Знание Какова рабочая температура SiC?Узнайте о его высокотемпературных возможностях
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Furnace

Обновлено 1 неделю назад

Какова рабочая температура SiC?Узнайте о его высокотемпературных возможностях

Карбид кремния (SiC) - это высокоэффективный материал, известный своими исключительными тепловыми свойствами, что делает его идеальным для высокотемпературных применений.На воздухе SiC образует защитное покрытие из оксида кремния при температуре 1200°C, что позволяет ему эффективно работать при температуре до 1600°C.Его высокая теплопроводность, низкое тепловое расширение и высокая прочность способствуют исключительной стойкости к тепловым ударам.В частности, SiC-нагревательные элементы предназначены для работы в диапазоне температур от 1400°C до 1600°C, что делает их пригодными для промышленных процессов нагрева, требующих экстремального тепла.

Ключевые моменты:

  1. Формирование защитного оксидного покрытия

    • При температуре 1200 °C на воздухе на SiC образуется слой оксида кремния, который защищает его от дальнейшего окисления.
    • Это покрытие повышает прочность и продлевает срок службы материала в высокотемпературных средах.
  2. Максимальная рабочая температура

    • SiC может выдерживать температуру до 1600°C благодаря прочной химической и термической стабильности.
    • За этим порогом риск деградации возрастает, хотя кратковременное воздействие может быть допустимым в контролируемых условиях.
  3. Термические свойства

    • Высокая теплопроводность:Эффективное распределение тепла сводит к минимуму появление горячих точек.
    • Низкое тепловое расширение:Уменьшает напряжение при резких изменениях температуры.
    • Исключительная устойчивость к тепловому удару:Решающее значение для приложений с резкими циклами нагрева и охлаждения.
  4. Характеристики SiC-нагревательного элемента

    • Оптимизирован для 1400°C-1600°C Эти элементы используют врожденные свойства SiC для стабильного и надежного нагрева.
    • Идеально подходят для печей, производства полупроводников и других высокотемпературных промышленных процессов.
  5. Практические соображения для покупателей

    • Чистота материала:Влияет на устойчивость к окислению и максимальную допустимую температуру.
    • Окружающая среда:Воздух и инертная атмосфера могут изменять предельные характеристики.
    • Конструкция нагрузки:Физические нагрузки (например, монтаж) влияют на долговечность при пиковых температурах.

Будет ли ваше применение связано с циклическим нагревом или непрерывной работой вблизи верхнего предела?Это может повлиять на выбор элементов и графики технического обслуживания.

Сводная таблица:

Свойства Характеристики SiC
Образование оксидного покрытия Образуется при 1200°C на воздухе, повышая долговечность.
Максимальная рабочая температура До 1600°C; возможно кратковременное воздействие сверх этого предела.
Теплопроводность Высокая, обеспечивающая эффективное распределение тепла.
Тепловое расширение Низкое, снижающее напряжение при перепадах температуры.
Устойчивость к тепловому удару Исключительная, идеально подходит для быстрых циклов нагрева/охлаждения.
Диапазон нагревательных элементов 1400°C-1600°C, оптимизированный для промышленных печей и полупроводниковых процессов.

Усовершенствуйте свои высокотемпературные процессы с помощью передовых решений KINTEK на основе SiC! Если вам нужны надежные нагревательные элементы или долговечные компоненты для экстремальных условий, наш опыт в области лабораторных и промышленных печей гарантирует оптимальную производительность. Свяжитесь с нами сегодня чтобы обсудить ваши конкретные требования и узнать, как наши изделия из SiC могут повысить эффективность вашей работы.

Связанные товары

Карбид кремния SiC термические нагревательные элементы для электрической печи

Карбид кремния SiC термические нагревательные элементы для электрической печи

Высокопроизводительные SiC-нагревательные элементы для лабораторий, обеспечивающие точность 600-1600°C, энергоэффективность и длительный срок службы. Возможны индивидуальные решения.

Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace

Лабораторная кварцевая трубчатая печь RTP Heating Tubular Furnace

Трубчатая печь быстрого нагрева RTP компании KINTEK обеспечивает точный контроль температуры, быстрый нагрев до 100°C/сек и разнообразные варианты атмосферы для передовых лабораторных применений.

Вращающаяся трубчатая печь с несколькими зонами нагрева

Вращающаяся трубчатая печь с несколькими зонами нагрева

Прецизионная ротационная трубчатая печь с несколькими зонами нагрева для высокотемпературной обработки материалов, с регулируемым наклоном, вращением на 360° и настраиваемыми зонами нагрева. Идеально подходит для лабораторий.

Вакуумная индукционная плавильная печь и дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная печь и дуговая плавильная печь

Ознакомьтесь с вакуумной индукционной плавильной печью KINTEK для обработки металлов высокой чистоты при температуре до 2000℃. Индивидуальные решения для аэрокосмической промышленности, сплавов и многого другого. Свяжитесь с нами сегодня!

Печь с управляемой атмосферой с сетчатым поясом Печь с инертной азотной атмосферой

Печь с управляемой атмосферой с сетчатым поясом Печь с инертной азотной атмосферой

Печь с сетчатым поясом KINTEK: высокопроизводительная печь с контролируемой атмосферой для спекания, закалки и термообработки. Настраиваемая, энергоэффективная, точный контроль температуры. Получите предложение прямо сейчас!

Изготовленная на заказ универсальная печь трубки CVD химическое осаждение паров CVD оборудование машина

Изготовленная на заказ универсальная печь трубки CVD химическое осаждение паров CVD оборудование машина

Трубчатая CVD-печь KINTEK обеспечивает точный контроль температуры до 1600°C, идеально подходящий для осаждения тонких пленок. Настраивается для исследовательских и промышленных нужд.

Машина печи трубки CVD с несколькими зонами нагрева для оборудования химического осаждения из паровой фазы

Машина печи трубки CVD с несколькими зонами нагрева для оборудования химического осаждения из паровой фазы

Многозональные трубчатые CVD-печи KINTEK обеспечивают точный контроль температуры для современного осаждения тонких пленок. Идеально подходят для исследований и производства, настраиваются под нужды вашей лаборатории.

Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины

Печь с разделенной камерой CVD трубки с вакуумной станцией CVD машины

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией - высокоточная лабораторная печь с температурой 1200°C для исследования современных материалов. Доступны индивидуальные решения.

Лабораторная вакуумная наклонная вращающаяся трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Лабораторная вакуумная наклонная вращающаяся трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Лабораторная ротационная печь KINTEK: прецизионный нагрев для прокаливания, сушки, спекания. Индивидуальные решения с вакуумом и контролируемой атмосферой. Расширьте возможности исследований прямо сейчас!

Вращающаяся трубчатая печь с вакуумным уплотнением непрерывного действия

Вращающаяся трубчатая печь с вакуумным уплотнением непрерывного действия

Прецизионная ротационная трубчатая печь для непрерывной вакуумной обработки. Идеально подходит для прокаливания, спекания и термообработки. Настраиваемая температура до 1600℃.

1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой

1700℃ Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь с кварцевой или глиноземной трубкой

Трубчатая печь KINTEK с алюминиевой трубкой: Прецизионный нагрев до 1700°C для синтеза материалов, CVD и спекания. Компактная, настраиваемая и готовая к работе в вакууме. Узнайте прямо сейчас!

Вакуумная печь горячего прессования машина нагретая вакуумная печь трубки прессования

Вакуумная печь горячего прессования машина нагретая вакуумная печь трубки прессования

Откройте для себя передовую вакуумную печь горячего прессования KINTEK для точного высокотемпературного спекания, горячего прессования и склеивания материалов. Индивидуальные решения для лабораторий.

1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой

1200℃ сплит трубчатая печь лабораторная кварцевая трубчатая печь с кварцевой трубкой

Откройте для себя печь KINTEK с разъемной трубкой 1200℃ с кварцевой трубкой для точных высокотемпературных лабораторных применений. Настраиваемая, долговечная и эффективная. Приобретайте прямо сейчас!

Электрическая вращающаяся печь Малая вращающаяся печь Пиролиз биомассы Завод Вращающаяся печь

Электрическая вращающаяся печь Малая вращающаяся печь Пиролиз биомассы Завод Вращающаяся печь

Роторная печь для пиролиза биомассы KINTEK эффективно преобразует биомассу в биосахар, биомасло и сингаз. Настраиваемая для исследований или производства. Получите свое решение прямо сейчас!

Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина

Слайд PECVD трубчатая печь с жидким газификатором PECVD машина

Трубчатая печь KINTEK Slide PECVD: прецизионное осаждение тонких пленок с помощью радиочастотной плазмы, быстрая термоциклическая обработка и настраиваемый контроль газа. Идеально подходит для полупроводников и солнечных батарей.

Искровое плазменное спекание SPS-печь

Искровое плазменное спекание SPS-печь

Откройте для себя передовую печь для искрового плазменного спекания (SPS) компании KINTEK для быстрой и точной обработки материалов. Настраиваемые решения для исследований и производства.

Электрическая роторная печь для регенерации активированного угля

Электрическая роторная печь для регенерации активированного угля

Электрическая печь для регенерации активированного угля от KINTEK: высокоэффективная, автоматизированная вращающаяся печь для устойчивого восстановления углерода. Минимизируйте отходы, максимизируйте экономию. Получите предложение!

1700℃ высокотемпературная муфельная печь для лаборатории

1700℃ высокотемпературная муфельная печь для лаборатории

Муфельная печь KT-17M: высокоточная лабораторная печь с температурой 1700°C с ПИД-регулированием, энергоэффективностью и настраиваемыми размерами для промышленного и исследовательского применения.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы

Система KINTEK RF PECVD: Прецизионное осаждение тонких пленок для полупроводников, оптики и МЭМС. Автоматизированный низкотемпературный процесс с превосходным качеством пленки. Возможны индивидуальные решения.

1200℃ муфельная печь для лаборатории

1200℃ муфельная печь для лаборатории

Муфельная печь KINTEK KT-12M: прецизионный нагрев до 1200°C с ПИД-регулированием. Идеально подходит для лабораторий, нуждающихся в быстром и равномерном нагреве. Изучите модели и варианты настройки.


Оставьте ваше сообщение