене.
Ищете надежное и передовое решение для синтеза алмазов, обеспечивающее чистоту и производительность? Запросите цену на нашу MPCVD-систему!
Принцип работы: как KINTEK MPCVD выращивает алмазы
Установка KINTEK MPCVD тщательно контролирует среду роста. Процесс начинается с управления потоком каждого газового тракта (реакционные газы, такие как CH4, H2, Ar, O2, N2 и т.д.) и давлением в полости, вводя эти газы в полость при определенных, стабилизированных условиях. Как только поток воздуха стабилизируется, твердотельный микроволновый генератор мощностью 6 КВт (или регулируемый 1-10 КВт) генерирует микроволны, которые затем вводятся в полость через волновод.
Под воздействием СВЧ-поля реакционный газ переходит в плазменное состояние, образуя плазменный шар, который парит над алмазной подложкой. Высокая температура плазмы нагревает подложку до температуры, необходимой для роста алмаза. Избыточное тепло, образующееся в полости, эффективно рассеивается водяным охладителем.
Для обеспечения оптимальных условий роста в процессе выращивания монокристаллов алмаза методом MPCVD точно регулируются такие факторы, как мощность микроволн, состав газового источника и давление в полости. Бесконтактный характер контакта плазменного шара со стенками полости очень важен, так как он предотвращает загрязнение процесса роста алмаза примесями, тем самым повышая конечное качество алмаза.
Области применения алмазов, выращенных с помощью KINTEK MPCVD
Уникальные свойства алмаза, включая его чрезвычайную твердость, жесткость, высокую теплопроводность, низкое тепловое расширение, радиационную твердость и химическую инертность, делают его очень ценным материалом. В то время как природные и HPHT-алмазы сталкивались с ограничениями, связанными со стоимостью, размером и контролем примесей, технология MPCVD от KINTEK открывает двери для более широкого применения:
- Бриллианты качества драгоценных камней: MPCVD является основным оборудованием, используемым для выращивания драгоценных камней, предлагая перспективный путь к производству недорогих, высококачественных крупных алмазов для растущего ювелирного рынка.
- Полупроводниковая промышленность: Выращивание алмазных пленок может быть как монокристаллическим, так и поликристаллическим. Она широко используется для изготовления крупногабаритных алмазных подложек в полупроводниковой промышленности.
- Режущие и сверлильные инструменты: Исключительная твердость MPCVD-алмазов делает их идеальными для производства алмазных режущих и сверлильных инструментов.
- Оптика и передовые материалы: Для приложений, использующих уникальные оптические и термические свойства алмаза.
По сравнению с методом HPHT для выращивания алмазов в лабораторных условиях, метод микроволнового CVD, применяемый компанией KINTEK, выгодно отличается от других методов выращивания алмазов большого размера при более низкой стоимости. Это делает его идеальным решением для применения в полупроводниковых алмазах, выращивания оптических алмазов и удовлетворения потребностей рынка крупных ювелирных алмазов.
Партнерство с KINTEK для индивидуальных высокотемпературных решений
Помимо специализированных систем MPCVD, компания KINTEK предлагает разнообразную линейку продукции, включая муфельные, трубчатые, ротационные, вакуумные и атмосферные печи, а также различные системы CVD/PECVD. Наша основная сила заключается в исключительных исследованиях и разработках, специализированном собственном производстве и глубоких возможностях настройки, что позволяет нам создавать решения в точном соответствии с вашими конкретными экспериментальными или производственными требованиями.
У вас есть уникальные требования или сложный проект? Мы специализируемся на разработке индивидуальных решений. Свяжитесь с KINTEK сегодня, чтобы обсудить ваши потребности и узнать, как наша передовая технология печей может принести пользу вашей работе!
FAQ
В чем заключается принцип работы установки CVD?
В чем заключается принцип работы установки MPCVD?
Для чего используется установка PECVD?
В чем преимущества использования CVD-установки?
В чем преимущества использования MPCVD-установки?
Каковы основные типы установок PECVD?
Для каких целей используется CVD-установка?
Каковы основные области применения установок MPCVD?
Как работает установка PECVD?
Каковы основные характеристики установки CVD?
Каковы основные компоненты установки MPCVD?
Каковы основные характеристики установки PECVD?
Какие типы CVD-установок существуют?
Как MPCVD-установка повышает энергоэффективность?
Каковы преимущества использования установки PECVD?
Почему MPCVD предпочтительнее для выращивания алмазов?
Какие материалы можно осаждать с помощью установки PECVD?
Почему PECVD предпочтительнее других методов осаждения?
4.9
out of
5
This machine is a game-changer! The diamond growth speed is phenomenal, and the quality is unmatched.
4.8
out of
5
Incredible value for money. The precision and durability of this system are top-notch.
4.7
out of
5
Fast delivery and easy setup. The technological advancement in this machine is mind-blowing.
4.9
out of
5
The consistency in diamond quality is impressive. Worth every penny!
4.8
out of
5
Highly efficient and reliable. Perfect for lab diamond growth with minimal maintenance.
4.7
out of
5
The cylindrical resonator design is brilliant. Delivers flawless diamonds every time.
4.9
out of
5
Exceptional performance! The machine’s durability and advanced tech make it a must-have.
4.8
out of
5
Superb investment. The speed and quality of diamond growth exceed expectations.
4.7
out of
5
Love the precision! This machine has revolutionized our lab’s diamond production.
4.9
out of
5
Outstanding build quality. The diamonds produced are of impeccable clarity and size.
4.8
out of
5
Fast, efficient, and reliable. The best MPCVD system we’ve used so far.
4.7
out of
5
The technology behind this machine is cutting-edge. Highly recommend for any lab.
4.9
out of
5
Perfect for high-volume diamond growth. The quality is consistently excellent.
4.8
out of
5
A stellar purchase! The machine’s performance and durability are unmatched.
4.7
out of
5
Incredibly advanced and user-friendly. Delivers perfect diamonds with ease.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Реактор с колокольным резонатором для лабораторий и выращивания алмазов
KINTEK MPCVD Systems: Прецизионные установки для выращивания алмазов высокой чистоты в лабораторных условиях. Надежные, эффективные и настраиваемые для исследований и промышленности.
915MHz MPCVD алмаз машина микроволновая плазмы химического осаждения пара система реактор
Алмазная MPCVD-машина KINTEK: Высококачественный синтез алмазов с помощью передовой MPCVD-технологии. Ускоренный рост, превосходная чистота, настраиваемые опции. Увеличьте производство прямо сейчас!
Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы
Система KINTEK RF PECVD: Прецизионное осаждение тонких пленок для полупроводников, оптики и МЭМС. Автоматизированный низкотемпературный процесс с превосходным качеством пленки. Возможны индивидуальные решения.
Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина
Трубчатая печь KINTEK Slide PECVD: прецизионное осаждение тонких пленок с помощью радиочастотной плазмы, быстрая термоциклическая обработка и настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для полупроводников и солнечных батарей.
Ультра вакуумный электрод проходной разъем фланец провод питания для высокоточных приложений
Ультра-вакуумные вводы электродов для надежных соединений сверхвысокого напряжения. Высокогерметичные, настраиваемые варианты фланцев, идеальные для полупроводниковых и космических применений.
Вакуумный горячий пресс печь машина для ламинирования и отопления
Вакуумный ламинационный пресс KINTEK: Прецизионное склеивание для пластин, тонких пленок и LCP. Максимальная температура 500°C, давление 20 тонн, сертификат CE. Возможны индивидуальные решения.
Наклонная вращающаяся машина печи трубки PECVD плазмы усиленного химического осаждения
Установка KINTEK для нанесения покрытий методом PECVD обеспечивает прецизионные тонкие пленки при низких температурах для светодиодов, солнечных батарей и МЭМС. Настраиваемые, высокопроизводительные решения.
Наклонная вращающаяся машина печи трубы PECVD плазмы усиленного химического осаждения
Передовая трубчатая печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Равномерный нагрев, источник ВЧ-плазмы, настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для исследований полупроводников.
Трубчатая CVD-печь KINTEK обеспечивает точный контроль температуры до 1600°C, идеально подходящий для осаждения тонких пленок. Настраивается для исследовательских и промышленных нужд.
Многозональные трубчатые CVD-печи KINTEK обеспечивают точный контроль температуры для современного осаждения тонких пленок. Идеально подходят для исследований и производства, настраиваются под нужды вашей лаборатории.
Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины
Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией - высокоточная лабораторная печь с температурой 1200°C для исследования современных материалов. Доступны индивидуальные решения.
Вакуумная печь горячего прессования машина нагретая вакуумная печь трубки прессования
Откройте для себя передовую вакуумную печь горячего прессования KINTEK для точного высокотемпературного спекания, горячего прессования и склеивания материалов. Индивидуальные решения для лабораторий.
Искровое плазменное спекание SPS-печь
Откройте для себя передовую печь для искрового плазменного спекания (SPS) компании KINTEK для быстрой и точной обработки материалов. Настраиваемые решения для исследований и производства.
Печь с управляемой атмосферой с сетчатым поясом Печь с инертной азотной атмосферой
Печь с сетчатым поясом KINTEK: высокопроизводительная печь с контролируемой атмосферой для спекания, закалки и термообработки. Настраиваемая, энергоэффективная, точный контроль температуры. Получите предложение прямо сейчас!
Печь с контролируемой инертной азотной атмосферой 1200℃
Печь с контролируемой атмосферой KINTEK 1200℃: прецизионный нагрев с контролем газа для лабораторий. Идеально подходит для спекания, отжига и исследования материалов. Доступны настраиваемые размеры.
Печь с контролируемой инертной азотной атмосферой 1400℃
Печь с контролируемой атмосферой KT-14A для лабораторий и промышленности. Максимальная температура 1400°C, вакуумное уплотнение, контроль инертного газа. Возможны индивидуальные решения.
Печь с регулируемой инертной азотной атмосферой 1700℃
Печь с контролируемой атмосферой KT-17A: точный нагрев до 1700°C с контролем вакуума и газа. Идеально подходит для спекания, исследований и обработки материалов. Исследуйте прямо сейчас!
Печь с контролируемой инертной азотно-водородной атмосферой
Откройте для себя водородную атмосферную печь KINTEK для точного спекания и отжига в контролируемых условиях. До 1600°C, функции безопасности, настраиваемые параметры.
9MPa воздушного давления вакуумной термообработки и спекания печь
Добейтесь превосходного уплотнения керамики с помощью передовой печи для спекания под давлением KINTEK. Высокое давление до 9 МПа, точный контроль 2200℃.