Знание Почему вакуумное устройство необходимо для удаления пузырьков воздуха из имитации стального лома? Улучшите свои эксперименты с жидкостями
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Furnace

Обновлено 1 день назад

Почему вакуумное устройство необходимо для удаления пузырьков воздуха из имитации стального лома? Улучшите свои эксперименты с жидкостями


Вакуумное устройство имеет решающее значение для обеспечения оптической прозрачности, необходимой для высокоточных экспериментов с жидкостями. Его основная функция — откачать воздух из емкости, заполненной акриловой набивкой, перед впрыском жидкости, гарантируя полное удаление даже остаточного воздуха, застрявшего в микроскопических зазорах.

Устраняя пузырьки воздуха, вакуумный процесс предотвращает рассеяние и отражение лазерного излучения, которое в противном случае ухудшило бы качество изображения. Это гарантирует, что изображения лазерно-индуцированной флуоресценции (LIF) остаются без теней, что позволяет точно рассчитывать скорость заполнения и измерять поля течения.

Физика оптических помех

Удаление воздуха из микроскопических зазоров

Слои имитации стального лома, часто представленные акриловой набивкой, создают сложную структуру с многочисленными пустотами.

Воздух естественным образом застревает в микроскопических зазорах между этими упаковочными материалами.

Простого впрыска жидкости часто недостаточно для вытеснения этого воздуха. Вакуумное устройство необходимо для принудительной откачки емкости перед введением жидкости, обеспечивая полное заполнение.

Предотвращение рассеяния и отражения

Если воздух остается в экспериментальных слоях, он негативно взаимодействует с диагностическим оборудованием.

Пузырьки воздуха вызывают значительное рассеяние и отражение лазерного излучения при освещении.

Это рассеяние нарушает путь света, мешая лазерному листу равномерно освещать жидкость и упаковочный материал.

Последствия для целостности данных

Избегание теней на изображениях LIF

В методах лазерно-индуцированной флуоресценции (LIF) критически важен чистый оптический доступ.

Рассеянный свет от пузырьков создает тени на получаемых изображениях.

Эти тени затемняют поле зрения, делая невозможным точное различение между жидкостью, упаковочным материалом и пустотами.

Обеспечение точности измерений

Наличие теней и оптических артефактов приводит к количественным ошибкам.

В частности, эти артефакты приводят к неправильным расчетам скорости заполнения, поскольку программное обеспечение может ошибочно интерпретировать тени как твердые объекты или пустоты.

Кроме того, измерения поля течения становятся ненадежными, поскольку отслеживание движения жидкости прерывается оптическим шумом, генерируемым пузырьками.

Распространенные ошибки, которых следует избегать

Полагаясь на вытеснение жидкости

Распространенной ошибкой является предположение, что сам процесс впрыска жидкости вытолкнет весь воздух.

Без вакуума остаточные пузырьки воздуха неизбежно сохраняются в тесных геометриях.

Такая халатность делает получаемые данные подверженными значительным ошибкам, независимо от качества камеры или лазерной установки.

Обеспечение точности экспериментов

Чтобы максимизировать надежность ваших данных гидродинамики, рассмотрите следующее:

  • Если ваш основной фокус — качество изображения: Приоритезируйте этап вакуумирования для устранения рассеяния лазера и теней, которые ухудшают визуализацию LIF.
  • Если ваш основной фокус — количественные данные: Используйте вакуумное устройство, чтобы гарантировать, что расчеты скорости заполнения и измерения поля течения не искажаются оптическими артефактами.

Использование вакуумного устройства — это не просто подготовительный этап; это фундаментальное предварительное условие для получения достоверных экспериментальных данных.

Сводная таблица:

Функция Влияние пузырьков воздуха Преимущество вакуумного устройства
Оптическая прозрачность Вызывает рассеяние и отражение лазерного излучения Обеспечивает равномерное освещение лазерным листом
Качество изображения Создает тени на изображениях LIF Создает четкие, свободные от теней визуализации
Точность данных Искажает расчеты скорости заполнения Обеспечивает точный количественный анализ
Анализ потока Нарушает измерения поля течения Предоставляет надежные данные отслеживания жидкости

Повысьте точность ваших исследований с KINTEK

Не позволяйте пузырькам воздуха ставить под угрозу целостность ваших экспериментов. KINTEK поставляет высокопроизводительные вакуумные системы и лабораторное оборудование, предназначенные для обеспечения оптической прозрачности и точности данных, необходимых вашим исследованиям. Опираясь на экспертные исследования и разработки, а также производство, мы предлагаем настраиваемые вакуумные системы, муфельные, трубчатые, роторные и CVD печи, адаптированные к вашим уникальным потребностям в гидродинамике или высокотемпературных приложениях.

Готовы устранить оптический шум и получить превосходные данные? Свяжитесь с нашими экспертами сегодня, чтобы найти ваше индивидуальное решение!

Ссылки

  1. Manabu Tange, K. Tsutsumi. Relationship between the Nonuniformity of Packed Structure and Fluid Permeability in a Model Scrap Preheating Vessel. DOI: 10.2355/isijinternational.isijint-2023-458

Эта статья также основана на технической информации из Kintek Furnace База знаний .

Связанные товары

Люди также спрашивают

Связанные товары

2200 ℃ Вакуумная печь для термообработки и спекания вольфрама

2200 ℃ Вакуумная печь для термообработки и спекания вольфрама

Вольфрамовая вакуумная печь 2200°C для высокотемпературной обработки материалов. Точное управление, превосходный вакуум, индивидуальные решения. Идеально подходит для исследований и промышленного применения.

Небольшая вакуумная печь для термообработки и спекания вольфрамовой проволоки

Небольшая вакуумная печь для термообработки и спекания вольфрамовой проволоки

Компактная вакуумная печь для спекания вольфрамовой проволоки для лабораторий. Точная, мобильная конструкция с превосходным вакуумом. Идеально подходит для исследований современных материалов. Свяжитесь с нами!

Вакуумная термообработанная печь для спекания с давлением для вакуумного спекания

Вакуумная термообработанная печь для спекания с давлением для вакуумного спекания

Вакуумная печь для спекания под давлением KINTEK обеспечивает точность 2100℃ для керамики, металлов и композитов. Настраиваемая, высокопроизводительная и свободная от загрязнений. Получите предложение прямо сейчас!

Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь

Лабораторная вакуумная трубчатая печь высокого давления Кварцевая трубчатая печь

Трубчатая печь высокого давления KINTEK: прецизионный нагрев до 1100°C с контролем давления 15 МПа. Идеально подходит для спекания, выращивания кристаллов и лабораторных исследований. Возможны индивидуальные решения.

2200 ℃ Графитовая вакуумная печь для термообработки

2200 ℃ Графитовая вакуумная печь для термообработки

2200℃ Графитовая вакуумная печь для высокотемпературного спекания. Точный ПИД-контроль, вакуум 6*10-³Па, долговечный нагрев графита. Идеально подходит для исследований и производства.

Вакуумная печь для термообработки с футеровкой из керамического волокна

Вакуумная печь для термообработки с футеровкой из керамического волокна

Вакуумная печь KINTEK с футеровкой из керамического волокна обеспечивает точную высокотемпературную обработку до 1700°C, равномерное распределение тепла и энергоэффективность. Идеально подходит для лабораторий и производства.

Печь для спекания и пайки с вакуумной термообработкой

Печь для спекания и пайки с вакуумной термообработкой

Вакуумные паяльные печи KINTEK обеспечивают точные, чистые соединения с превосходным температурным контролем. Настраиваемые для различных металлов, они идеально подходят для аэрокосмической, медицинской и термической промышленности. Получить предложение!

Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины

Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией - высокоточная лабораторная печь с температурой 1200°C для исследования современных материалов. Доступны индивидуальные решения.

Печь для вакуумной термообработки молибдена

Печь для вакуумной термообработки молибдена

Высокопроизводительная молибденовая вакуумная печь для точной термообработки при температуре 1400°C. Идеально подходит для спекания, пайки и выращивания кристаллов. Прочная, эффективная и настраиваемая.

600T вакуумный индукционный горячий пресс вакуумная термообработка и спекание печь

600T вакуумный индукционный горячий пресс вакуумная термообработка и спекание печь

Вакуумная индукционная печь горячего прессования 600T для точного спекания. Передовое давление 600T, нагрев 2200°C, контроль вакуума/атмосферы. Идеально подходит для исследований и производства.

1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой

1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой

Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионный нагрев до 1700°C для синтеза материалов, CVD и спекания. Компактная, настраиваемая и готовая к работе в вакууме. Узнайте прямо сейчас!

Вакуумный горячий пресс печь машина для ламинирования и отопления

Вакуумный горячий пресс печь машина для ламинирования и отопления

Вакуумный ламинационный пресс KINTEK: Прецизионное склеивание для пластин, тонких пленок и LCP. Максимальная температура 500°C, давление 20 тонн, сертификат CE. Возможны индивидуальные решения.

Лабораторная вакуумная наклонная вращающаяся трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Лабораторная вакуумная наклонная вращающаяся трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Лабораторная ротационная печь KINTEK: прецизионный нагрев для прокаливания, сушки, спекания. Индивидуальные решения с вакуумом и контролируемой атмосферой. Расширьте возможности исследований прямо сейчас!

9MPa воздушного давления вакуумной термообработки и спекания печь

9MPa воздушного давления вакуумной термообработки и спекания печь

Добейтесь превосходного уплотнения керамики с помощью передовой печи для спекания под давлением KINTEK. Высокое давление до 9 МПа, точный контроль 2200℃.

Вертикальная лабораторная кварцевая трубчатая печь трубчатая печь

Вертикальная лабораторная кварцевая трубчатая печь трубчатая печь

Прецизионная вертикальная трубчатая печь KINTEK: нагрев 1800℃, ПИД-регулирование, настраиваемая для лабораторий. Идеально подходит для CVD, роста кристаллов и тестирования материалов.

1400℃ муфельная печь для лаборатории

1400℃ муфельная печь для лаборатории

Муфельная печь KT-14M: прецизионный нагрев до 1400°C с элементами SiC, ПИД-регулирование и энергоэффективная конструкция. Идеально подходит для лабораторий.

Лабораторная муфельная печь с нижним подъемом

Лабораторная муфельная печь с нижним подъемом

Повысьте эффективность работы лаборатории с помощью печи с нижним подъемом KT-BL: точный контроль 1600℃, превосходная однородность и повышенная производительность для материаловедения и НИОКР.

Высокотемпературная муфельная печь для лабораторного измельчения и предварительного спекания

Высокотемпературная муфельная печь для лабораторного измельчения и предварительного спекания

Печь для обдирки и предварительного спекания керамики KT-MD - точный контроль температуры, энергоэффективная конструкция, настраиваемые размеры. Повысьте эффективность своей лаборатории уже сегодня!

1400℃ высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой и глиноземной трубкой

1400℃ высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой и глиноземной трубкой

Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионная высокотемпературная обработка до 2000°C для лабораторий. Идеально подходит для синтеза материалов, CVD и спекания. Доступны настраиваемые опции.

Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace

Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace

Трубчатая печь быстрого нагрева RTP компании KINTEK обеспечивает точный контроль температуры, быстрый нагрев до 100°C/сек и разнообразные варианты атмосферы для передовых лабораторных применений.


Оставьте ваше сообщение