Оборудование для осаждения монокристаллических алмазов методом MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) предназначено для высококачественного выращивания алмазов и обладает характеристиками, обеспечивающими стабильность, точность и эффективность.Основные компоненты включают в себя микроволновую плазменную систему мощностью 6 кВт с высокой плотностью мощности, охлаждаемую водой подложку и камеру отражения для терморегулирования, а также автоматизированный контроль давления с помощью вакуумных насосов.Система использует саморазогрев СВЧ-плазмы для контроля температуры подложки и включает в себя механизмы безопасности, такие как система циркуляции охлаждающей воды.Расширенная автоматизация обеспечивается 15-дюймовым сенсорным экраном с ПЛК, позволяющим сохранять файлы процесса и воспроизводить результаты.Конструкция оборудования предусматривает равномерное осаждение, предотвращение загрязнения и высокую скорость роста (до 150 мкм/ч), что делает его экономически эффективным решением для промышленных и исследовательских задач.
Ключевые моменты:
1. Мощная микроволновая плазменная система
- Источник микроволновой плазмы мощностью 6 кВт:Обеспечивает высокую плотность мощности, необходимую для генерации стабильной и плотной плазмы, что критически важно для эффективного осаждения алмазов.
- Конструкция полости из нержавеющей стали:Обеспечивает долговечность и минимизирует риски загрязнения по сравнению с методами CVD с горячей фольгой.
2. Терморегулирование и стабильность
- Ступень подложки и отражательная камера с водяным охлаждением:Поддерживает постоянную температуру при длительной работе, предотвращая перегрев и обеспечивая равномерный рост алмазов.
- Самонагрев микроволновой плазмы:Устраняет необходимость во внешних нагревателях, уменьшая загрязнение и повышая точность контроля температуры.
3. Контроль вакуума и давления
- Полномасштабный вакуумметр:Обеспечивает точное измерение давления, что очень важно для оптимизации условий осаждения.
- Турбомолекулярные и пластинчато-роторные насосы:Автоматическое регулирование давления осаждения, обеспечивающее воспроизводимые условия процесса.
4. Безопасность и автоматизация
- Система циркуляции охлаждающей воды:Защищает оборудование во время работы на высокой мощности, предотвращая тепловое повреждение.
- 15-дюймовый сенсорный экран с управлением ПЛК:Упрощает работу с программируемым логическим управлением (ПЛК), позволяя пользователям сохранять и вызывать до 20 файлов процесса для получения стабильных результатов.
5. Преимущества производительности
- Высокая скорость роста (до 150 мкм/ч):Более быстрое осаждение по сравнению с другими методами CVD, что повышает производительность для промышленных применений.
- Равномерное распределение плазмы:Большая площадь плазмы обеспечивает равномерное алмазное покрытие, что очень важно для высококачественного роста монокристаллов.
- Воспроизводимость и экономическая эффективность:Постоянное качество образцов и низкие эксплуатационные расходы делают MPCVD предпочтительным выбором для исследований и производства.
6. Гибкость процесса
- Совместимость с несколькими газами:Поддерживает различные источники газа (например, метан, водород), что позволяет изменять свойства алмаза (например, оптические, механические).
- Возможность регулировки параметров:Ключевые факторы, такие как концентрация газа, давление и плотность мощности, могут быть точно настроены для оптимизации качества алмазов.
Данное оборудование является примером передовой технологии синтеза алмазов, сочетающей в себе прецизионное проектирование и удобную автоматизацию для удовлетворения требований современного материаловедения и промышленного производства.
Сводная таблица:
| Характеристика | Описание |
|---|---|
| Микроволновая плазменная система | Высокая плотность мощности 6 кВт, полость из нержавеющей стали для работы без загрязнений |
| Термическое управление | Водяное охлаждение подложки и камеры отражения для стабильного контроля температуры |
| Управление вакуумом и давлением | Турбомолекулярные и пластинчато-роторные насосы для автоматического регулирования давления |
| Автоматизация и безопасность | 15-дюймовый сенсорный экран ПЛК, циркуляция охлаждающей воды для надежной работы |
| Производительность | Высокая скорость роста (150 мкм/ч), равномерное распределение плазмы для стабильного качества |
| Гибкость процесса | Совместимость с несколькими газами и регулируемые параметры для создания индивидуальных свойств алмаза |
Обновите свою лабораторию с помощью оборудования для MPCVD-осаждения алмазов от KINTEK, разработанного для обеспечения точности, скорости и воспроизводимости.Независимо от того, занимаетесь ли вы исследованиями или расширяете производство, наши системы обеспечивают высококачественные монокристаллические алмазы с непревзойденной эффективностью. Свяжитесь с нами сегодня чтобы узнать, как мы можем оптимизировать ваш процесс синтеза алмазов!
